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1. 发明专利

TW202005040A 靜電防護複合結構、靜電防護元件及其製造方法审中-公开
简体标题：静电防护复合结构、静电防护组件及其制造方法
公开(公告)号：TW202005040A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW107118025
申请日：2018-05-25
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：王鼎翔 , WANG, DING-SHIANG , 張嘉珍 , CHANG, JIA-JEN , 呂明生 , LEU, MING-SHENG , 陳泰盛 , CHEN, TAI-SHENG , 施進德 , SHIH, CHIN-TE
IPC分类号： H01L23/60 , H01L21/56
摘要：一種靜電防護複合結構，包括鍵結層、漸進層以及複合層。鍵結層用於設置於基板上，其中鍵結層的材質包括金屬材料。漸進層設置於鍵結層上，其中漸進層的材質包括非化學計量金屬氧化物材料，而且在漸進層的厚度方向中，非化學計量金屬氧化物材料中的氧濃度隨著遠離基板而逐漸增加。複合層設置於漸進層上，其中複合層包括化學計量金屬氧化物材料以及非化學計量金屬氧化物材料，而且複合層中的非化學計量金屬氧化物材料與化學計量金屬氧化物材料的比例能夠使複合層的片電阻值為1×107～1×108Ω/sq。
简体摘要：一种静电防护复合结构，包括键结层、渐进层以及复合层。键结层用于设置于基板上，其中键结层的材质包括金属材料。渐进层设置于键结层上，其中渐进层的材质包括非化学计量金属氧化物材料，而且在渐进层的厚度方向中，非化学计量金属氧化物材料中的氧浓度随着远离基板而逐渐增加。复合层设置于渐进层上，其中复合层包括化学计量金属氧化物材料以及非化学计量金属氧化物材料，而且复合层中的非化学计量金属氧化物材料与化学计量金属氧化物材料的比例能够使复合层的片电阻值为1×107～1×108Ω/sq。

2. 发明专利

TW201031766A 真空鍍膜裝置及鍍膜方法 VACUUM COATING DEVICE AND COATING METHOD 审中-公开
简体标题：真空镀膜设备及镀膜方法 VACUUM COATING DEVICE AND COATING METHOD
公开(公告)号：TW201031766A
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：TW098105765
申请日：2009-02-24
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：吳金寶 , 陳肇英 , 施進德 , 呂明生
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C14/325 , H01J37/34 , H01J37/3438
摘要：本發明揭示一種真空鍍膜裝置,其包括:一陰極靶材、複數陽極、一運送裝置、一脈衝電弧放電裝置、以及一脈衝雷射裝置。運送裝置用以放置及移動陽極,使每一陽極依序經過一可操作位置。脈衝電弧放電裝置電性連接陰極靶材與位於可操作位置的陽極,用以在一真空腔體內產生電漿來進行鍍膜。脈衝雷射裝置設置於真空腔體外,用以提供一脈衝雷射光束至陰極靶材表面,以作為一電漿觸發器。本發明亦揭示一種鍍膜方法,適用於上述真空鍍膜裝置。
简体摘要：本发明揭示一种真空镀膜设备,其包括:一阴极靶材、复数阳极、一运送设备、一脉冲电弧放电设备、以及一脉冲激光设备。运送设备用以放置及移动阳极,使每一阳极依序经过一可操作位置。脉冲电弧放电设备电性连接阴极靶材与位于可操作位置的阳极,用以在一真空腔体内产生等离子来进行镀膜。脉冲激光设备设置于真空腔体外,用以提供一脉冲激光光束至阴极靶材表面,以作为一等离子触发器。本发明亦揭示一种镀膜方法,适用于上述真空镀膜设备。

3. 发明专利

TWI379916B 真空鍍膜裝置及鍍膜方法 VACUUM COATING DEVICE AND COATING METHOD 有权
简体标题：真空镀膜设备及镀膜方法 VACUUM COATING DEVICE AND COATING METHOD
公开(公告)号：TWI379916B
公开(公告)日：2012-12-21
申请号：TW098105765
申请日：2009-02-24
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：吳金寶 , 陳肇英 , 施進德 , 呂明生
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C14/325 , H01J37/34 , H01J37/3438
摘要：本發明揭示一種真空鍍膜裝置，其包括：一陰極靶材、複數陽極、一運送裝置、一脈衝電弧放電裝置、以及一脈衝雷射裝置。運送裝置用以放置及移動陽極，使每一陽極依序經過一可操作位置。脈衝電弧放電裝置電性連接陰極靶材與位於可操作位置的陽極，用以在一真空腔體內產生電漿來進行鍍膜。脈衝雷射裝置設置於真空腔體外，用以提供一脈衝雷射光束至陰極靶材表面，以作為一電漿觸發器。本發明亦揭示一種鍍膜方法，適用於上述真空鍍膜裝置。
简体摘要：本发明揭示一种真空镀膜设备，其包括：一阴极靶材、复数阳极、一运送设备、一脉冲电弧放电设备、以及一脉冲激光设备。运送设备用以放置及移动阳极，使每一阳极依序经过一可操作位置。脉冲电弧放电设备电性连接阴极靶材与位于可操作位置的阳极，用以在一真空腔体内产生等离子来进行镀膜。脉冲激光设备设置于真空腔体外，用以提供一脉冲激光光束至阴极靶材表面，以作为一等离子触发器。本发明亦揭示一种镀膜方法，适用于上述真空镀膜设备。

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