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    • 3. 发明专利
    • 雷射光線的檢查方法
    • 激光光线的检查方法
    • TW201808511A
    • 2018-03-16
    • TW106114781
    • 2017-05-04
    • 迪思科股份有限公司DISCO CORPORATION
    • 荒川太朗ARAKAWA, TARO
    • B23K26/53B23K26/035H01L21/301
    • [課題]正確地檢查光學系統的光軸與雷射光線之偏離。 [解決手段]包含準備步驟、改質層形成步驟及檢查步驟,該準備步驟是透過樹脂層將檢查用板狀物與支撐基材積層以準備被加工物單元,其中該樹脂層在受到可穿透該檢查用板狀物之波長的雷射光線照射時會熔融,該改質層形成步驟是使檢查用板狀物露出並將被加工物單元保持在工作夾台的保持面上,且將該雷射光線照射成從檢查用板狀物的露出面在檢查用板狀物的內部聚光,以在檢查用板狀物的內部形成改質層,該檢查步驟是在實施改質層形成步驟之後,檢查藉由已穿透檢查用板狀物的雷射光線而形成於樹脂層的熔融痕跡之狀態。
    • [课题]正确地检查光学系统的光轴与激光光线之偏离。 [解决手段]包含准备步骤、改质层形成步骤及检查步骤,该准备步骤是透过树脂层将检查用板状物与支撑基材积层以准备被加工物单元,其中该树脂层在受到可穿透该检查用板状物之波长的激光光线照射时会熔融,该改质层形成步骤是使检查用板状物露出并将被加工物单元保持在工作夹台的保持面上,且将该激光光线照射成从检查用板状物的露出面在检查用板状物的内部聚光,以在检查用板状物的内部形成改质层,该检查步骤是在实施改质层形成步骤之后,检查借由已穿透检查用板状物的激光光线而形成于树脂层的熔融痕迹之状态。
    • 5. 发明专利
    • 被加工物的加工方法
    • TW201834038A
    • 2018-09-16
    • TW106138565
    • 2017-11-08
    • 日商迪思科股份有限公司DISCO CORPORATION
    • 荒川太朗ARAKAWA, TARO
    • H01L21/301H01L21/304B23K26/06
    • [課題]提供一種被加工物的加工方法,其係可以防止起因於被照射面的凹凸所致之雷射線束的曲折,把適切的改質層形成在被加工物的內部。   [解決手段]包含:樹脂層形成步驟,其係在被加工物的背面,形成使雷射線束透過之樹脂層;覆蓋構件緊密接著步驟,其係使具備使雷射線束透過且比被加工物的背面還平坦的表面之覆蓋構件的背面,緊密接著到形成在被加工物的背面之樹脂層;以及雷射線束照射步驟,其係從覆蓋構件所露出的表面側,透過樹脂層,照射雷射線束到被加工物,在被加工物的內部形成改質層;其中,利用樹脂層及覆蓋構件,可以抑制起因於背面的凹凸所致之雷射線束的曲折。
    • [课题]提供一种被加工物的加工方法,其系可以防止起因于被照射面的凹凸所致之激光线束的曲折,把适切的改质层形成在被加工物的内部。   [解决手段]包含:树脂层形成步骤,其系在被加工物的背面,形成使激光线束透过之树脂层;覆盖构件紧密接着步骤,其系使具备使激光线束透过且比被加工物的背面还平坦的表面之覆盖构件的背面,紧密接着到形成在被加工物的背面之树脂层;以及激光线束照射步骤,其系从覆盖构件所露出的表面侧,透过树脂层,照射激光线束到被加工物,在被加工物的内部形成改质层;其中,利用树脂层及覆盖构件,可以抑制起因于背面的凹凸所致之激光线束的曲折。
    • 6. 发明专利
    • 光元件晶片之製造方法
    • 光组件芯片之制造方法
