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    • 2. 发明专利
    • 抗磨耗轉印架構
    • 抗磨耗转印架构
    • TW201022002A
    • 2010-06-16
    • TW097147225
    • 2008-12-05
    • 鑼洋科技股份有限公司
    • 王順程黃世敏陳玟蓉廖志遠
    • B29C
    • 一種抗磨耗轉印架構,係以壓印手段將圖樣文字轉移至一承印體表面,包括有一硬化保護層以及一離型基層。該硬化保護層包含有一第一表面以及一第二表面,該第一表面係以一轉印黏著膠貼附於該承印體上,並至少蓋覆於該圖樣文字之相對區域。該離型基層係以離型方式設置於該硬化保護層之第二表面上,該離型基層於壓印手段後施加一撥離力道使該離型基層分離於該硬化保護層。藉此,本發明抗磨耗轉印架構所露出的硬化保護層得以隔絕該圖樣文字與外部的接觸,並提供該承印體表面具有抗磨耗的效果。
    • 一种抗磨耗转印架构,系以压印手段将图样文本转移至一承印体表面,包括有一硬化保护层以及一离型基层。该硬化保护层包含有一第一表面以及一第二表面,该第一表面系以一转印黏着胶贴附于该承印体上,并至少盖覆于该图样文本之相对区域。该离型基层系以离型方式设置于该硬化保护层之第二表面上,该离型基层于压印手段后施加一拨离力道使该离型基层分离于该硬化保护层。借此,本发明抗磨耗转印架构所露出的硬化保护层得以隔绝该图样文本与外部的接触,并提供该承印体表面具有抗磨耗的效果。