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1. 发明专利

TWI684068B 微流體裝置的製造方法、微流體裝置及微流體裝置製造用感光性樹脂組成物有权
简体标题：微流体设备的制造方法、微流体设备及微流体设备制造用感光性树脂组成物
公开(公告)号：TWI684068B
公开(公告)日：2020-02-01
申请号：TW105112212
申请日：2016-04-20
申请人：日商JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：西村功 , NISHIMURA, ISAO , 星子賢二 , HOSHIKO, KENJI , 金子将寛 , KANEKO, MASAHIRO
IPC分类号： G03F7/032 , G03F7/40 , C08L101/02 , H01L21/027 , B81C1/00

2. 发明专利

TW201921505A 電路基板审中-公开
简体标题：电路基板
公开(公告)号：TW201921505A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107132490
申请日：2018-09-14
申请人：日商JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：西村功 , NISHIMURA, ISAO , 宮木伸行 , MIYAKI, NOBUYUKI , 門田敏明 , KADOTA, TOSHIAKI , 藤冨晋太郎 , FUJITOMI, SHINTAROU , 篠田智隆 , SHINODA, TOMOTAKA
IPC分类号： H01L21/321 , B32B27/00
摘要：本發明提供一種平滑性優異、且可減少高頻的電訊號的傳輸損失的電路基板。本發明的電路基板的特徵在於：包括配線部與非配線部，所述配線部具有金屬層及樹脂層，所述非配線部具有樹脂層，於23℃下所述樹脂層的頻率10 GHz下的相對介電常數為2～3，於將所述配線部中的厚度的最大值設為A（μm）、所述非配線部中的厚度的最小值設為B（μm）時，滿足（A-B）/B≦0.1的關係。
简体摘要：本发明提供一种平滑性优异、且可减少高频的电信号的传输损失的电路基板。本发明的电路基板的特征在于：包括配线部与非配线部，所述配线部具有金属层及树脂层，所述非配线部具有树脂层，于23℃下所述树脂层的频率10 GHz下的相对介电常数为2～3，于将所述配线部中的厚度的最大值设为A（μm）、所述非配线部中的厚度的最小值设为B（μm）时，满足（A-B）/B≦0.1的关系。

3. 发明专利

TW201903064A 組成物、硬化膜的製造方法及電子零件审中-公开
简体标题：组成物、硬化膜的制造方法及电子零件
公开(公告)号：TW201903064A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107119675
申请日：2018-06-07
申请人：日商JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：穴吹翔馬 , ANABUKI, SHOMA , 伊藤彰基 , ITOU, AKINORI , 川島直之 , KAWASHIMA, NAOYUKI , 西村功 , NISHIMURA, ISAO , 宮木伸行 , MIYAKI, NOBUYUKI , 金子将寛 , KANEKO, MASAHIRO
IPC分类号： C09D4/00 , C09D7/40 , C09D7/63 , H01B3/30 , C08J5/18
摘要：本發明提供一種可形成即便於高溫高濕下等嚴酷的環境下亦可維持絕緣性的硬化膜的組成物、及所述硬化膜的製造方法。本發明的組成物含有自由基聚合性化合物、光自由基產生劑、及光陽離子產生劑，於將所述組成物的總質量設為100質量%時，含有0.5 ppm以上且100 ppm以下的鹵素原子。
简体摘要：本发明提供一种可形成即便于高温高湿下等严酷的环境下亦可维持绝缘性的硬化膜的组成物、及所述硬化膜的制造方法。本发明的组成物含有自由基聚合性化合物、光自由基产生剂、及光阳离子产生剂，于将所述组成物的总质量设为100质量%时，含有0.5 ppm以上且100 ppm以下的卤素原子。

