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1. 发明专利

TW200937135A 圖案描繪裝置及圖案描繪方法 PATTERN DRAWING APPARATUS AND PATTERN DRAWING METHOD 审中-公开
简体标题：图案描绘设备及图案描绘方法 PATTERN DRAWING APPARATUS AND PATTERN DRAWING METHOD
公开(公告)号：TW200937135A
公开(公告)日：2009-09-01
申请号：TW097145261
申请日：2008-11-21
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：井上正雄 INOUE, MASAO , 小八木康幸 KOYAGI, YASUYUKI
IPC分类号： G03F , H01L
摘要：本發明之目的在於:即便在將具有複數個描繪對象區域之基板作為對象時亦能減少曝光掃描之次數,又,本發明之目的在於:在感光材料上簡易地描繪複數種類之規則性圖案或幅寬。當曝光頭30a~30d分別自第1掃描區域As1至第4掃描區域As4進行曝光掃描時,預先於光罩上形成具有對照各掃描區域內之描繪對象區域之寬度各個之寬度的單位圖案群SLG。其結果,即便於一個掃描區域As內包含一個描繪對象區域At之一部分時,亦無需如先前般使用各種各樣的機構來進行調整,又,即便於一個掃描區域內包含相鄰之兩個描繪對象區域各自之一部分(即一個掃描區域內包含整個間隙區域)時,亦無需對同一掃描區域進行兩次曝光掃描。
简体摘要：本发明之目的在于:即便在将具有复数个描绘对象区域之基板作为对象时亦能减少曝光扫描之次数,又,本发明之目的在于:在感光材料上简易地描绘复数种类之守则性图案或幅宽。当曝光头30a~30d分别自第1扫描区域As1至第4扫描区域As4进行曝光扫描时,预先于光罩上形成具有对照各扫描区域内之描绘对象区域之宽度各个之宽度的单位图案群SLG。其结果,即便于一个扫描区域As内包含一个描绘对象区域At之一部分时,亦无需如先前般使用各种各样的机构来进行调整,又,即便于一个扫描区域内包含相邻之两个描绘对象区域各自之一部分(即一个扫描区域内包含整个间隙区域)时,亦无需对同一扫描区域进行两次曝光扫描。

2. 发明专利

TW200938466A 基板搬送裝置及基板處理裝置 SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS 失效
简体标题：基板搬送设备及基板处理设备 SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
公开(公告)号：TW200938466A
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：TW097148255
申请日：2008-12-11
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：原田明 HARADA, AKIRA
IPC分类号： B65G , H01L
摘要：本發明之目的在於提供一種無須延長裝置尺寸,而可高效率地於中途改變基板之搬送速度的搬送技術。當越過串列配置之兩個搬送機構的邊界而搬送基板時,於包含基板90在該邊界上移動並進行接收之接收期間(時間T15~時間T16)的時段(時間T11~時間T12)中,進行使兩個搬送機構之搬送速度整合且減速的同步控制。藉由使該減速過程中之時間-速度的關係成為S字曲線,可防止施加於基板90上之加速度的急遽變化。又,藉由將接收期間用作減速期間,從而,與在此之前完成減速、或在基板接收後開始減速之情形相比,其搬送效率可更高。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种无须延长设备尺寸,而可高效率地于中途改变基板之搬送速度的搬送技术。当越过串行配置之两个搬送机构的边界而搬送基板时,于包含基板90在该边界上移动并进行接收之接收期间(时间T15~时间T16)的时段(时间T11~时间T12)中,进行使两个搬送机构之搬送速度集成且减速的同步控制。借由使该减速过程中之时间-速度的关系成为S字曲线,可防止施加于基板90上之加速度的急遽变化。又,借由将接收期间用作减速期间,从而,与在此之前完成减速、或在基板接收后开始减速之情形相比,其搬送效率可更高。

