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    • 4. 发明专利
    • 雜散光之評估方法 ESTIMATATION METHOD OF VEILING GLARE
    • 杂散光之评估方法 ESTIMATATION METHOD OF VEILING GLARE
    • TWI378231B
    • 2012-12-01
    • TW096132877
    • 2007-09-04
    • 財團法人工業技術研究院
    • 張銓仲吳宜玲曹孝岳
    • G01M
    • 一種雜散光之評估方法與雜散光量測系統。其中雜散光量測系統之光源可分別位於待測光學元件或待測光學系統之光軸上與光軸外。雜散光之評估方法包括得到第一光擴散函數與第二光擴散函數,另外,將第一光擴散函數與第一光擴散函數進行相關運算,以得到第一相關函數,並且將第一光擴散函數與第二光擴散函數進行相關運算,以得到第二相關函數。再者,依據第一相關函數與第二相關函數得到雜散光係數或雜散光分佈函數。如此一來即可依據雜散光係數或雜散光分佈函數評估光學元件或光學系統之雜散光情形。
    • 一种杂散光之评估方法与杂散光量测系统。其中杂散光量测系统之光源可分别位于待测光学组件或待测光学系统之光轴上与光轴外。杂散光之评估方法包括得到第一光扩散函数与第二光扩散函数,另外,将第一光扩散函数与第一光扩散函数进行相关运算,以得到第一相关函数,并且将第一光扩散函数与第二光扩散函数进行相关运算,以得到第二相关函数。再者,依据第一相关函数与第二相关函数得到杂散光系数或杂散光分布函数。如此一来即可依据杂散光系数或杂散光分布函数评估光学组件或光学系统之杂散光情形。