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1. 发明专利

TW201817054A 掩膜及其製備方法审中-公开
简体标题：掩膜及其制备方法
公开(公告)号：TW201817054A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106120754
申请日：2017-06-21
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：陳仁杰 , CHEN, JEN-JIE , 林昌廷 , LIN, CHANG-TING , 呂柏毅 , LU, PO-YI
IPC分类号： H01L51/50 , C23C14/04 , C23C14/12 , C23C14/24
摘要：一種掩膜，其包括塑膠層及與所述塑膠層結合的框體和複數個磁性元件，所述塑膠層包括相對的第一表面和第二表面，所述框體設置在所述塑膠層的第一表面且覆蓋第一表面的周邊，所述複數個磁性元件設置在所述塑膠層的第一表面，所述塑膠層上開設有貫穿所述第一表面和所述第二表面的複數個開口，沿每一個磁性元件與第一表面結合的一端指向每一個磁性元件遠離第一表面的一端，每一個磁性元件逐漸變細。所述掩膜用於沉積OLED顯示面板，可降低或避免Shadow Effect。本申請還提供所述掩膜的製備方法。
简体摘要：一种掩膜，其包括塑胶层及与所述塑胶层结合的框体和复数个磁性组件，所述塑胶层包括相对的第一表面和第二表面，所述框体设置在所述塑胶层的第一表面且覆盖第一表面的周边，所述复数个磁性组件设置在所述塑胶层的第一表面，所述塑胶层上开设有贯穿所述第一表面和所述第二表面的复数个开口，沿每一个磁性组件与第一表面结合的一端指向每一个磁性组件远离第一表面的一端，每一个磁性组件逐渐变细。所述掩膜用于沉积OLED显示皮肤，可降低或避免Shadow Effect。本申请还提供所述掩膜的制备方法。

2. 发明专利

TWI672811B 顯示裝置及顯示裝置的製造方法有权
简体标题：显示设备及显示设备的制造方法
公开(公告)号：TWI672811B
公开(公告)日：2019-09-21
申请号：TW107122706
申请日：2018-06-29
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：林昌廷 , LIN, CHANG-TING , 張煒熾 , CHANG, WEI-CHIH , 陳英杰 , CHEN, YING-CHIEH , 賴寵文 , LAI, CHUNG-WEN , 黃俊傑 , HUANG, CHUN-CHIEH , 王偉立 , WANG, WEI-LI , 呂柏毅 , LU, PO-YI , 陳仁杰 , CHEN, JEN-JIE , 吳逸蔚 , WU, I-WEI
IPC分类号： H01L27/32

3. 发明专利

TW201806146A 用於沉積OLED顯示面板的掩膜审中-公开
简体标题：用于沉积OLED显示皮肤的掩膜
公开(公告)号：TW201806146A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW106125941
申请日：2017-08-01
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：陳仁杰 , CHEN, JEN-JIE
IPC分类号： H01L27/32 , H01L51/56
CPC分类号： H01L51/56 , C23C14/042 , H01L51/0002
摘要：一種掩膜，其包括一支撐板及設置於該支撐板一表面上的複數個掩膜單元，該支撐板上開設有複數個通孔，每一個掩膜單元完全覆蓋所述複數個通孔中的一個，每一個掩膜單元上開設有貫穿其的複數個開口，每一個開口與該掩膜單元覆蓋的通孔相連通，每一個掩模單元被劃分為一中心區域和一邊緣區域，其中該邊緣區域位於該中心區域的周邊並圍繞該中心區域；在每一個掩模單元中，沿著從該邊緣區域指向該中心區域的方向，所述複數個開口的尺寸逐漸變小。所述掩膜用於沉積OLED顯示面板，可降低或避免Shadow Effect。
简体摘要：一种掩膜，其包括一支撑板及设置于该支撑板一表面上的复数个掩膜单元，该支撑板上开设有复数个通孔，每一个掩膜单元完全覆盖所述复数个通孔中的一个，每一个掩膜单元上开设有贯穿其的复数个开口，每一个开口与该掩膜单元覆盖的通孔相连通，每一个掩模单元被划分为一中心区域和一边缘区域，其中该边缘区域位于该中心区域的周边并围绕该中心区域；在每一个掩模单元中，沿着从该边缘区域指向该中心区域的方向，所述复数个开口的尺寸逐渐变小。所述掩膜用于沉积OLED显示皮肤，可降低或避免Shadow Effect。

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