4. 发明专利

TW201638670A 微流體裝置的製造方法、微流體裝置及微流體裝置製造用感光性樹脂組成物审中-公开
简体标题：微流体设备的制造方法、微流体设备及微流体设备制造用感光性树脂组成物
公开(公告)号：TW201638670A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW105112212
申请日：2016-04-20
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：西村功 , NISHIMURA, ISAO , 星子賢二 , HOSHIKO, KENJI , 金子将寛 , KANEKO, MASAHIRO
IPC分类号： G03F7/032 , G03F7/40 , C08L101/02 , H01L21/027 , B81C1/00
CPC分类号： B01L3/502707 , B01L2200/12 , B01L2300/041 , B01L2300/0848 , B01L2300/0887 , B01L2300/12 , B32B37/14 , B32B38/0008 , B81B2201/058 , B81C1/00119 , B81C2203/032 , G03F7/031
摘要：一種微流體裝置的製造方法，包括：由感光性樹脂組成物在支撐體上形成樹脂層的步驟，所述感光性樹脂組成物含有具有至少兩個自由基聚合性基的化合物、光自由基產生劑、具有至少兩個陽離子反應性基的化合物、光陽離子產生劑、以及選自具有保護基的胺、光降解性鹼、具有醯亞胺結構的化合物、具有醯胺結構的化合物及具有尿素結構的化合物中的至少一種化合物；對所述樹脂層的一部分進行紫外線曝光及顯影的步驟；在顯影後的樹脂層上載置覆蓋材料而獲得層壓體的步驟；及對所得的層壓體進行紫外線曝光的步驟。
简体摘要：一种微流体设备的制造方法，包括：由感光性树脂组成物在支撑体上形成树脂层的步骤，所述感光性树脂组成物含有具有至少两个自由基聚合性基的化合物、光自由基产生剂、具有至少两个阳离子反应性基的化合物、光阳离子产生剂、以及选自具有保护基的胺、光降解性碱、具有酰亚胺结构的化合物、具有酰胺结构的化合物及具有尿素结构的化合物中的至少一种化合物；对所述树脂层的一部分进行紫外线曝光及显影的步骤；在显影后的树脂层上载置覆盖材料而获得层压体的步骤；及对所得的层压体进行紫外线曝光的步骤。

5. 发明专利

TW565591B 感放射線性折射率變化性組成物及折射率變化法失效
简体标题：感放射线性折射率变化性组成物及折射率变化法
公开(公告)号：TW565591B
公开(公告)日：2003-12-11
申请号：TW090130430
申请日：2001-12-07
申请人： JSR股份有限公司
发明人：西村功 , 別所信夫 , 熊野厚司 , 下川努 , 山田憲司
IPC分类号： C08L , G03F
CPC分类号： G03F7/0757 , G03F7/001 , G03F7/0045 , G03F7/039
摘要：本發明係含有(A)分解性化合物、(B)折射率較分解性化合物(A)低的非分解性化合物、(C)感放射線分解劑及(D)安定化劑之感放射線性折射率變化性組成物。藉由於此組成物介經圖案光罩並照射放射線，使放射線照射部之上述(C)及(A)成分分解，於放射線照射部與放射線未照射部之間產生折射率差，形成折射率不同的圖案經予形成。
简体摘要：本发明系含有(A)分解性化合物、(B)折射率较分解性化合物(A)低的非分解性化合物、(C)感放射线分解剂及(D)安定化剂之感放射线性折射率变化性组成物。借由于此组成物介经图案光罩并照射放射线，使放射线照射部之上述(C)及(A)成分分解，于放射线照射部与放射线未照射部之间产生折射率差，形成折射率不同的图案经予形成。

6. 发明专利

TW548307B 感放射線性折射率變化性組成物與折射率變化法有权
简体标题：感放射线性折射率变化性组成物与折射率变化法
公开(公告)号：TW548307B
公开(公告)日：2003-08-21
申请号：TW090121228
申请日：2001-08-28
申请人： JSR股份有限公司
发明人：西村功 , 別所信夫 , 熊野厚司 , 下川努 , 山田憲司
IPC分类号： C08L , G03F
摘要：提供含有(A)分解性化合物、(B)折射率較分解性化合物(A)低的非分解性化合物、(C)感放射線分解劑及(D)安定化劑之感放射線性折射率變化性組成物。藉由於此組成物內介經圖案光罩並照射放射線，使放射線照射部之上述(C)及(A)成分分解，於放射線照射部及放射線未照射部之間或折射率之差異，使折射率不同的圖案經予形成。
简体摘要：提供含有(A)分解性化合物、(B)折射率较分解性化合物(A)低的非分解性化合物、(C)感放射线分解剂及(D)安定化剂之感放射线性折射率变化性组成物。借由于此组成物内介经图案光罩并照射放射线，使放射线照射部之上述(C)及(A)成分分解，于放射线照射部及放射线未照射部之间或折射率之差异，使折射率不同的图案经予形成。

7. 发明专利

TWI366742B 輻射敏感性樹脂組成物有权
简体标题：辐射敏感性树脂组成物
公开(公告)号：TWI366742B
公开(公告)日：2012-06-21
申请号：TW092136894
申请日：2003-12-25
申请人： JSR股份有限公司
发明人：藤原考一 , 小林英一 , 下川努 , 中村敦 , 米田英司 , 王勇 , 西村功
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/039 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2006
摘要：本發明係具有鹼不溶性或鹼難溶性，藉由酸作用成為鹼易溶性之特定結構，含有活性自由基聚合所得之含酸解離性基之樹脂，及輻射敏感性酸產生劑之輻射敏感性樹脂組成物，該含酸解離性基之樹脂之重量平均分子量與數目平均分子量之比(重量平均分子量/數目平均分子量)小於1.5的輻射敏感性樹脂組成物。
简体摘要：本发明系具有碱不溶性或碱难溶性，借由酸作用成为碱易溶性之特定结构，含有活性自由基聚合所得之含酸解离性基之树脂，及辐射敏感性酸产生剂之辐射敏感性树脂组成物，该含酸解离性基之树脂之重量平均分子量与数目平均分子量之比(重量平均分子量/数目平均分子量)小于1.5的辐射敏感性树脂组成物。