    • TW201705243A
    • 2017-02-01
    • TW105103303
    • 2016-02-02
    • 迪思科股份有限公司DISCO CORPORATION
    • 荒川太朗ARAKAWA, TARO中野鉄馬NAKANO, KENTA
    • H01L21/301B23K26/53
    • 提供一種可以提高光元件晶片的光取出效率 之光元件晶片之製造方法。 一種分割光元件 晶圓(11)而製造複數個光元件晶片之光元件晶片之製造方法,係包含:雷射加工溝形成步驟,係照射相對於光元件晶圓具有吸收性的波長的雷射光線(L1),把與分割預定線正交之剖面的形狀為V字形狀之一對雷射加工溝(19)沿著分割預定線形成在光元件晶圓的背面(11b)側;V溝形成步驟,係把在一對雷射加工溝之間的領域所存在的光元件晶圓用切削刀片(14)予以破碎去除,形成V溝(21);研磨步驟,係研磨V溝的內壁面;以及分割步驟,係在V溝與分割預定線之間產生龜裂(25),把光元件晶圓沿著各分割預定線分割成一個一個的光元件晶片。
    • 提供一种可以提高光组件芯片的光取出效率 之光组件芯片之制造方法。 一种分割光组件 晶圆(11)而制造复数个光组件芯片之光组件芯片之制造方法,系包含:激光加工沟形成步骤,系照射相对于光组件晶圆具有吸收性的波长的激光光线(L1),把与分割预定线正交之剖面的形状为V字形状之一对激光加工沟(19)沿着分割预定线形成在光组件晶圆的背面(11b)侧;V沟形成步骤,系把在一对激光加工沟之间的领域所存在的光组件晶圆用切削刀片(14)予以破碎去除,形成V沟(21);研磨步骤,系研磨V沟的内壁面;以及分割步骤,系在V沟与分割预定线之间产生龟裂(25),把光组件晶圆沿着各分割预定线分割成一个一个的光组件芯片。
    • 7. 发明专利
    • 光裝置晶圓之加工方法
    • 光设备晶圆之加工方法
    • TW201528358A
    • 2015-07-16
    • TW103137388
    • 2014-10-29
    • 迪思科股份有限公司DISCO CORPORATION
    • 荒川太朗ARAKAWA, TARO
    • H01L21/304B23K26/36B23K26/38
    • H01L21/00B23K26/00B23K26/0087B23K26/18B23K26/389B23K26/40B23K26/402B23K2203/172B23K2203/50H01L21/78
    • 本發明提供一種光裝置晶圓之加工方法,課題為可實現更進一步提升光裝置之輝度。解決手段為實行下列步驟:雷射加工步驟,將對光裝置晶圓照射1個脈衝的脈衝雷射光束以形成1個雷射加工孔的作法反覆進行,以形成沿著切割道做出的複數個雷射加工孔;蝕刻步驟,使蝕刻液進入雷射加工孔內而蝕刻雷射加工孔的內部;及分割步驟,對光裝置晶圓賦予外力以沿著切割道將光裝置晶圓分割而形成複數個光裝置。藉此,能夠減少碎片大量地附著在各個雷射加工孔的側壁部,同時能夠使蝕刻液進入到雷射加工孔的內部並到達底部而可以充分地進行蝕刻,以提升光裝置的輝度。
    • 本发明提供一种光设备晶圆之加工方法,课题为可实现更进一步提升光设备之辉度。解决手段为实行下列步骤:激光加工步骤,将对光设备晶圆照射1个脉冲的脉冲激光光束以形成1个激光加工孔的作法反复进行,以形成沿着切割道做出的复数个激光加工孔;蚀刻步骤,使蚀刻液进入激光加工孔内而蚀刻激光加工孔的内部;及分割步骤,对光设备晶圆赋予外力以沿着切割道将光设备晶圆分割而形成复数个光设备。借此,能够减少碎片大量地附着在各个激光加工孔的侧壁部,同时能够使蚀刻液进入到激光加工孔的内部并到达底部而可以充分地进行蚀刻,以提升光设备的辉度。