3. 发明专利

TW200926302A 熱處理裝置 HEAT TREATMENT APPARATUS 审中-公开
简体标题：热处理设备 HEAT TREATMENT APPARATUS
公开(公告)号：TW200926302A
公开(公告)日：2009-06-16
申请号：TW097129396
申请日：2008-08-01
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：楠田達文 KUSUDA, TATSUFUMI
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H05B1/0227 , H01L21/26 , H01L21/67115 , H01L21/68742 , H01L21/68785 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：本發明提供一種可自由設定退火時之退火時間及溫度分佈之熱處理裝置。串聯連接電容器93、線圈94、閃光燈FL、IGBT等之開關元件96。可由控制部3將脈衝信號輸出至開關元件96之閘極。脈衝信號之波形係波形設定部32依據來自輸入部33之輸入內容加以設定。在電荷儲存於電容器93之狀態下,將脈衝信號輸出至開關元件96之閘極,藉以間歇地使閃光燈FL發光。變更施加至開關元件96之脈衝信號之波形,藉此流至閃光燈FL之電流波形變化而發光態樣也變化,且半導體晶圓之溫度分佈也變化。
简体摘要：本发明提供一种可自由设置退火时之退火时间及温度分布之热处理设备。串联连接电容器93、线圈94、闪光灯FL、IGBT等之开关组件96。可由控制部3将脉冲信号输出至开关组件96之闸极。脉冲信号之波形系波形设置部32依据来自输入部33之输入内容加以设置。在电荷存储于电容器93之状态下,将脉冲信号输出至开关组件96之闸极,借以间歇地使闪光灯FL发光。变更施加至开关组件96之脉冲信号之波形,借此流至闪光灯FL之电流波形变化而发光态样也变化,且半导体晶圆之温度分布也变化。

4. 发明专利

TW200919615A 基板冷卻方法及基板冷卻裝置审中-公开
简体标题：基板冷却方法及基板冷却设备
公开(公告)号：TW200919615A
公开(公告)日：2009-05-01
申请号：TW097131017
申请日：2008-08-14
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：柿村崇 KAKIMURA, TAKASHI
IPC分类号： H01L
摘要：本發明提供一種基板冷卻方法及基板冷卻裝置,於藉由搬送輥來搬送基板之同時,價格更低廉且高效地冷卻基板。冷卻處理部1C構成為於藉由搬送輥14來搬送加熱處理後之基板S之同時,藉由該搬送輥14來冷卻基板S。亦即,於藉由搬送輥14來搬送基板S之同時,藉由噴嘴26將常溫之冷卻水噴灑至搬送輥14之內部,藉由上述搬送輥14所具有之熱量而使該冷卻水氣化(蒸發)並排出至外部,藉此冷卻搬送輥14,從而冷卻基板S。
简体摘要：本发明提供一种基板冷却方法及基板冷却设备,于借由搬送辊来搬送基板之同时,价格更低廉且高效地冷却基板。冷却处理部1C构成为于借由搬送辊14来搬送加热处理后之基板S之同时,借由该搬送辊14来冷却基板S。亦即,于借由搬送辊14来搬送基板S之同时,借由喷嘴26将常温之冷却水喷洒至搬送辊14之内部,借由上述搬送辊14所具有之热量而使该冷却水汽化(蒸发)并排出至外部,借此冷却搬送辊14,从而冷却基板S。

