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1. 发明专利

TW200930695A 雙三羥甲基丙烷之製造方法审中-公开
简体标题：双三羟甲基丙烷之制造方法
公开(公告)号：TW200930695A
公开(公告)日：2009-07-16
申请号：TW097141512
申请日：2008-10-29
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：渡邊將史 WATANABE, MASAFUMI
IPC分类号： C07C
CPC分类号： C07C29/38 , C07C29/80 , C07C41/01 , C07C43/132 , C07C31/22
摘要：提供一種高效率製造二-三羥甲基丙烷之製造方法,其係在鹼性催化劑的存在下,使正丁醛與甲醛反應而同時製造三羥甲基丙烷與二-三羥甲基丙烷之方法,其係藉由具有(I)在鹼性催化劑(1)的存在下,使正丁醛與甲醛(1)反應,而得到含有三羥甲基丙烷、二-三羥甲基丙烷及2-乙基-2-丙烯醛的反應混合液之步驟,(II)蒸餾所得之反應混合液而回收2-乙基-2-丙烯醛之步驟,及(III)於經回收2-乙基-2-丙烯醛後的蒸餾殘留液中,添加被回收的2-乙基-2-丙烯醛及甲醛(2)、或進一步添加鹼性催化劑(2),以進行二-三羥甲基丙烷的生成反應之步驟,使步驟I及步驟II的甲醛及鹼性催化劑成為特定的供給量。依照本發明,di-TMP收率係顯著上升,而且相對於目的之di-TMP的生成量而言,可大幅削減bis-TMP的副產量,故可高效率地在工業上有利地製造di-TMP。
简体摘要：提供一种高效率制造二-三羟甲基丙烷之制造方法,其系在碱性催化剂的存在下,使正丁醛与甲醛反应而同时制造三羟甲基丙烷与二-三羟甲基丙烷之方法,其系借由具有(I)在碱性催化剂(1)的存在下,使正丁醛与甲醛(1)反应,而得到含有三羟甲基丙烷、二-三羟甲基丙烷及2-乙基-2-丙烯醛的反应混合液之步骤,(II)蒸馏所得之反应混合液而回收2-乙基-2-丙烯醛之步骤,及(III)于经回收2-乙基-2-丙烯醛后的蒸馏残留液中,添加被回收的2-乙基-2-丙烯醛及甲醛(2)、或进一步添加碱性催化剂(2),以进行二-三羟甲基丙烷的生成反应之步骤,使步骤I及步骤II的甲醛及碱性催化剂成为特定的供给量。依照本发明,di-TMP收率系显着上升,而且相对于目的之di-TMP的生成量而言,可大幅削减bis-TMP的副产量,故可高效率地在工业上有利地制造di-TMP。

2. 发明专利

TW200902074A 漂白牙齒之材料及漂白牙齒之方法 A MATERIAL FOR BLEACHING TEETH AND A PROCESS FOR BLEACHING TEETH 审中-公开
简体标题：漂白牙齿之材料及漂白牙齿之方法 A MATERIAL FOR BLEACHING TEETH AND A PROCESS FOR BLEACHING TEETH
公开(公告)号：TW200902074A
公开(公告)日：2009-01-16
申请号：TW097109822
申请日：2008-03-20
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：倉田浩志 KURATA, HIROSHI , 熊谷雪 KUMAGAI, YUKI , 君塚健一 KIMIZUKA, KENICHI , 近藤至德 KONDO, YOSHINORI , 川端康成 KAWABATA, YASUNARI
IPC分类号： A61K , A61Q
CPC分类号： A61Q11/00 , A61K8/362 , A61K8/4973 , A61K8/498
摘要：本發明係關於配合過氧化氫及/或於水溶液中產生過氧化氫的化合物以及二羧酸酐,進一步含有鹼性化合物、增黏劑之漂白牙齒之材料,及使漂白牙齒之材料稀釋或未稀釋黏著於變色牙齒表面,再進行光照射之漂白牙齒之方法,藉此,漂白、去除沉積於牙齒的色素(著色、變色),提供一種安全又使用方法佳,且漂白效果高的漂白牙齒之材料及使用該漂白牙齒的材料之漂白牙齒的方法。
简体摘要：本发明系关于配合过氧化氢及/或于水溶液中产生过氧化氢的化合物以及二羧酸酐,进一步含有碱性化合物、增黏剂之漂白牙齿之材料,及使漂白牙齿之材料稀释或未稀释黏着于变色牙齿表面,再进行光照射之漂白牙齿之方法,借此,漂白、去除沉积于牙齿的色素(着色、变色),提供一种安全又使用方法佳,且漂白效果高的漂白牙齿之材料及使用该漂白牙齿的材料之漂白牙齿的方法。

