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1. 发明专利

TWI536043B 雷射照明裝置有权
简体标题：激光照明设备
公开(公告)号：TWI536043B
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW101111884
申请日：2012-04-03
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：梶山康一 , KAJIYAMA, KOICHI , 水村通伸 , MIZUMURA, MICHINOBU , 火田中誠 , HATANAKA, MAKOTO , 柳川良勝 , YANAGAWA, YOSHIKATSU
IPC分类号： G02B27/09 , G02B27/00 , G02F1/29
CPC分类号： G02B27/0955 , G02B27/48 , G02F1/0311 , G02F1/0322 , G02F1/19 , G02F2202/20

2. 发明专利

TWI521563B 雷射處理裝置有权
简体标题：激光处理设备
公开(公告)号：TWI521563B
公开(公告)日：2016-02-11
申请号：TW101116692
申请日：2012-05-10
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：水村通伸 , MIZUMURA, MICHINOBU , 火田中誠 , HATANAKA, MAKOTO
IPC分类号： H01L21/20 , H01L21/268 , B23K26/06 , B23K26/08
CPC分类号： H01L21/02532 , B23K26/0676 , B23K26/0732 , H01L21/02678 , H01L21/02691

3. 发明专利

TWI557779B 雷射退火裝置及方法有权
简体标题：激光退火设备及方法
公开(公告)号：TWI557779B
公开(公告)日：2016-11-11
申请号：TW101107967
申请日：2012-03-08
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：水村通伸 , MIZUMURA, MICHINOBU , 火田中誠 , HATANAKA, MAKOTO
IPC分类号： H01L21/268 , G02B13/22
CPC分类号： B23K26/0676 , B23K26/0648 , H01L21/268

4. 发明专利

TW201243508A 使用微透鏡陣列之曝光裝置 EXPOSURE DEVICE USING MICRO LENS ARRAY 审中-公开
简体标题：使用微透镜数组之曝光设备 EXPOSURE DEVICE USING MICRO LENS ARRAY
公开(公告)号：TW201243508A
公开(公告)日：2012-11-01
申请号：TW101105284
申请日：2012-02-17
申请人： V科技股份有限公司
发明人：木尾山康一 , 水村通伸 , 火田中誠
IPC分类号： G03F , H01L , G02B
CPC分类号： G02B3/0006 , G02B7/005 , G03F7/70258 , G03F7/70275
摘要：本發明係關於一種使用微透鏡陣列之曝光裝置,其曝光光線的照射區域對應微透鏡陣列的大小,微透鏡陣列在與掃描方向垂直的方向上,具有對應遮罩的寬度或該寬度的整數分之1的長度的長度。另外,微透鏡陣列係由分割成對應欲製造之小型的複數個面板的長度的2個以上的單元排列所構成。藉此,便可配合行動裝置用的液晶顯示面板的大小有效率地使用微透鏡陣列。
简体摘要：本发明系关于一种使用微透镜数组之曝光设备,其曝光光线的照射区域对应微透镜数组的大小,微透镜数组在与扫描方向垂直的方向上,具有对应遮罩的宽度或该宽度的整数分之1的长度的长度。另外,微透镜数组系由分割成对应欲制造之小型的复数个皮肤的长度的2个以上的单元排列所构成。借此,便可配合行动设备用的液晶显示皮肤的大小有效率地使用微透镜数组。

5. 发明专利

TWI544284B 微透鏡陣列及使用該微透鏡陣列之掃描曝光裝置有权
简体标题：微透镜数组及使用该微透镜数组之扫描曝光设备
公开(公告)号：TWI544284B
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW101126994
申请日：2012-07-26
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：水村通伸 , MIZUMURA, MICHINOBU , 火田中誠 , HATANAKA, MAKOTO
IPC分类号： G03F7/20 , G02B3/00
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B3/00 , G02B3/0056 , G02B3/0062 , G02B3/0075 , G02B7/00 , G02B27/0961 , G03F7/70275