5. 发明专利

TW200937557A 基板處理裝置失效
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW200937557A
公开(公告)日：2009-09-01
申请号：TW097139748
申请日：2008-10-16
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：富藤幸雄 TOMIFUJI, YUKIO
IPC分类号： H01L
摘要：本發明提供一種基板處理裝置,該基板處理裝置能夠抑制在基板到達特定之液體供給位置以前霧狀之處理液附著至基板上,籍此提高基板之品質。基板處理裝置(1)具有處理室(10),且構成為一邊在該處理室(10)內搬送基板(S),一邊對該基板(S)供給沖洗液進行清洗處理。在處理室(10)內設有:液體刀(16),其遍及所搬入之基板(S)上表面之整個寬度,自搬送方向上游側朝向下游側相對於垂直方向傾斜地噴出沖洗液;以及遮蔽板(17),其配置於較該液體刀(16)噴出之沖洗液的軌跡上游側之位置且位於基板(S)搬送路徑之下方之位置,防止霧狀處理液向上述搬送方向上游側擴散。
简体摘要：本发明提供一种基板处理设备,该基板处理设备能够抑制在基板到达特定之液体供给位置以前雾状之处理液附着至基板上,籍此提高基板之品质。基板处理设备(1)具有处理室(10),且构成为一边在该处理室(10)内搬送基板(S),一边对该基板(S)供给冲洗液进行清洗处理。在处理室(10)内设有:液体刀(16),其遍及所搬入之基板(S)上表面之整个宽度,自搬送方向上游侧朝向下游侧相对于垂直方向倾斜地喷出冲洗液;以及屏蔽板(17),其配置于较该液体刀(16)喷出之冲洗液的轨迹上游侧之位置且位于基板(S)搬送路径之下方之位置,防止雾状处理液向上述搬送方向上游侧扩散。

6. 发明专利

TW200929342A 基板處理方法及基板處理裝置 SUBSTRATE TREATMENT METHOD AND SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS 审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理设备 SUBSTRATE TREATMENT METHOD AND SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS
公开(公告)号：TW200929342A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：TW097139689
申请日：2008-10-16
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：內田博章 HIROAKI UCHIDA , 前川直嗣 TADASHI MAEGAWA , 阿野誠士 SEIJI ANO
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/6708 , H01L21/67051
摘要：本發明之基板處理方法,係在基板處理裝置實行者,該基板處理裝置具有板構件,其具有隔著間隔和基板之一面相對向之對向面,並利用處理液對基板施加處理;該基板處理方法包含有:前供給液填滿液體步驟,將具有對上述基板和上述板構件之接觸角小於上述處理液對上述基板和和上述板構件之接觸角之前供給液,經由和基板之中心相對向而形成在上述對向面之吐出口,供給到基板之一面和上述板構件之間,並利用前供給液使基板之一面和上述板構件之間之空間成為填滿液體狀態;處理液替換步驟,在利用前供給液使上述空間成為填滿液體狀態後,將處理液供給到基板之一面和上述板構件之間,藉以使該空間內維持在填滿液體狀態,同時並將該空間內之前供給液替換成為處理液;和處理液接觸步驟,在前供給液之替換後,利用處理液使上述空間成為填滿液體狀態,而使該處理液接觸在基板之一面。
简体摘要：本发明之基板处理方法,系在基板处理设备实行者,该基板处理设备具有板构件,其具有隔着间隔和基板之一面相对向之对向面,并利用处理液对基板施加处理;该基板处理方法包含有:前供给液填满液体步骤,将具有对上述基板和上述板构件之接触角小于上述处理液对上述基板和和上述板构件之接触角之前供给液,经由和基板之中心相对向而形成在上述对向面之吐出口,供给到基板之一面和上述板构件之间,并利用前供给液使基板之一面和上述板构件之间之空间成为填满液体状态;处理液替换步骤,在利用前供给液使上述空间成为填满液体状态后,将处理液供给到基板之一面和上述板构件之间,借以使该空间内维持在填满液体状态,同时并将该空间内之前供给液替换成为处理液;和处理液接触步骤,在前供给液之替换后,利用处理液使上述空间成为填满液体状态,而使该处理液接触在基板之一面。