3. 发明专利

TW200848556A 含有鎂之氧化鋅系混晶單結晶、其積層體及該等之製造方法 SINGLE CRYSTAL OF ZnO MIXED CRYSTAL CONTAINING Mg, LAMINATED BODY THEREOF AND METHOD FOR MANUFACTURING THEM 审中-公开
简体标题：含有镁之氧化锌系混晶单结晶、其积层体及该等之制造方法 SINGLE CRYSTAL OF ZnO MIXED CRYSTAL CONTAINING Mg, LAMINATED BODY THEREOF AND METHOD FOR MANUFACTURING THEM
公开(公告)号：TW200848556A
公开(公告)日：2008-12-16
申请号：TW097108461
申请日：2008-03-11
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. , 獨立行政法人物質材料研究機構 NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE
发明人：關和秀幸 SEKIWA, HIDEYUKI , 小林純 KOBAYASHI, JUN , 大橋直樹 OHASHI, NAOKI , 口勳 SAKAGUCHI, ISAO
IPC分类号： C30B , H01L
CPC分类号： C30B29/16 , C30B19/02 , H01L21/02403 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L21/02625 , H01L21/02628 , H01L33/285 , Y10T428/26
摘要：本發明提供一種含有鎂之氧化鋅系混晶單結晶,其係具有包含帶隙(Eg)為3.30
简体摘要：本发明提供一种含有镁之氧化锌系混晶单结晶,其系具有包含带隙(Eg)为3.30

4. 发明专利

TW200813217A 保存安定性優異之含有S-腺-L-甲硫胺酸之乾燥酵母之製造方法、其製造物及經口攝取用組成物 A PROCESS FOR PREPARENG AN EXCELLENT PRESERVATIVE STABILITY BY YEAST CONTAINING S-ADENOSYL-L-METHIONINE, THE PRODUCT THEREOF AND THE ORAL COMPOSITION 审中-公开
简体标题：保存安定性优异之含有S-腺-L-甲硫胺酸之干燥酵母之制造方法、其制造物及经口摄取用组成物 A PROCESS FOR PREPARENG AN EXCELLENT PRESERVATIVE STABILITY BY YEAST CONTAINING S-ADENOSYL-L-METHIONINE, THE PRODUCT THEREOF AND THE ORAL COMPOSITION
公开(公告)号：TW200813217A
公开(公告)日：2008-03-16
申请号：TW096117323
申请日：2007-05-16
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：高野健太郎 TAKANO, KENTAROU , 莪山真與 GAYAMA, SHINYO
IPC分类号： C12N , C12P , A61K
CPC分类号： C12N1/18 , A61K9/1617 , A61K9/19 , C07H19/167 , C12N1/04 , C12P19/40
摘要：使用具有S-腺-L-甲硫胺酸產能之酵母來製造含有S-腺-L-甲硫胺酸之乾燥酵母之方法中,以於酵母之菌體培養液分離之酵母菌體濃縮物添加抗壞血酸類或其鹽後,將該濃縮物乾燥為特徵之含有S-腺-L-甲硫胺酸之乾燥酵母之製造方法,用由該製造方法所得含有SAMe乾燥酵母,及將該乾燥酵母成型之經口攝取用組成物。確立將高濃度含有SAMe之保存安定性優異之含有SAMe乾燥酵母以低成本簡便製造之方法,並提供依該製造方法所得含有SAMe乾燥酵母及用該乾燥酵母成型之經口攝取用組成物。
简体摘要：使用具有S-腺-L-甲硫胺酸产能之酵母来制造含有S-腺-L-甲硫胺酸之干燥酵母之方法中,以于酵母之菌体培养液分离之酵母菌体浓缩物添加抗坏血酸类或其盐后,将该浓缩物干燥为特征之含有S-腺-L-甲硫胺酸之干燥酵母之制造方法,用由该制造方法所得含有SAMe干燥酵母,及将该干燥酵母成型之经口摄取用组成物。确立将高浓度含有SAMe之保存安定性优异之含有SAMe干燥酵母以低成本简便制造之方法,并提供依该制造方法所得含有SAMe干燥酵母及用该干燥酵母成型之经口摄取用组成物。

