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1. 发明专利

TW201415153A 自動對焦系統與自動對焦方法审中-公开
简体标题：自动对焦系统与自动对焦方法
公开(公告)号：TW201415153A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：TW101136168
申请日：2012-10-01
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：賴皇文 , LAI, HUANG WEN , 郭世炫 , KUO, SHIH HSUAN , 張樂融 , CHANG, LEH RONG
IPC分类号： G03B13/18 , G03B13/36
CPC分类号： G03B13/36 , G02B7/38
摘要：一種自動對焦系統包括：高度偵測模組用以在Z軸方向輸出複數偵測光，每個偵測光具有不同焦距和相異波長，使得在Z軸方向上產生色散範圍；影像偵測模組用以擷取聚焦位置的影像；位移單元用以在Z軸方向移動待測物，待測物具有外層表面和內層表面；處理單元根據高度偵測模組所接收的反射光譜中的能量尖峰的數量，判斷外層表面和內層表面是否在色散範圍，使得當外層表面和內層表面在色散範圍時，根據能量峰值所對應的反射波長計算出內層表面與聚焦位置之間的實際距離，以便根據實際距離藉由移位單元將內層表面移動至聚焦位置。
简体摘要：一种自动对焦系统包括：高度侦测模块用以在Z轴方向输出复数侦测光，每个侦测光具有不同焦距和相异波长，使得在Z轴方向上产生色散范围；影像侦测模块用以截取聚焦位置的影像；位移单元用以在Z轴方向移动待测物，待测物具有外层表面和内层表面；处理单元根据高度侦测模块所接收的反射光谱中的能量尖峰的数量，判断外层表面和内层表面是否在色散范围，使得当外层表面和内层表面在色散范围时，根据能量峰值所对应的反射波长计算出内层表面与聚焦位置之间的实际距离，以便根据实际距离借由移位单元将内层表面移动至聚焦位置。

2. 发明专利

TWI440947B 對焦方法與裝置有权
简体标题：对焦方法与设备
公开(公告)号：TWI440947B
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：TW098144927
申请日：2009-12-25
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：陳金亮 , CHEN, JIN LIANG , 王俊傑 , WANG, CHUN CHIEH , 王浩偉 , WANG, HAU WEI , 郭世炫 , KUO, SHIH HSUAN , 張樂融 , CHANG, LEH RONG , 賴皇文 , LAI, HUANG WEN
IPC分类号： G03B13/32
CPC分类号： G01J3/02 , G01J3/0237 , G01J3/027 , G01J3/0278 , G02B5/28

3. 发明专利

TWI384195B 振動位移與振動頻率決定方法與其裝置有权
简体标题：振动位移与振动频率决定方法与其设备
公开(公告)号：TWI384195B
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW097138634
申请日：2008-10-08
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE , 國立臺北科技大學 , NATIONAL TAIPEI UNIVERSITY OF TECHNOLOGY
发明人：陳金亮 , CHEN, JIN LIANG , 陳亮嘉 , CHEN, LIANG CHIA , 黃煥祺 , HUANG, HUANG CHI , 連俊泰 , LIEN, CHUN TAI , 鄒永桐 , ZOU, YONG TONG , 賴皇文 , LAI, HUANG WEN
IPC分类号： G01B11/24 , G01B9/02
CPC分类号： G01B11/2441

4. 发明专利

TW201122700A 對焦方法與裝置 METHOD AND APPARATUS FOR FOCUSING 审中-公开
简体标题：对焦方法与设备 METHOD AND APPARATUS FOR FOCUSING
公开(公告)号：TW201122700A
公开(公告)日：2011-07-01
申请号：TW098144927
申请日：2009-12-25
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：陳金亮 , 王俊傑 , 王浩偉 , 郭世炫 , 張樂融 , 賴皇文
IPC分类号： G03B
CPC分类号： G01J3/02 , G01J3/0237 , G01J3/027 , G01J3/0278 , G02B5/28
摘要：本發明提供一種對焦方法與裝置，其係利用具有高色散以及低色散特性之色散鏡組將一寬頻光調制成一色散光，再將該色散光投射至一物體上，以形成一物光。經由濾光與分光的程序，使得該物光中對應高色散的波段被用來偵測該物體之表面形貌所具有的高度資訊。再根據該高度資訊使該色散光中關於該低色散的波段的光聚焦在該物體之表面上。經由濾波的方式，使該物光中對應該低色散波段之光投射至一影像感測裝置上以得到關於該物體表面之一清晰對焦影像。
简体摘要：本发明提供一种对焦方法与设备，其系利用具有高色散以及低色散特性之色散镜组将一宽带光调制成一色散光，再将该色散光投射至一物体上，以形成一物光。经由滤光与分光的进程，使得该物光中对应高色散的波段被用来侦测该物体之表面形貌所具有的高度信息。再根据该高度信息使该色散光中关于该低色散的波段的光聚焦在该物体之表面上。经由滤波的方式，使该物光中对应该低色散波段之光投射至一影像传感设备上以得到关于该物体表面之一清晰对焦影像。

5. 发明专利

TW201015045A 振動位移與振動頻率決定方法與其裝置 METHOD FOR DETERMINING VIBRATION DISPLACEMENT AND VIBRATING FREQUENCY AND APPARATUS USING THE SAME 审中-公开
简体标题：振动位移与振动频率决定方法与其设备 METHOD FOR DETERMINING VIBRATION DISPLACEMENT AND VIBRATING FREQUENCY AND APPARATUS USING THE SAME
公开(公告)号：TW201015045A
公开(公告)日：2010-04-16
申请号：TW097138634
申请日：2008-10-08
申请人：財團法人工業技術研究院 , 國立臺北科技大學
发明人：陳金亮 , 陳亮嘉 , 黃煥祺 , 連俊泰 , 鄒永桐 , 賴皇文
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B11/2441
摘要：一種干涉振動位移決定方法，透過具有相位差之高同調干涉圖案上之光訊號，取得待測物與干涉裝置上之一參考面之間之位置偏移量。利用前述之方法重複進行複數次的量測之後，建立出偏移量與時間之關係序列，再根據該序列決定出該待測物之振動頻率。在另一實施例中，揭露一干涉裝置，其係利用光學干涉條紋判定的技術，即時計算出待測物與干涉裝置上之一參考面之相對位置，進而即時補償干涉裝置受到振動時之影響，以得到待測物表面形貌與振動頻率。
简体摘要：一种干涉振动位移决定方法，透过具有相位差之高同调干涉图案上之光信号，取得待测物与干涉设备上之一参考面之间之位置偏移量。利用前述之方法重复进行复数次的量测之后，创建出偏移量与时间之关系串行，再根据该串行决定出该待测物之振动频率。在另一实施例中，揭露一干涉设备，其系利用光学干涉条纹判定的技术，实时计算出待测物与干涉设备上之一参考面之相对位置，进而实时补偿干涉设备受到振动时之影响，以得到待测物表面形貌与振动频率。

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