专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 实用新型

TW587542U 一種射出成型機之射膠螺桿力量感測裝置失效
简体标题：一种射出成型机之射胶螺杆力量传感设备
公开(公告)号：TW587542U
公开(公告)日：2004-05-11
申请号：TW091216088
申请日：2002-10-09
申请人：財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：許嘉峻 HSU, CHIA CHUN , 蘇萬福 , 陳明祈 CHEN, MING CHU , 陳釧鋒
IPC分类号： B29C
CPC分类号： B29C45/77 , B29C45/5008 , B29C2045/1792 , B29C2045/5032 , B29C2945/76013 , B29C2945/76187 , B29C2945/76381 , B29C2945/76481 , B29C2945/76505 , B29C2945/76692 , B29C2945/76846 , B29C2945/76859 , B29C2945/76862 , B29C2945/76943
摘要：本創作係一種射出成型機之射膠螺桿力量感測裝置，利用一荷重元做為射出、保壓、計量背壓之力量感測器。該配置於射出後固定板上之荷重元，直接對一滾珠導螺桿螺帽進行力量量測。該滾珠導螺桿螺帽係鎖固於荷重元之上，荷重元鎖固於射出後固定板之上，因此，滾珠導螺桿之力量直接傳遞至滾珠導螺桿螺帽，於是，該力量與由塑料所產生力量及射出傳動元件間之摩擦阻力之加總值即為滾珠導螺桿螺帽施加於荷重元之力量值。由於精密射出需要準確控制射出塑料之壓力，亦即對射出力之控制需極精準。為避免傳動元件間之摩擦阻力造成設定之射出力與實際之射出力有差異，對滾珠導螺桿出力即時補償是必要的，透過荷重元的量測可對射出力進行即時補償，以進行全閉迴路控制，達到高精密射出控制，同時透過全閉迴路控制之射出力量測，亦可進行準確之保壓控制，精準之計量背壓。
简体摘要：本创作系一种射出成型机之射胶螺杆力量传感设备，利用一荷重元做为射出、保压、计量背压之力量传感器。该配置于射出后固定板上之荷重元，直接对一滚珠导螺杆螺帽进行力量量测。该滚珠导螺杆螺帽系锁固于荷重元之上，荷重元锁固于射出后固定板之上，因此，滚珠导螺杆之力量直接传递至滚珠导螺杆螺帽，于是，该力量与由塑料所产生力量及射出传动组件间之摩擦阻力之加总值即为滚珠导螺杆螺帽施加于荷重元之力量值。由于精密射出需要准确控制射出塑料之压力，亦即对射出力之控制需极精准。为避免传动组件间之摩擦阻力造成设置之射出力与实际之射出力有差异，对滚珠导螺杆出力实时补偿是必要的，透过荷重元的量测可对射出力进行实时补偿，以进行全闭回路控制，达到高精密射出控制，同时透过全闭回路控制之射出力量测，亦可进行准确之保压控制，精准之计量背压。

2. 实用新型

TW570290U 用於奈米轉印之均勻施壓裝置失效
简体标题：用于奈米转印之均匀施压设备
公开(公告)号：TW570290U
公开(公告)日：2004-01-01
申请号：TW092208080
申请日：2003-05-02
申请人：財團法人工業技術研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：鍾永鎮 , 林家弘 , 許嘉峻 , 陳釧鋒 , 馮文宏 , 陳明祈 CHEN, MING CHU
IPC分类号： H01L
CPC分类号： B29C59/022 , B29C2059/023 , Y10S425/019
摘要：一種用於奈米轉印之均勻施壓裝置，係包括：具有至少一第一凸緣部的外罩；用以承載轉印用模具且具有至少一第二凸緣部的第一承載單元，以令該第二凸緣部可非固定地接置於該第一凸緣部上；用以承載基板的第二承載單元；至少一均勻施壓單元，係接設於轉印力之傳遞路徑上；以及動力源，係用以驅動該外罩與第二承載單元之其中至少一者，以藉該第一凸緣部與第二凸緣部之接置關係而使該轉印用模具與該基板進行一自由接觸，進而令該均勻施壓單元受壓而完成一兼顧有良好平行度與均勻施壓性的奈米轉印動作。本案代表圖：第1圖1 均勻施壓裝置 10 外罩11 第一凸緣部 12 容置空間13 外罩閉合端 20 第一承載單元21 第二凸緣部 22 模具23 奈米結構 30 第二承載單元31 基板 32 可成形材料層40 均勻施壓單元 40a 彈性膜40b 流體 50 動力源
简体摘要：一种用于奈米转印之均匀施压设备，系包括：具有至少一第一凸缘部的外罩；用以承载转印用模具且具有至少一第二凸缘部的第一承载单元，以令该第二凸缘部可非固定地接置于该第一凸缘部上；用以承载基板的第二承载单元；至少一均匀施压单元，系接设于转印力之传递路径上；以及动力源，系用以驱动该外罩与第二承载单元之其中至少一者，以藉该第一凸缘部与第二凸缘部之接置关系而使该转印用模具与该基板进行一自由接触，进而令该均匀施压单元受压而完成一兼顾有良好平行度与均匀施压性的奈米转印动作。本案代表图：第1图1 均匀施压设备 10 外罩11 第一凸缘部 12 容置空间13 外罩闭合端 20 第一承载单元21 第二凸缘部 22 模具23 奈米结构 30 第二承载单元31 基板 32 可成形材料层40 均匀施压单元 40a 弹性膜40b 流体 50 动力源

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式