5. 发明专利

TW200811287A 含有S-腺- L-甲硫胺酸之乾燥酵母之製造方法及經口攝取用組成物 A PROCESS FOR PREPARING DRY YEAST CONTAINING S-APENOSYL-L-METHIONINE AND AN ORAL COMPOSITION 审中-公开
简体标题：含有S-腺- L-甲硫胺酸之干燥酵母之制造方法及经口摄取用组成物 A PROCESS FOR PREPARING DRY YEAST CONTAINING S-APENOSYL-L-METHIONINE AND AN ORAL COMPOSITION
公开(公告)号：TW200811287A
公开(公告)日：2008-03-01
申请号：TW096116427
申请日：2007-05-09
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY INC., , 田邊製藥股份有限公司 TANABE SEIYAKU CO., LTD.,
发明人：高野健太郎 TAKANO, KENTAROU , 莪山真與 GAYAMA, SHINYO , 土田敏人 TSUCHIDA, TOSHITO
IPC分类号： C12N , C12P , A23L
CPC分类号： A61K36/06 , A23L33/14 , A23L33/175 , C12N1/16 , C12P19/40
摘要：使用具有S-腺-L-甲硫胺酸產能之酵母來製造含有S-腺-L-甲硫胺酸之乾燥酵母之方法中,令由酵母之菌體培養液分離之酵母菌體濃縮物施行:(1)添加礦酸來調整pH為1-5之處理,及(2)加熱為40℃-85℃之處理之至少任一方之處理後,予以乾燥之含有S-腺-L-甲硫胺酸之乾燥酵母之製造方法,及由該製造方法所得乾燥酵母予以成型而成之經口攝取用組成物。提供作為水溶性生理活性物質有用之S-腺-L-甲硫胺酸之高濃度含有之乾燥酵母菌體並以低成本而高產率且簡便地製造之方法,及令由該製造方法所得乾燥酵母予以成型而成之經口攝取用組成物。
简体摘要：使用具有S-腺-L-甲硫胺酸产能之酵母来制造含有S-腺-L-甲硫胺酸之干燥酵母之方法中,令由酵母之菌体培养液分离之酵母菌体浓缩物施行:(1)添加矿酸来调整pH为1-5之处理,及(2)加热为40℃-85℃之处理之至少任一方之处理后,予以干燥之含有S-腺-L-甲硫胺酸之干燥酵母之制造方法,及由该制造方法所得干燥酵母予以成型而成之经口摄取用组成物。提供作为水溶性生理活性物质有用之S-腺-L-甲硫胺酸之高浓度含有之干燥酵母菌体并以低成本而高产率且简便地制造之方法,及令由该制造方法所得干燥酵母予以成型而成之经口摄取用组成物。

6. 发明专利

TW200809435A 電子照相感光體审中-公开
简体标题：电子照相感光体
公开(公告)号：TW200809435A
公开(公告)日：2008-02-16
申请号：TW096116694
申请日：2007-05-10
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：安達高廣 ADACHI, TAKAHIRO
IPC分类号： G03G
CPC分类号： G03G5/0564 , G03G5/0592 , G03G5/0596
摘要：本發明為具有將人體來源物質之耐污染性提昇的高畫像穩定性之電子照相感光體,其特徵為導電性基體上具有感光層之電子照相感光體中,作為該感光層之黏合劑樹脂,具有下述式(A)及下述式(B)(R1~R4為氫原子、甲基等,X為烯烴基等)所示之構成單位,式(A)之構成單位係為全構成單位中之3~50重量%,且含有極限黏度為0.3~2dl/g之聚碳酸酯樹脂之電子照相感光體。【【化1】】
简体摘要：本发明为具有将人体来源物质之耐污染性提升的高画像稳定性之电子照相感光体,其特征为导电性基体上具有感光层之电子照相感光体中,作为该感光层之黏合剂树脂,具有下述式(A)及下述式(B)(R1~R4为氢原子、甲基等,X为烯烃基等)所示之构成单位,式(A)之构成单位系为全构成单位中之3~50重量%,且含有极限黏度为0.3~2dl/g之聚碳酸酯树脂之电子照相感光体。【【化1】】

