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    • 8. 发明专利
    • 正型感放射線性樹脂組成物、層間絕緣膜及其形成方法 POSITIVE RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, INTERLAYER INSULATION FILM AND METHOD FOR FORMING THE SAME
    • 正型感放射线性树脂组成物、层间绝缘膜及其形成方法 POSITIVE RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, INTERLAYER INSULATION FILM AND METHOD FOR FORMING THE SAME
    • TW201122728A
    • 2011-07-01
    • TW099136838
    • 2010-10-28
    • JSR股份有限公司
    • 村田惠荒井雅史花村政曉
    • G03FH01L
    • 本發明之目的為提供一種正型感放射線性樹脂組成物,其放射線靈敏度、顯影裕度高,而且可以形成耐熱性、耐溶劑性、低介電性、光線透射率、耐光性、耐乾蝕刻性優異的層間絕緣膜。本發明之正型感放射線性樹脂組成物包含 [A]具有受阻胺結構和/或受阻酚結構的鹼可溶性樹脂,以及 [B]1,2-醌二疊氮化合物。 [A]成分較佳為由(a1)包含選自不飽和羧酸或不飽和羧酸酐中的一種以上的單體,以及(a2)包含選自下述式(1)所示的化合物、下述式(2)所示的化合物或下述式(3)所示的化合物中的一種以上的單體得到的共聚物。 [A]成分可以是由除了上述(a1)和(a2)的化合物以外,還包含(a3)含環氧基的不飽和化合物的單體得到的共聚物。
    • 本发明之目的为提供一种正型感放射线性树脂组成物,其放射线灵敏度、显影裕度高,而且可以形成耐热性、耐溶剂性、低介电性、光线透射率、耐光性、耐干蚀刻性优异的层间绝缘膜。本发明之正型感放射线性树脂组成物包含 [A]具有受阻胺结构和/或受阻酚结构的碱可溶性树脂,以及 [B]1,2-醌二叠氮化合物。 [A]成分较佳为由(a1)包含选自不饱和羧酸或不饱和羧酸酐中的一种以上的单体,以及(a2)包含选自下述式(1)所示的化合物、下述式(2)所示的化合物或下述式(3)所示的化合物中的一种以上的单体得到的共聚物。 [A]成分可以是由除了上述(a1)和(a2)的化合物以外,还包含(a3)含环氧基的不饱和化合物的单体得到的共聚物。