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1. 发明专利

TW200304042A 輻射敏感性樹脂組成物审中-公开
简体标题：辐射敏感性树脂组成物
公开(公告)号：TW200304042A
公开(公告)日：2003-09-16
申请号：TW092103553
申请日：2003-02-20
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：征矢野晃雅 , 石井寬之 , 石田英光 , 島基之 , 西村幸生
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/115
摘要：本發明係於提供可作為對於輻射線之透明性高，感度、解像度等之光阻之基本物性優異，圖案形狀、膜厚均勻性及保存安定性優異之化學增幅型光阻使用之輻射敏感性樹脂組成物。本發明係提供一種輻射敏感性樹脂組成物，其特徵為含有(A)具有特定之酸解離性保護基之鹼不溶性或鹼難溶性之樹脂及(B)輻射敏感性酸發生劑之輻射敏感性樹脂組成物，及含有(C)特定之混合溶劑之輻射敏感性樹脂組成物。
简体摘要：本发明系于提供可作为对于辐射线之透明性高，感度、解像度等之光阻之基本物性优异，图案形状、膜厚均匀性及保存安定性优异之化学增幅型光阻使用之辐射敏感性树脂组成物。本发明系提供一种辐射敏感性树脂组成物，其特征为含有(A)具有特定之酸解离性保护基之碱不溶性或碱难溶性之树脂及(B)辐射敏感性酸发生剂之辐射敏感性树脂组成物，及含有(C)特定之混合溶剂之辐射敏感性树脂组成物。

2. 发明专利

TW200941143A 輻射線感應樹脂組成物审中-公开
简体标题：辐射线感应树脂组成物
公开(公告)号：TW200941143A
公开(公告)日：2009-10-01
申请号：TW098112730
申请日：2003-10-28
申请人： JSR股份有限公司
发明人：西村幸生 , 石井寬之 , 西村功 , 小林英一
IPC分类号： G03F , C08F
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046 , Y10S430/114
摘要：本發明之目的在提供一種輻射線感應樹脂組成物，該輻射線感應樹脂組成物可適用於以KrF準分子雷射、ArF準分子雷射等遠紫外光等各種輻射線進行微細加工有用之做為化學增幅型光阻用途。本發明之輻射線感應樹脂組成物含有[A]，下列一般式（I-1）所示重複單元（1-1）之樹脂，以及[B]，輻射線感應性產酸劑（1-（4-正丁氧基萘基）四氫噻吩鎓九氟-正丁烷磺酸酯等）。更可含有[C]、酸擴散抑制劑（苯基苯駢咪唑等）。
简体摘要：本发明之目的在提供一种辐射线感应树脂组成物，该辐射线感应树脂组成物可适用于以KrF准分子激光、ArF准分子激光等远紫外光等各种辐射线进行微细加工有用之做为化学增幅型光阻用途。本发明之辐射线感应树脂组成物含有[A]，下列一般式（I-1）所示重复单元（1-1）之树脂，以及[B]，辐射线感应性产酸剂（1-（4-正丁氧基萘基）四氢噻吩鎓九氟-正丁烷磺酸酯等）。更可含有[C]、酸扩散抑制剂（苯基苯骈咪唑等）。

3. 发明专利

TWI317460B 輻射線感應樹脂組成物有权
简体标题：辐射线感应树脂组成物
公开(公告)号：TWI317460B
公开(公告)日：2009-11-21
申请号：TW092129933
申请日：2003-10-28
申请人： JSR股份有限公司
发明人：西村幸生 , 石井寬之 , 西村功 , 小林英一
IPC分类号： G03F , C08F , H01L
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046 , Y10S430/114
摘要：本發明之目的在提供一種輻射線感應樹脂組成物，該輻射線感應樹脂組成物可適用於以KrF準分子雷射、ArF準分子雷射等遠紫外光等各種輻射線進行微細加工有用之做為化學增幅型光阻用途。本發明之輻射線感應樹脂組成物含有[A]，下列一般式(I-1)所示重複單位(1-1)之樹脂，以及[B]，輻射線感應性產酸劑(1-(4-正丁氧基萘基)四氫噻吩鎓九氟-正丁烷磺酸酯等)。更可含有[C]、酸擴散抑制劑(苯基苯駢咪唑等)。
简体摘要：本发明之目的在提供一种辐射线感应树脂组成物，该辐射线感应树脂组成物可适用于以KrF准分子激光、ArF准分子激光等远紫外光等各种辐射线进行微细加工有用之做为化学增幅型光阻用途。本发明之辐射线感应树脂组成物含有[A]，下列一般式(I-1)所示重复单位(1-1)之树脂，以及[B]，辐射线感应性产酸剂(1-(4-正丁氧基萘基)四氢噻吩鎓九氟-正丁烷磺酸酯等)。更可含有[C]、酸扩散抑制剂(苯基苯骈咪唑等)。

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