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    • 1. 发明专利
    • 光學安全元件及用於將隱藏的資訊顯現的系統 OPTISCHES SICHERHEITSELEMENT UND SYSTEM ZUR VISUALISIERUNG VON VERSTECKTEN INFORMATIONEN
    • 光学安全组件及用于将隐藏的信息显现的系统 OPTISCHES SICHERHEITSELEMENT UND SYSTEM ZUR VISUALISIERUNG VON VERSTECKTEN INFORMATIONEN
    • TWI370279B
    • 2012-08-11
    • TW093117286
    • 2004-06-16
    • OVD基尼格蘭股份公司
    • 偉恩 羅勃特 湯普欽瑞內 史陶伯安德烈亞斯 席林
    • G02F
    • G02B5/1866B42D25/324B42D25/342G02B5/1819
    • 一種光學安全系統以及一種具有這種光學安全元件的用於將隱藏的資訊顯現的系統。該光學安全元件有一基質層,在該基質層中,在一個由X軸與Y軸夾成的平面區域中形成一浮雕構造以產生一種光學可辨識的效果,該浮雕構造係利用浮雕參數(特別是浮雕形狀、浮雕深度、空間頻率及方位角度)定義者。一個或數個定義出此浮雕構造的浮雕參數係在此平面區域(27)中依一種參數變化函數變化。此平面區域(27)分成一個或數個圖案區域(29)(30)及一個背景區域(28)。一個或數個定義出該浮雕構造的浮雕參數係依一參數變化函數變化,此一參數變化函數相對該背景區域(28)的參數變化函數作了相位移動。此外設有一證實元件,它具有一證實網格,該證實網格利用一週期性的透過函數定義,且其週期相當於該參數變化函數的調期。
    • 一种光学安全系统以及一种具有这种光学安全组件的用于将隐藏的信息显现的系统。该光学安全组件有一基质层,在该基质层中,在一个由X轴与Y轴夹成的平面区域中形成一浮雕构造以产生一种光学可辨识的效果,该浮雕构造系利用浮雕参数(特别是浮雕形状、浮雕深度、空间频率及方位角度)定义者。一个或数个定义出此浮雕构造的浮雕参数系在此平面区域(27)中依一种参数变化函数变化。此平面区域(27)分成一个或数个图案区域(29)(30)及一个背景区域(28)。一个或数个定义出该浮雕构造的浮雕参数系依一参数变化函数变化,此一参数变化函数相对该背景区域(28)的参数变化函数作了相位移动。此外设有一证实组件,它具有一证实网格,该证实网格利用一周期性的透过函数定义,且其周期相当于该参数变化函数的调期。
    • 4. 发明专利
    • 光學安全元件 OPTISCHES SICHERHEITSELEMENT
    • 光学安全组件 OPTISCHES SICHERHEITSELEMENT
    • TWI333182B
    • 2010-11-11
    • TW093116805
    • 2004-06-11
    • OVD基尼格蘭股份公司
    • 安德烈亞斯 席林瑞內 史陶伯偉恩 羅勃特 湯普欽
    • G09C
    • B42D25/342B42D25/328G03H1/0011
    • 一種光學元件,具有一基質層,有一第一微構造在一平面區域(2)區域性地形成到該基質層中,以產生第一種可用光學方式辨認的效果。該平面區域(2)分成呈微視方式的細微圖案區域(21)~(40)與一背景區域(20)。第一種微構造形成到圖案區域(21)~(40)但不形成到該背景區域(20)。該平面區域(2)中的微視方式的細微構造(21)~(40)係設置成一種莫爾(網紋干擾)圖案(Moire-Muster)方式。有一個隱藏的資訊被編碼到該莫爾圖案中,當作安全特徵,該資訊可利用一個相關聯的證實元件分析。該微視方式的細微構造更依一種次構造化函數作次構造化,該次構造化函數描述一種該莫耳圖案之微視的次構造,這種次構造當作另外的安全特徵。
    • 一种光学组件,具有一基质层,有一第一微构造在一平面区域(2)局部地形成到该基质层中,以产生第一种可用光学方式辨认的效果。该平面区域(2)分成呈微视方式的细微图案区域(21)~(40)与一背景区域(20)。第一种微构造形成到图案区域(21)~(40)但不形成到该背景区域(20)。该平面区域(2)中的微视方式的细微构造(21)~(40)系设置成一种莫尔(网纹干扰)图案(Moire-Muster)方式。有一个隐藏的信息被编码到该莫尔图案中,当作安全特征,该信息可利用一个相关联的证实组件分析。该微视方式的细微构造更依一种次构造化函数作次构造化,该次构造化函数描述一种该莫耳图案之微视的次构造,这种次构造当作另外的安全特征。