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1. 发明专利

TWI346384B 汽化器之原料液供給單元 LIQUID RAW MATERIAL SUPPLY UNIT FOR VAPORIZER 有权
简体标题：汽化器之原料液供给单元 LIQUID RAW MATERIAL SUPPLY UNIT FOR VAPORIZER
公开(公告)号：TWI346384B
公开(公告)日：2011-08-01
申请号：TW096121714
申请日：2007-06-15
申请人： CKD股份有限公司 , 東京電子股份有限公司
发明人：岡部庸之 , 大倉成幸 , 土居廣樹 , 伊藤稔 , 森洋司 , 西村康典
IPC分类号： H01L , C23C
CPC分类号： F16K27/003 , F16K7/14 , F16K31/06 , H01L21/31691 , Y10T137/4259 , Y10T137/87885
摘要：在對使原料液變成汽化之汽化器供給該原料液的汽化器之原料液供給單元，具有在內部形成流路之岐管、及被安裝於該岐管的複數流體控制閥，該複數流體控制閥包含有控制對該流路之原料液的供給之原料液控制閥、控制對該流路之清潔液的供給之清潔液控制閥、控制對該流路之沖洗氣體的供給之沖洗氣體控制閥、以及控制在該流路流動之流體往該汽化器的引入之汽化器引入控制閥，從該岐管之上游側，按照該沖洗氣體控制閥、該清潔液控制閥、該原料液控制閥、以及該汽化器引入控制閥的順序安裝於該岐管，該流路和與該複數流體控制閥各自所具備之各閥孔連通的閥孔口連接，作成從該沖洗氣體控制閥所供給之沖洗氣體直接流入配置於比該沖洗氣體控制閥更下游側的該清潔液控制閥及該原料液控制閥之各閥孔口內的形狀。
简体摘要：在对使原料液变成汽化之汽化器供给该原料液的汽化器之原料液供给单元，具有在内部形成流路之岐管、及被安装于该岐管的复数流体控制阀，该复数流体控制阀包含有控制对该流路之原料液的供给之原料液控制阀、控制对该流路之清洁液的供给之清洁液控制阀、控制对该流路之冲洗气体的供给之冲洗气体控制阀、以及控制在该流路流动之流体往该汽化器的引入之汽化器引入控制阀，从该岐管之上游侧，按照该冲洗气体控制阀、该清洁液控制阀、该原料液控制阀、以及该汽化器引入控制阀的顺序安装于该岐管，该流路和与该复数流体控制阀各自所具备之各阀孔连通的阀孔口连接，作成从该冲洗气体控制阀所供给之冲洗气体直接流入配置于比该冲洗气体控制阀更下游侧的该清洁液控制阀及该原料液控制阀之各阀孔口内的形状。

2. 发明专利

TWI441003B 流量控制器及比例電磁閥有权
简体标题：流量控制器及比例电磁阀
公开(公告)号：TWI441003B
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：TW099143444
申请日：2010-12-13
申请人： CKD股份有限公司 , CKD CORPORATION
发明人：西村康典 , NISHIMURA, YASUNORI
IPC分类号： G05D7/06 , F16K31/02
CPC分类号： F16K31/0655 , F16K1/42 , G05D7/0635 , Y10T137/7761

3. 发明专利

TW201140271A 流量控制器及比例電磁閥 FLOW RATE CONTROLLER AND PROPORTIONAL ELECTROMAGNETIC VALVE 审中-公开
简体标题：流量控制器及比例电磁阀 FLOW RATE CONTROLLER AND PROPORTIONAL ELECTROMAGNETIC VALVE
公开(公告)号：TW201140271A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：TW099143444
申请日：2010-12-13
申请人： CKD股份有限公司
发明人：西村康典
IPC分类号： G05D , F16K
CPC分类号： F16K31/0655 , F16K1/42 , G05D7/0635 , Y10T137/7761
摘要：流量控制器(1)構成為控制電路(4)以流量感測器(3)之檢測流量成為目標流量的方式控制比例電磁閥(2)。比例電磁閥(2)包括支架(24)所支撐之線圈(21)、捲線軸(22)及固定鐵心(23)、設置於可動鐵心(25)的閥體(26)與板片彈簧(27)、以及設置於本體(28)的閥座(30)、引入通路(31)、引出通路(32)及孔口(33)。藉由線圈(21)的激磁所造成之固定鐵心(23)的吸力與板片彈簧(27)的偏壓力平衡,使可動鐵心(25)位移,而調整閥體(26)相對閥座(30)的位置,以調整流體的流量。孔口(33)的內徑被設定為