8. 发明专利

TWI317460B 輻射線感應樹脂組成物有权
简体标题：辐射线感应树脂组成物
公开(公告)号：TWI317460B
公开(公告)日：2009-11-21
申请号：TW092129933
申请日：2003-10-28
申请人： JSR股份有限公司
发明人：西村幸生 , 石井寬之 , 西村功 , 小林英一
IPC分类号： G03F , C08F , H01L
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046 , Y10S430/114
摘要：本發明之目的在提供一種輻射線感應樹脂組成物，該輻射線感應樹脂組成物可適用於以KrF準分子雷射、ArF準分子雷射等遠紫外光等各種輻射線進行微細加工有用之做為化學增幅型光阻用途。本發明之輻射線感應樹脂組成物含有[A]，下列一般式(I-1)所示重複單位(1-1)之樹脂，以及[B]，輻射線感應性產酸劑(1-(4-正丁氧基萘基)四氫噻吩鎓九氟-正丁烷磺酸酯等)。更可含有[C]、酸擴散抑制劑(苯基苯駢咪唑等)。
简体摘要：本发明之目的在提供一种辐射线感应树脂组成物，该辐射线感应树脂组成物可适用于以KrF准分子激光、ArF准分子激光等远紫外光等各种辐射线进行微细加工有用之做为化学增幅型光阻用途。本发明之辐射线感应树脂组成物含有[A]，下列一般式(I-1)所示重复单位(1-1)之树脂，以及[B]，辐射线感应性产酸剂(1-(4-正丁氧基萘基)四氢噻吩鎓九氟-正丁烷磺酸酯等)。更可含有[C]、酸扩散抑制剂(苯基苯骈咪唑等)。

9. 发明专利

TW468092B 間隔板用放射敏感性樹脂組成物,間隔板之製法,間隔板及其液晶顯示元件失效
简体标题：间隔板用放射敏感性树脂组成物,间隔板之制法,间隔板及其液晶显示组件
公开(公告)号：TW468092B
公开(公告)日：2001-12-11
申请号：TW088114046
申请日：1999-08-17
申请人： JSR股份有限公司
发明人：小笠原昭二 , 米澤文子 , 西村功 , 鈴木正睦 , 遠藤昌之
IPC分类号： G03F
摘要：本發明係提供一種放射敏感性樹脂組成物，對g線射和gh射線感應高、耐摩擦性優，具備充分電壓保持率和液晶定向性，可形成耐熱尺寸安定性、壓縮強度優良之間隔板。此組成物係包含鹼溶性樹脂，蜜胺類和三鹵甲基三。並提供由此組成物形成之間隔板，及具備此間隔板之液晶顯示元件。
简体摘要：本发明系提供一种放射敏感性树脂组成物，对g线射和gh射线感应高、耐摩擦性优，具备充分电压保持率和液晶定向性，可形成耐热尺寸安定性、压缩强度优良之间隔板。此组成物系包含碱溶性树脂，蜜胺类和三卤甲基三。并提供由此组成物形成之间隔板，及具备此间隔板之液晶显示组件。

10. 发明专利

TWI358609B 光阻聚合物組成物 PHOTORESIST POLYMER COMPOSITIONS 有权
简体标题：光阻聚合物组成物 PHOTORESIST POLYMER COMPOSITIONS
公开(公告)号：TWI358609B
公开(公告)日：2012-02-21
申请号：TW093118645
申请日：2004-06-25
申请人： JSR股份有限公司
发明人：達德彼諾特 , 艾登莎菲爾 , 張漢廷 , 多明尼克查摩特 , 西村功 , 征矢野晃雅 , 岡本健司 , 王勇
IPC分类号： G03F
CPC分类号： C08F220/18 , C08F20/18 , C08F220/28 , G03F7/0397
摘要：本發明有關經由活性自由基聚合技術製備光阻聚合物的方法。採用空間上龐大之酯類單體作為聚合組份。鏈轉移劑之使用包括於聚合處理條件中。描述包括有雜原子之聚合物末端基團的切除。
简体摘要：本发明有关经由活性自由基聚合技术制备光阻聚合物的方法。采用空间上庞大之酯类单体作为聚合组份。链转移剂之使用包括于聚合处理条件中。描述包括有杂原子之聚合物末端基团的切除。

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