6. 发明专利

TW201250407A 曝光裝置之對準裝置 ALIGNMENT DEVICE FOR EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
简体标题：曝光设备之对准设备 ALIGNMENT DEVICE FOR EXPOSURE APPARATUS
公开(公告)号：TW201250407A
公开(公告)日：2012-12-16
申请号：TW101111130
申请日：2012-03-29
申请人： V科技股份有限公司
发明人：火田中誠
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F9/7046 , G03F9/7065 , G03F9/7069
摘要：本發明係一種曝光裝置之對準裝置,其第1光源的長波長光與第2光源的短波長光在分光鏡滙合,該等滙合光以透鏡收斂並垂直入射於遮罩以及基板其平面。然後,該滙合光被遮罩的對準標記以及基板的對準標記反射,回到與入射光線路徑相同的光線路徑,經過濾光片,射入照相機。濾光片使反射光之中的長波長光與短波長光在照相機的感測器的不同區域成像。藉此,照相機便可同時觀察到遮罩以及基板雙方的經過聚焦的對準標記的圖案。因此,即使光線路徑的光軸產生偏差,基板的對準標記與遮罩的對準標記的圖案相對位置也不易產生變化,故對準精度較高。
简体摘要：本发明系一种曝光设备之对准设备,其第1光源的长波长光与第2光源的短波长光在分光镜汇合,该等汇合光以透镜收敛并垂直入射于遮罩以及基板其平面。然后,该汇合光被遮罩的对准标记以及基板的对准标记反射,回到与入射光线路径相同的光线路径,经过滤光片,射入照相机。滤光片使反射光之中的长波长光与短波长光在照相机的传感器的不同区域成像。借此,照相机便可同时观察到遮罩以及基板双方的经过聚焦的对准标记的图案。因此,即使光线路径的光轴产生偏差,基板的对准标记与遮罩的对准标记的图案相对位置也不易产生变化,故对准精度较高。

7. 发明专利

TW201248339A 曝光裝置之對準裝置 ALIGNMENT DEVICE FOR LIGHT EXPOSURE DEVICE 审中-公开
简体标题：曝光设备之对准设备 ALIGNMENT DEVICE FOR LIGHT EXPOSURE DEVICE
公开(公告)号：TW201248339A
公开(公告)日：2012-12-01
申请号：TW101117142
申请日：2012-05-14
申请人： V科技股份有限公司
发明人：橋本和重 , 新井敏成 , 火田中誠
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F1/42 , G03F9/7038 , G03F9/7088
摘要：利用具有長波長光線透射區域與短波長光線透射區域之濾光片,藉由相機的感測器來偵測基板上的對準記號與光罩上的對準記號。因為長波長光線焦點距離較長,短波長光線焦點距離較短,所以基板對準記號反射光之中的長波長光線,與光罩對準記號反射光之中的短波長光線,能同時成像於相機的感測器,而同時觀察到。並且,以基板對準記號的中點與光罩對準記號的中點成一致的方式取得基板與光罩之對準。藉此,即使基板或光罩與相機感測器產生間隔變動、光路產生光軸偏移,也能以高精度取得基板與光罩之對準。
简体摘要：利用具有长波长光线透射区域与短波长光线透射区域之滤光片,借由相机的传感器来侦测基板上的对准记号与光罩上的对准记号。因为长波长光线焦点距离较长,短波长光线焦点距离较短,所以基板对准记号反射光之中的长波长光线,与光罩对准记号反射光之中的短波长光线,能同时成像于相机的传感器,而同时观察到。并且,以基板对准记号的中点与光罩对准记号的中点成一致的方式取得基板与光罩之对准。借此,即使基板或光罩与相机传感器产生间隔变动、光路产生光轴偏移,也能以高精度取得基板与光罩之对准。