「1mm以上」的値,孔口(33)之軸長相對於內徑的比被設定成「0.1以上0.6以下」的値,引出通路(32)的內徑被設定成比孔口(33)的內徑更大。
简体摘要：流量控制器(1)构成为控制电路(4)以流量传感器(3)之检测流量成为目标流量的方式控制比例电磁阀(2)。比例电磁阀(2)包括支架(24)所支撑之线圈(21)、卷线轴(22)及固定铁心(23)、设置于可动铁心(25)的阀体(26)与板片弹簧(27)、以及设置于本体(28)的阀座(30)、引入通路(31)、引出通路(32)及孔口(33)。借由线圈(21)的激磁所造成之固定铁心(23)的吸力与板片弹簧(27)的偏压力平衡,使可动铁心(25)位移,而调整阀体(26)相对阀座(30)的位置,以调整流体的流量。孔口(33)的内径被设置为 “1mm以上”的値,孔口(33)之轴长相对于内径的比被设置成“0.1以上0.6以下”的値,引出通路(32)的内径被设置成比孔口(33)的内径更大。

4. 发明专利

TW201821726A 連結構件、流體機器連接夾具及流體機器連接構造审中-公开
简体标题：链接构件、流体机器连接夹具及流体机器连接构造
公开(公告)号：TW201821726A
公开(公告)日：2018-06-16
申请号：TW106138295
申请日：2017-11-06
申请人：日商CKD股份有限公司 , CKD CORPORATION
发明人：竹田秀行 , TAKEDA, HIDEYUKI , 岩田洋輝 , IWATA, HIROKI , 安江博人 , YASUE, HIROTO , 西村康典 , NISHIMURA, YASUNORI
IPC分类号： F16L19/06
摘要：本發明的目的是提供能夠在液體洩漏發生時進行快速的應對且能夠設置在狹小的空間中的作業性好的流體機器連接構造。流體機器連接構造1具有：具有第1連接部21的第1流體機器2；具有第2連接部31的第2流體機器3；將第1連接部21及第2連接部31連接起來的環狀密封構件4；和維持第1連接部21及第2連接部31的連接狀態的連結構件5，在該流體機器連接構造1中，連結構件5包括第1連結片6和第2連結片7，在第1連結片6和第2連結片7的一端具有第1鉸鏈部63和第2鉸接部73；第1連接部21和第2連接部31的外形為圓形，第1連結片6為具有開口部6a的大致U字形，並且超過第1連接部21和第2連接部31整周的180度與第1連接部21和第2連接部31接觸。
简体摘要：本发明的目的是提供能够在液体泄漏发生时进行快速的应对且能够设置在狭小的空间中的作业性好的流体机器连接构造。流体机器连接构造1具有：具有第1连接部21的第1流体机器2；具有第2连接部31的第2流体机器3；将第1连接部21及第2连接部31连接起来的环状密封构件4；和维持第1连接部21及第2连接部31的连接状态的链接构件5，在该流体机器连接构造1中，链接构件5包括第1链接片6和第2链接片7，在第1链接片6和第2链接片7的一端具有第1铰链部63和第2铰接部73；第1连接部21和第2连接部31的外形为圆形，第1链接片6为具有开口部6a的大致U字形，并且超过第1连接部21和第2连接部31整周的180度与第1连接部21和第2连接部31接触。

5. 发明专利

TW201530030A 流體驅動式遮斷閥审中-公开
简体标题：流体驱动式遮断阀
公开(公告)号：TW201530030A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103129465
申请日：2014-08-27
申请人： CKD股份有限公司 , CKD CORPORATION
发明人：西村康典 , NISHIMURA, YASUNORI
IPC分类号： F16K31/12
CPC分类号： F16K31/04 , F16K31/1262 , F16K31/50 , Y10T137/7758
摘要：一種空氣驅動式遮斷閥，其具有：閥座，形成在本體上；閥體，抵接在前述閥座或與前述閥座離隙；驅動部，一體連結在前述閥體；以及先導開關閥，供給用於驅動前述驅動部之壓縮流體，其特徵在於：前述先導開關閥具有：(a)第1針閥；第1馬達，變更前述第1針閥的開度；以及第1止回閥，使壓縮流體僅自前述先導開關閥側，流到前述驅動部側；以及(b)第2針閥；第2馬達，變更前述第2針閥的開度；以及第2止回閥，使壓縮流體僅自前述驅動部側，流到前述先導開關閥側。
简体摘要：一种空气驱动式遮断阀，其具有：阀座，形成在本体上；阀体，抵接在前述阀座或与前述阀座离隙；驱动部，一体链接在前述阀体；以及先导开关阀，供给用于驱动前述驱动部之压缩流体，其特征在于：前述先导开关阀具有：(a)第1针阀；第1马达，变更前述第1针阀的开度；以及第1止回阀，使压缩流体仅自前述先导开关阀侧，流到前述驱动部侧；以及(b)第2针阀；第2马达，变更前述第2针阀的开度；以及第2止回阀，使压缩流体仅自前述驱动部侧，流到前述先导开关阀侧。