7. 发明专利

TW200806778A 蝕刻組成物及蝕刻方法 ETCHING COMPOSITION AND ETCHING PROCESS 审中-公开
简体标题：蚀刻组成物及蚀刻方法 ETCHING COMPOSITION AND ETCHING PROCESS
公开(公告)号：TW200806778A
公开(公告)日：2008-02-01
申请号：TW096118510
申请日：2007-05-24
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：松原將英 MATSUBARA, MASAHIDE , 丸山岳人 MARUYAMA, TAKETO
IPC分类号： C09K , H01L
CPC分类号： C09K13/00
摘要：一種蝕刻組成物,其含有由乙酸、丙酸、丁酸、丁二酸、檸檬酸、乳酸、蘋果酸、酒石酸、丙二酸、順丁烯二酸、戊二酸、烏頭酸、1,2,3-丙三羧酸及此等之銨鹽所組成的群組中所選出之1種以上的有機羧酸化合物;聚磺酸化合物;及水。一種蝕刻方法,其藉由該蝕刻組成物而蝕刻以氧化鋅為主要成分之導電膜。
简体摘要：一种蚀刻组成物,其含有由乙酸、丙酸、丁酸、丁二酸、柠檬酸、乳酸、苹果酸、酒石酸、丙二酸、顺丁烯二酸、戊二酸、乌头酸、1,2,3-丙三羧酸及此等之铵盐所组成的群组中所选出之1种以上的有机羧酸化合物;聚磺酸化合物;及水。一种蚀刻方法,其借由该蚀刻组成物而蚀刻以氧化锌为主要成分之导电膜。

8. 发明专利

TW200800856A 伸茬二胺之製法 METHOD OF PRODUCING XYLYLENEDIAMINE 审中-公开
简体标题：伸茬二胺之制法 METHOD OF PRODUCING XYLYLENEDIAMINE
公开(公告)号：TW200800856A
公开(公告)日：2008-01-01
申请号：TW096117778
申请日：2007-05-18
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：菅原朋宏 SUGAWARA, TOMOHIRO , 阿部崇文 ABE, TAKAFUMI , 熊野達之 KUMANO, TATSUYUKI , 加藤金司 KATO, KINJI
IPC分类号： C07C
CPC分类号： C07C209/48 , C07C211/27
摘要：本發明之伸茬基二胺的製法係依序含有以下步驟:對由苯二甲類、與液態氨、或與液態氨及有機溶劑構成之混合液實施第1接觸氫化處理,將前述苯二甲類氫化而得到反應生成物(A)之步驟,其中混合液之前述液態氨或液態氨及有機溶劑之含量為80重量%以上;將反應生成物(A)中之液態氨除去而得到反應生成物(B)之步驟;對反應生成物(B)實施第2接觸氫化處理,將氰基胺氫化而得到反應生成物(C)之步驟;與將反應生成物(C)蒸餾,精製伸茬基二胺之步驟。
简体摘要：本发明之伸茬基二胺的制法系依序含有以下步骤:对由苯二甲类、与液态氨、或与液态氨及有机溶剂构成之混合液实施第1接触氢化处理,将前述苯二甲类氢化而得到反应生成物(A)之步骤,其中混合液之前述液态氨或液态氨及有机溶剂之含量为80重量%以上;将反应生成物(A)中之液态氨除去而得到反应生成物(B)之步骤;对反应生成物(B)实施第2接触氢化处理,将氰基胺氢化而得到反应生成物(C)之步骤;与将反应生成物(C)蒸馏,精制伸茬基二胺之步骤。

