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1. 发明专利

TW201732480A 真空壓力控制裝置审中-公开
简体标题：真空压力控制设备
公开(公告)号：TW201732480A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW106102859
申请日：2017-01-25
申请人： CKD股份有限公司 , CKD CORPORATION
发明人：西村康典 , NISHIMURA, YASUNORI , 渡辺雅之 , WATANABE, MASAYUKI , 橋口誠二 , HASHIGUCHI, SEIJI
IPC分类号： G05D16/20 , F16K1/36 , F16K51/02
摘要：本發明提供真空壓力控制裝置，使得即使彈性密封部件劣化也不會發生內部洩漏。真空壓力控制裝置(1)具有：形成有閥座(7a)的環狀彈性密封部件(7)；及與閥座(7a)抵接或離開的雙偏心蝶閥閥體(9)，該真空壓力控制裝置位於連接真空容器(27)與真空泵(28)的配管上，並通過使蝶閥閥體(9)沿第一方向(E)旋轉來使真空容器(27)內的真空壓力變化，該真空壓力控制裝置(1)具有控制基板(13)，該控制基板(13)使蝶閥閥體(9)沿第一方向(E)的反方向(F)旋轉，使蝶閥閥體(9)位於與初始的第一閉閥位置不同的第二閉閥位置。
简体摘要：本发明提供真空压力控制设备，使得即使弹性密封部件劣化也不会发生内部泄漏。真空压力控制设备(1)具有：形成有阀座(7a)的环状弹性密封部件(7)；及与阀座(7a)抵接或离开的双偏心蝶阀阀体(9)，该真空压力控制设备位于连接真空容器(27)与真空泵(28)的配管上，并通过使蝶阀阀体(9)沿第一方向(E)旋转来使真空容器(27)内的真空压力变化，该真空压力控制设备(1)具有控制基板(13)，该控制基板(13)使蝶阀阀体(9)沿第一方向(E)的反方向(F)旋转，使蝶阀阀体(9)位于与初始的第一闭阀位置不同的第二闭阀位置。

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