6. 发明专利

TW201732480A 真空壓力控制裝置审中-公开
简体标题：真空压力控制设备
公开(公告)号：TW201732480A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW106102859
申请日：2017-01-25
申请人： CKD股份有限公司 , CKD CORPORATION
发明人：西村康典 , NISHIMURA, YASUNORI , 渡辺雅之 , WATANABE, MASAYUKI , 橋口誠二 , HASHIGUCHI, SEIJI
IPC分类号： G05D16/20 , F16K1/36 , F16K51/02
摘要：本發明提供真空壓力控制裝置，使得即使彈性密封部件劣化也不會發生內部洩漏。真空壓力控制裝置(1)具有：形成有閥座(7a)的環狀彈性密封部件(7)；及與閥座(7a)抵接或離開的雙偏心蝶閥閥體(9)，該真空壓力控制裝置位於連接真空容器(27)與真空泵(28)的配管上，並通過使蝶閥閥體(9)沿第一方向(E)旋轉來使真空容器(27)內的真空壓力變化，該真空壓力控制裝置(1)具有控制基板(13)，該控制基板(13)使蝶閥閥體(9)沿第一方向(E)的反方向(F)旋轉，使蝶閥閥體(9)位於與初始的第一閉閥位置不同的第二閉閥位置。
简体摘要：本发明提供真空压力控制设备，使得即使弹性密封部件劣化也不会发生内部泄漏。真空压力控制设备(1)具有：形成有阀座(7a)的环状弹性密封部件(7)；及与阀座(7a)抵接或离开的双偏心蝶阀阀体(9)，该真空压力控制设备位于连接真空容器(27)与真空泵(28)的配管上，并通过使蝶阀阀体(9)沿第一方向(E)旋转来使真空容器(27)内的真空压力变化，该真空压力控制设备(1)具有控制基板(13)，该控制基板(13)使蝶阀阀体(9)沿第一方向(E)的反方向(F)旋转，使蝶阀阀体(9)位于与初始的第一闭阀位置不同的第二闭阀位置。

7. 发明专利

TWI513928B 流體驅動式遮斷閥有权
简体标题：流体驱动式遮断阀
公开(公告)号：TWI513928B
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：TW103129465
申请日：2014-08-27
申请人： CKD股份有限公司 , CKD CORPORATION
发明人：西村康典 , NISHIMURA, YASUNORI
IPC分类号： F16K31/12
CPC分类号： F16K31/04 , F16K31/1262 , F16K31/50 , Y10T137/7758

8. 发明专利

TWI381258B 氣體供應單元有权
简体标题：气体供应单元
公开(公告)号：TWI381258B
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW097106227
申请日：2008-02-22
申请人： CKD股份有限公司 , CKD CORPORATION , 東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：福原成太 , FUKUHARA, JOTA , 石塚穗高 , ISHIZUKA, HOTAKA , 杉本佳夫 , SUGIMOTO, YOSHIO , 西村康典 , NISHIMURA, YASUNORI , 伊藤一壽 , ITOH, KAZUTOSHI , 杉野彰仁 , SUGINO, AKIHITO , 冨田洋 , TOMITA, HIROSHI
IPC分类号： G05D7/00 , H01L21/205 , H01L21/67
CPC分类号： C23C16/45557 , C23C16/45561 , Y10T137/7762 , Y10T137/86485

9. 发明专利

TWI673588B 真空壓力控制裝置有权
简体标题：真空压力控制设备
公开(公告)号：TWI673588B
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：TW106102859
申请日：2017-01-25
申请人： CKD股份有限公司 , CKD CORPORATION
发明人：西村康典 , NISHIMURA, YASUNORI , 渡辺雅之 , WATANABE, MASAYUKI , 橋口誠二 , HASHIGUCHI, SEIJI
IPC分类号： G05D16/20 , F16K1/36 , F16K51/02

10. 发明专利

TWI395903B 氣體供應裝置、塊狀凸緣失效
简体标题：气体供应设备、块状凸缘
公开(公告)号：TWI395903B
公开(公告)日：2013-05-11
申请号：TW098134595
申请日：2009-10-13
申请人： CKD股份有限公司 , CKD CORPORATION
发明人：井上貴史 , INOUE, TAKASHI , 西村康典 , NISHIMURA, YASUNORI
IPC分类号： F17D1/04 , G05D7/00

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