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1. 发明专利

TW201700662A 化學機械研磨用處理組成物、化學機械研磨方法及洗淨方法审中-公开
简体标题：化学机械研磨用处理组成物、化学机械研磨方法及洗净方法
公开(公告)号：TW201700662A
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW105109720
申请日：2016-03-28
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：羽山孝弘 , HAYAMA, TAKAHIRO , 伊藤蘭 , ITOU, RAN , 亀井康孝 , KAMEI, YASUTAKA , 西口直希 , NISHIGUCHI, NAOKI , 三元清孝 , MITSUMOTO, KIYOTAKA , 加茂理 , KAMO, SATOSHI , 飯田雅史 , IIDA, MASASHI
IPC分类号： C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/304 , H01L21/302
CPC分类号： C09G1/04 , B24B37/20 , B24B57/02 , C09G1/02 , C23F1/00 , H01L21/304 , H01L21/4846 , H01L21/4864 , H01L23/49866 , H05K3/26 , H05K2203/0793
摘要：本發明之化學機械研磨用處理組成物之特徵為含有(A)水溶性胺、(B)具有含芳香族烴基之重複單位的水溶性聚合物及水系介質，較好含有(C)具有芳香族烴基之有機酸，且pH為9以上。
简体摘要：本发明之化学机械研磨用处理组成物之特征为含有(A)水溶性胺、(B)具有含芳香族烃基之重复单位的水溶性聚合物及水系介质，较好含有(C)具有芳香族烃基之有机酸，且pH为9以上。

2. 发明专利

TW201638291A 化學機械研磨用處理組成物、化學機械研磨方法及洗淨方法审中-公开
简体标题：化学机械研磨用处理组成物、化学机械研磨方法及洗净方法
公开(公告)号：TW201638291A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW105110702
申请日：2016-04-01
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：亀井康孝 , KAMEI, YASUTAKA , 羽山孝弘 , HAYAMA, TAKAHIRO , 三元清孝 , MITSUMOTO, KIYOTAKA , 伊藤蘭 , ITOU, RAN , 藤山等 , FUJIYAMA, HITOSHI , 森定紗季 , MORISADA, SAKI , 篠村尚志 , SHINOMURA, HISASHI , 加茂理 , KAMO, SATOSHI , 飯田雅史 , IIDA, MASASHI
IPC分类号： C09K3/14 , C23F11/14 , C23F11/173 , C11D11/00 , C11D7/32 , C11D7/26 , B24B37/00 , H01L21/304 , B08B3/08
CPC分类号： C11D7/22 , C11D7/26 , C11D7/32 , H01L21/304
摘要：本發明之化學機械研磨用處理組成物，其特徵為含有(A)選自由下述一般式(1)及一般式(2)表示之化合物所成群之至少1種類以上的化合物，及(B)具有選自由羧基、磺基、及胺基所成群之至少1種之官能基的水溶性高分子。 (一般式(1)中，R1表示選自由碳數1~10之烴基及具有雜原子之碳數1~20之有機基所成群之任一的官能基) (一般式(2)中，R2表示碳數1~20之有機基)。
简体摘要：本发明之化学机械研磨用处理组成物，其特征为含有(A)选自由下述一般式(1)及一般式(2)表示之化合物所成群之至少1种类以上的化合物，及(B)具有选自由羧基、磺基、及胺基所成群之至少1种之官能基的水溶性高分子。 (一般式(1)中，R1表示选自由碳数1~10之烃基及具有杂原子之碳数1~20之有机基所成群之任一的官能基) (一般式(2)中，R2表示碳数1~20之有机基)。

3. 发明专利

TW201027140A 偏光性繞射元件及偏光性繞射元件之製造方法审中-公开
简体标题：偏光性绕射组件及偏光性绕射组件之制造方法
公开(公告)号：TW201027140A
公开(公告)日：2010-07-16
申请号：TW098141517
申请日：2009-12-04
申请人： JSR股份有限公司
发明人：伊藤克美 , 長尾敦記 , 伊藤蘭 , 牛野卓浩
IPC分类号： G02B , B32B , C08F , C08J
摘要：本發明之目的係提供一種可連續生產、經濟性優異且所得偏光性繞射元件之光學特性亦優異之偏光性繞射元件之製造方法及以該製造方法獲得之偏光性繞射元件。本發明之偏光性繞射元件係在由透明樹脂（A）所構成之基材（a）之至少一面上以下列順序層合下列各層而成：具有分子配向能之層（B）、具有連續形成有凹部與凸部之源自化合物（C）之構造單位之層（LC），及具有與前述層（LC）之凹部及凸部嵌合之連續凸部與凹部之具有源自化合物（D）之構造單位之層（LD），其中前述層（LC）具有光學異向性，且前述層（LD）具有光學同向性。
简体摘要：本发明之目的系提供一种可连续生产、经济性优异且所得偏光性绕射组件之光学特性亦优异之偏光性绕射组件之制造方法及以该制造方法获得之偏光性绕射组件。本发明之偏光性绕射组件系在由透明树脂（A）所构成之基材（a）之至少一面上以下列顺序层合下列各层而成：具有分子配向能之层（B）、具有连续形成有凹部与凸部之源自化合物（C）之构造单位之层（LC），及具有与前述层（LC）之凹部及凸部嵌合之连续凸部与凹部之具有源自化合物（D）之构造单位之层（LD），其中前述层（LC）具有光学异向性，且前述层（LD）具有光学同向性。

4. 发明专利

TW201037358A 偏光性繞射元件审中-公开
简体标题：偏光性绕射组件
公开(公告)号：TW201037358A
公开(公告)日：2010-10-16
申请号：TW099106928
申请日：2010-03-10
申请人： JSR股份有限公司
发明人：牛野卓浩 , 伊藤克美 , 長尾敦記 , 伊藤蘭
IPC分类号： G02B
摘要：本發明之課題為提供一種具有高的光利用效率及高的工業生產性，且光學特性之面內均勻性高的偏光性繞射元件。本發明之偏光性繞射元件為在由透明樹脂所構成之基材上具有連續形成有凹部與凸部之圖型部，與填充該凹部而成之填充部，凸部與填充部之一方由光學等向性材料組成，另一方由光學異向性材料組成，且滿足式(i)及(ii)。(i)0.008≦|Nu(λ1)-No(λ1)|≦0.012，(ii)0.004≦|Nu(λ2)-No(λ2)|≦0.009（λ1：波長660nm之直線偏光性之光，λ2：波長785nm之直線偏光性之光，Nu：光學等向性材料之折射率，No：光學異向性材料之常光折射率）。
简体摘要：本发明之课题为提供一种具有高的光利用效率及高的工业生产性，且光学特性之面内均匀性高的偏光性绕射组件。本发明之偏光性绕射组件为在由透明树脂所构成之基材上具有连续形成有凹部与凸部之图型部，与填充该凹部而成之填充部，凸部与填充部之一方由光学等向性材料组成，另一方由光学异向性材料组成，且满足式(i)及(ii)。(i)0.008≦|Nu(λ1)-No(λ1)|≦0.012，(ii)0.004≦|Nu(λ2)-No(λ2)|≦0.009（λ1：波长660nm之直线偏光性之光，λ2：波长785nm之直线偏光性之光，Nu：光学等向性材料之折射率，No：光学异向性材料之常光折射率）。

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