9. 发明专利

TW200744947A 包含動作溶液之再生步驟的過氧化氫之製造方法 METHOD FOR PRODUCING HYDROGEN PEROXIDE INCLUDING RECOVERY STEP OF ACTIVATING SOLUTION 审中-公开
简体标题：包含动作溶液之再生步骤的过氧化氢之制造方法 METHOD FOR PRODUCING HYDROGEN PEROXIDE INCLUDING RECOVERY STEP OF ACTIVATING SOLUTION
公开(公告)号：TW200744947A
公开(公告)日：2007-12-16
申请号：TW096111191
申请日：2007-03-30
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人： 谷久 SAKAITANI, HISASHI , 井浦克弘 IURA KATSUHIRO , 荻原佐夫 HAGIWARA, ISAO , 松井勉 MATSUI TSUTOMU , 北田大介 KITADA, DAISUKE
IPC分类号： C01B
CPC分类号： C01B15/023 , B01J21/04 , B01J21/12
摘要：根據本發明,提供一種過氧化氫之製造方法,其特徵為具有:藉由將包含有機溶劑、具有烷基取代基之、及具有烷基取代基之四氫的動作溶液在還原後氧化而製造過氧化氫的步驟;以及將伴隨前述過氧化氫之製造而副產生之惰性物質從前述動作溶液中去除,並將已去除該惰性物質之動作溶液再度循環至過氧化氫製造步驟中的動作溶液再生步驟。其中,前述動作溶液再生步驟具有:i)在大氣壓或其以下之壓力下,藉由蒸餾而回收前述有機溶劑之第1蒸餾步驟;以及ii)接著在較低壓力下,藉由200℃以上、滯留時間為1小時以上之蒸餾而回收前述及四氫之第2蒸餾步驟。
简体摘要：根据本发明,提供一种过氧化氢之制造方法,其特征为具有:借由将包含有机溶剂、具有烷基取代基之、及具有烷基取代基之四氢的动作溶液在还原后氧化而制造过氧化氢的步骤;以及将伴随前述过氧化氢之制造而副产生之惰性物质从前述动作溶液中去除,并将已去除该惰性物质之动作溶液再度循环至过氧化氢制造步骤中的动作溶液再生步骤。其中,前述动作溶液再生步骤具有:i)在大气压或其以下之压力下,借由蒸馏而回收前述有机溶剂之第1蒸馏步骤;以及ii)接着在较低压力下,借由200℃以上、滞留时间为1小时以上之蒸馏而回收前述及四氢之第2蒸馏步骤。

10. 发明专利

TW200741353A 抗反射膜形成用組成物及抗反射膜 COMPOUND FOR FORMING ANTIREFLECTIVE FILM AND ANTIREFLECTIVE FILM 审中-公开
简体标题：抗反射膜形成用组成物及抗反射膜 COMPOUND FOR FORMING ANTIREFLECTIVE FILM AND ANTIREFLECTIVE FILM
公开(公告)号：TW200741353A
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：TW096106839
申请日：2007-02-27
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：小黑大 OGURO, DAI , 越後雅敏 ECHIGO, MASATOSHI
IPC分类号： G03F , C08G
CPC分类号： G03F7/091
摘要：本發明係提供一種含有具有特定結構的多酚化合物及溶劑之抗反射膜形成用組成物。該多酚化合物係藉由使至少1種碳數6~20的芳香族醛與含有1~3個酚性羥基之碳數6~15的化合物縮合反應而得到,分子量為400~2000、分子量分布Mw/Mn為1~1.05、及玻璃轉移溫度為110℃以上。使用該組成物在基板上形成的抗反射膜,能夠吸收來自基板的反射光、提升在該抗反射膜上所形成之光阻圖案的形成性。因為該抗反射膜係低昇華性、高乾蝕刻耐性,所以能夠減少光阻圖案線邊緣粗糙度。又,因為在鹼顯像液中可溶,除去該抗反射膜不需要特別的乾蝕刻處理。
简体摘要：本发明系提供一种含有具有特定结构的多酚化合物及溶剂之抗反射膜形成用组成物。该多酚化合物系借由使至少1种碳数6~20的芳香族醛与含有1~3个酚性羟基之碳数6~15的化合物缩合反应而得到,分子量为400~2000、分子量分布Mw/Mn为1~1.05、及玻璃转移温度为110℃以上。使用该组成物在基板上形成的抗反射膜,能够吸收来自基板的反射光、提升在该抗反射膜上所形成之光阻图案的形成性。因为该抗反射膜系低升华性、高干蚀刻耐性,所以能够减少光阻图案线边缘粗糙度。又,因为在碱显像液中可溶,除去该抗反射膜不需要特别的干蚀刻处理。

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