7. 发明专利

TW200926342A 對準標記之形成裝置失效
简体标题：对准标记之形成设备
公开(公告)号：TW200926342A
公开(公告)日：2009-06-16
申请号：TW097135319
申请日：2008-09-15
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：原望 NOZOMU HARA , 城田浩行 HIROYUKI SHIROTA , 中島直人 NAOTO NAKASHIMA
IPC分类号： H01L , G02F , B41J , G03F
摘要：本發明提供一種對準標記形成裝置,其雖為簡易之構成,不使用貫通孔即可進行形成於基板兩面上的圖案之定位。對準標記形成裝置10具備用以載置基板之平台11、用以將載置於該平台11上之基板進行定位之3個定位銷21、3個對準標記形成部51及傾斜板12。對準標記形成部51具備一對曝光部,該一對曝光部在載置於平台11上之基板表面側與背面側分別配設於同軸上。該一對曝光部藉由對基板之非有效區域照射UV光而形成對準標記。
简体摘要：本发明提供一种对准标记形成设备,其虽为简易之构成,不使用贯通孔即可进行形成于基板两面上的图案之定位。对准标记形成设备10具备用以载置基板之平台11、用以将载置于该平台11上之基板进行定位之3个定位销21、3个对准标记形成部51及倾斜板12。对准标记形成部51具备一对曝光部,该一对曝光部在载置于平台11上之基板表面侧与背面侧分别配设于同轴上。该一对曝光部借由对基板之非有效区域照射UV光而形成对准标记。

8. 发明专利

TW200912581A 基板處理裝置之排程作成方法及其資訊記錄媒體 SCHEDULING METHOD AND INFORMATION RECORDING MEDIA FOR A SUBSTRATE TREATING APPARATUS 审中-公开
简体标题：基板处理设备之调度作成方法及其信息记录媒体 SCHEDULING METHOD AND INFORMATION RECORDING MEDIA FOR A SUBSTRATE TREATING APPARATUS
公开(公告)号：TW200912581A
公开(公告)日：2009-03-16
申请号：TW097126028
申请日：2008-07-10
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：山本真弘 MASAHIRO YAMAMOTO , 山田大吾 DAIGO YAMADA
IPC分类号： G05B
CPC分类号： Y02P90/02
摘要：一種基板處理裝置之排程作成方法,係當利用具備有多個對基板施加處理用之處理部的基板處理裝置來處理多個批次時,控制部根據包含多個處理步驟之處理順序,決定各個批次之處理順序,用來以各個處理部順序地處理各個批次;上述方法包含有以下之步驟。上述控制部實行將:基本配置方法,根據表示與各個批次之各個處理步驟的處理順序對應組合之系譜圖,在對任一批次配置最初處理步驟之後,以上述處理步驟作為基點,依照上述系譜圖,從各個批次之下個之處理步驟中,探索並配置對各個前之處理步驟中預定完成時刻最早之批次的處理步驟作為下一個之處理步驟;和第1配置方法,根據上述基本配置方法配置處理步驟,同時當上述處理步驟所產生之等待時間超過處理部中可等待之容許時間之情況時,迴避該處理步驟之配置,同時從該處理步驟上游之分支點之前一個分支點再度開始探索;實行而作成多個排程之步驟;及作成上述多個排程,同時選擇其中排程在規定時間內完成之一個排程之步驟。
简体摘要：一种基板处理设备之调度作成方法,系当利用具备有多个对基板施加处理用之处理部的基板处理设备来处理多个批次时,控制部根据包含多个处理步骤之处理顺序,决定各个批次之处理顺序,用来以各个处理部顺序地处理各个批次;上述方法包含有以下之步骤。上述控制部实行将:基本配置方法,根据表示与各个批次之各个处理步骤的处理顺序对应组合之系谱图,在对任一批次配置最初处理步骤之后,以上述处理步骤作为基点,依照上述系谱图,从各个批次之下个之处理步骤中,探索并配置对各个前之处理步骤中预定完成时刻最早之批次的处理步骤作为下一个之处理步骤;和第1配置方法,根据上述基本配置方法配置处理步骤,同时当上述处理步骤所产生之等待时间超过处理部中可等待之容许时间之情况时,回避该处理步骤之配置,同时从该处理步骤上游之分支点之前一个分支点再度开始探索;实行而作成多个调度之步骤;及作成上述多个调度,同时选择其中调度在规定时间内完成之一个调度之步骤。