8. 发明专利

TW201241475A 雷射照明裝置 LASER ILLUMINATION DEVICE 审中-公开
简体标题：激光照明设备 LASER ILLUMINATION DEVICE
公开(公告)号：TW201241475A
公开(公告)日：2012-10-16
申请号：TW101111884
申请日：2012-04-03
申请人： V科技股份有限公司
发明人：梶山康一 , 水村通伸 , 火田中誠 , 柳川良勝
IPC分类号： G02B , G02F
CPC分类号： G02B27/0955 , G02B27/48 , G02F1/0311 , G02F1/0322 , G02F1/19 , G02F2202/20
摘要：一種雷射照明裝置，在自光源射出的脈衝雷射光的光路上配置有複眼透鏡及聚光透鏡，在光源與複眼透鏡之間或複眼透鏡與聚光透鏡之間，配置有：使脈衝雷射光的入射光以其偏向方向連續地變動的方式透射之電光學結晶元件。該電光學結晶元件，由例如一對電極與配置於該電極之間的光學結晶材料所構成；並對電極之間施加電壓使電場產生，因此電光學結晶材料的折射率變動。藉此可降低因複眼透鏡的透射光之干涉條紋所致的照明不均。
简体摘要：一种激光照明设备，在自光源射出的脉冲激光光的光路上配置有复眼透镜及聚光透镜，在光源与复眼透镜之间或复眼透镜与聚光透镜之间，配置有：使脉冲激光光的入射光以其偏向方向连续地变动的方式透射之电光学结芯片件。该电光学结芯片件，由例如一对电极与配置于该电极之间的光学结晶材料所构成；并对电极之间施加电压使电场产生，因此电光学结晶材料的折射率变动。借此可降低因复眼透镜的透射光之干涉条纹所致的照明不均。

9. 发明专利

TW201239958A 雷射退火裝置及方法 LASER ANNEALING APPARATUS AND METHOD 审中-公开
简体标题：激光退火设备及方法 LASER ANNEALING APPARATUS AND METHOD
公开(公告)号：TW201239958A
公开(公告)日：2012-10-01
申请号：TW101107967
申请日：2012-03-08
申请人： V科技股份有限公司
发明人：水村通伸 , 火田中誠
IPC分类号： H01L , G02B
CPC分类号： B23K26/0676 , B23K26/0648 , H01L21/268
摘要：本發明係關於一種雷射退火裝置及方法,光學零件由以下元件構成:第1微透鏡陣列,於透明基板之表面上形成有複數個凸透鏡狀的第1微透鏡;以及第2微透鏡陣列,於透明基板之表面上及背面上分別形成有複數個凸透鏡狀的第2微透鏡及第3微透鏡。第1微透鏡陣列與第2微透鏡陣列,相互隔著間隔平行地配置。第1微透鏡與第2及第3微透鏡,相互地對應而配置於同軸上,構成遠心光學系統。藉此,可防止雷射光之照射面的照度產生變動。
简体摘要：本发明系关于一种激光退火设备及方法,光学零件由以下组件构成:第1微透镜数组,于透明基板之表面上形成有复数个凸透镜状的第1微透镜;以及第2微透镜数组,于透明基板之表面上及背面上分别形成有复数个凸透镜状的第2微透镜及第3微透镜。第1微透镜数组与第2微透镜数组,相互隔着间隔平行地配置。第1微透镜与第2及第3微透镜,相互地对应而配置于同轴上,构成远心光学系统。借此,可防止激光光之照射面的照度产生变动。

10. 发明专利

TWI542957B 曝光裝置之對準裝置有权
简体标题：曝光设备之对准设备
公开(公告)号：TWI542957B
公开(公告)日：2016-07-21
申请号：TW101111130
申请日：2012-03-29
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：火田中誠 , HATANAKA, MAKOTO
IPC分类号： G03F7/207
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F9/7046 , G03F9/7065 , G03F9/7069

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