9. 发明专利

TW200911389A 噴嘴保管裝置及塗布裝置审中-公开
简体标题：喷嘴保管设备及涂布设备
公开(公告)号：TW200911389A
公开(公告)日：2009-03-16
申请号：TW097125545
申请日：2008-07-07
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：相良秀一 SHUICHI SAGARA , 增市幹雄 MIKIO MASUICHI , 高村幸宏 YUKIHIRO TAKAMURA , 川越理史 MASAFUMI KAWAGOE , 松家毅 TSUYOSHI MATSUKA
IPC分类号： B05C , H05B
摘要：本發明的噴嘴保管裝置將從吐出口中朝下方吐出吐出液的噴嘴進行保管。噴嘴保管裝置係具備有:突起構件、供應配管、儲存機構、及洗淨液供應手段。突起構件係配置於設置供應口的上面對向於噴嘴吐出口的位置處。供應配管從供應洗淨液的供應源連通至供應口。儲存機構連接於供應配管,可在較突起構件上面更靠上方處儲存洗淨液。洗淨液供應手段以突起構件的上面上裝盛有洗淨液之狀態下,且儲存機構儲存有洗淨液之狀態方式,從供應源供應洗淨液。
简体摘要：本发明的喷嘴保管设备将从吐出口中朝下方吐出吐出液的喷嘴进行保管。喷嘴保管设备系具备有:突起构件、供应配管、存储机构、及洗净液供应手段。突起构件系配置于设置供应口的上面对向于喷嘴吐出口的位置处。供应配管从供应洗净液的供应源连通至供应口。存储机构连接于供应配管,可在较突起构件上面更靠上方处存储洗净液。洗净液供应手段以突起构件的上面上装盛有洗净液之状态下,且存储机构存储有洗净液之状态方式,从供应源供应洗净液。

10. 发明专利

TW200939383A 基板處理裝置及基板處理方法 SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS, AND SUBSTRATE TREATMENT METHOD 审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法 SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS, AND SUBSTRATE TREATMENT METHOD
公开(公告)号：TW200939383A
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：TW098102857
申请日：2009-01-23
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：灘和成 NADA, KAZUNARI , 新居健一郎 ARAI, KENICHIRO
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/6708 , B05C5/0254 , B05C11/04 , B05C11/08 , G03F1/80
摘要：本發明之基板處理裝置係包含:基板保持機構,用以保持基板;噴嘴體,具有用以朝向由上述基板保持機構所保持的基板之主表面噴出蝕刻液之噴出口;噴嘴體移動機構,使上述噴嘴體朝向既定之行進方向移動,以使上述主表面中蝕刻液之液體附著位置移動;第1片材,為安裝於上述噴嘴體之可撓性片材,與比上述主表面中蝕刻液之液體附著位置更靠近上述行進方向一側之區域相接觸;以及第2片材,為安裝於上述噴嘴體之可撓性片材,從上述主表面中蝕刻液之液體附著位置觀看而與上述行進方向一側相反之行進方向另一側區域相接觸。
简体摘要：本发明之基板处理设备系包含:基板保持机构,用以保持基板;喷嘴体,具有用以朝向由上述基板保持机构所保持的基板之主表面喷出蚀刻液之喷出口;喷嘴体移动机构,使上述喷嘴体朝向既定之行进方向移动,以使上述主表面中蚀刻液之液体附着位置移动;第1片材,为安装于上述喷嘴体之可挠性片材,与比上述主表面中蚀刻液之液体附着位置更靠近上述行进方向一侧之区域相接触;以及第2片材,为安装于上述喷嘴体之可挠性片材,从上述主表面中蚀刻液之液体附着位置观看而与上述行进方向一侧相反之行进方向另一侧区域相接触。

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