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1. 发明专利

TWI384195B 振動位移與振動頻率決定方法與其裝置有权
简体标题：振动位移与振动频率决定方法与其设备
公开(公告)号：TWI384195B
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW097138634
申请日：2008-10-08
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE , 國立臺北科技大學 , NATIONAL TAIPEI UNIVERSITY OF TECHNOLOGY
发明人：陳金亮 , CHEN, JIN LIANG , 陳亮嘉 , CHEN, LIANG CHIA , 黃煥祺 , HUANG, HUANG CHI , 連俊泰 , LIEN, CHUN TAI , 鄒永桐 , ZOU, YONG TONG , 賴皇文 , LAI, HUANG WEN
IPC分类号： G01B11/24 , G01B9/02
CPC分类号： G01B11/2441

2. 发明专利

TW201015045A 振動位移與振動頻率決定方法與其裝置 METHOD FOR DETERMINING VIBRATION DISPLACEMENT AND VIBRATING FREQUENCY AND APPARATUS USING THE SAME 审中-公开
简体标题：振动位移与振动频率决定方法与其设备 METHOD FOR DETERMINING VIBRATION DISPLACEMENT AND VIBRATING FREQUENCY AND APPARATUS USING THE SAME
公开(公告)号：TW201015045A
公开(公告)日：2010-04-16
申请号：TW097138634
申请日：2008-10-08
申请人：財團法人工業技術研究院 , 國立臺北科技大學
发明人：陳金亮 , 陳亮嘉 , 黃煥祺 , 連俊泰 , 鄒永桐 , 賴皇文
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B11/2441
摘要：一種干涉振動位移決定方法，透過具有相位差之高同調干涉圖案上之光訊號，取得待測物與干涉裝置上之一參考面之間之位置偏移量。利用前述之方法重複進行複數次的量測之後，建立出偏移量與時間之關係序列，再根據該序列決定出該待測物之振動頻率。在另一實施例中，揭露一干涉裝置，其係利用光學干涉條紋判定的技術，即時計算出待測物與干涉裝置上之一參考面之相對位置，進而即時補償干涉裝置受到振動時之影響，以得到待測物表面形貌與振動頻率。
简体摘要：一种干涉振动位移决定方法，透过具有相位差之高同调干涉图案上之光信号，取得待测物与干涉设备上之一参考面之间之位置偏移量。利用前述之方法重复进行复数次的量测之后，创建出偏移量与时间之关系串行，再根据该串行决定出该待测物之振动频率。在另一实施例中，揭露一干涉设备，其系利用光学干涉条纹判定的技术，实时计算出待测物与干涉设备上之一参考面之相对位置，进而实时补偿干涉设备受到振动时之影响，以得到待测物表面形貌与振动频率。

3. 发明专利

TW201426102A 電光調制器的製造方法及應用此方法製成的電光調制器审中-公开
简体标题：电光调制器的制造方法及应用此方法制成的电光调制器
公开(公告)号：TW201426102A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW101148590
申请日：2012-12-20
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：鄒永桐 , ZOU, YONG TONG , 謝依萍 , HSIEH, YI PING
IPC分类号： G02F1/1334 , G02F1/13
摘要：電光調制器的製造方法包括以下步驟。首先，提供基板，基板包括透光基板及導電膜，導電膜形成於透光基板上。然後，利用塗佈形成單層液晶聚合材料層於導電膜上，其中液晶聚合材料包括混合之液晶分子、光趨官能基及光起始劑。然後，透過離型層加壓液晶聚合材料層。然後，藉由光線的控制，以第一光線透過離型層照射液晶聚合材料層，使光起始劑之一些及光趨官能基之一些往第一光線的方向聚集，進而使形成一聚合保護膜。然後，以第二光線透過透光基板照射光起始劑之另一些及其餘具不同反應性之光趨官能基之另一些，而形成液晶層。然後，移除離型層，以露出聚合保護膜。
简体摘要：电光调制器的制造方法包括以下步骤。首先，提供基板，基板包括透光基板及导电膜，导电膜形成于透光基板上。然后，利用涂布形成单层液晶聚合材料层于导电膜上，其中液晶聚合材料包括混合之液晶分子、光趋官能基及光起始剂。然后，透过离型层加压液晶聚合材料层。然后，借由光线的控制，以第一光线透过离型层照射液晶聚合材料层，使光起始剂之一些及光趋官能基之一些往第一光线的方向聚集，进而使形成一聚合保护膜。然后，以第二光线透过透光基板照射光起始剂之另一些及其余具不同反应性之光趋官能基之另一些，而形成液晶层。然后，移除离型层，以露出聚合保护膜。

4. 发明专利

TW201207418A 基板電性的量測設備 MEASUREMENT APPARATUSES FOR CONDUCTIVE PATTERNS ON SUBSTRATES 审中-公开
简体标题：基板电性的量测设备 MEASUREMENT APPARATUSES FOR CONDUCTIVE PATTERNS ON SUBSTRATES
公开(公告)号：TW201207418A
公开(公告)日：2012-02-16
申请号：TW099125577
申请日：2010-08-02
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：鄒永桐 , 劉定坤 , 王浩偉 , 詹智翔
IPC分类号： G01R
CPC分类号： G01R31/309 , G01R31/2805
摘要：本發明提供基板電性的量測設備。上述基板電性的量測設備包括一電光調製裝置,設置於一檢測滾輪外圍。一待測基板,傳輸於傳動滾輪之間,並與該電光調製裝置接觸。一電壓供應裝置,提供一電壓差於該電光調製裝置與該待測基板之間,以及一光源系統提供一檢測光於該待測基板上,該檢測光經反射後由一取像系統接收。
简体摘要：本发明提供基板电性的量测设备。上述基板电性的量测设备包括一电光调制设备,设置于一检测滚轮外围。一待测基板,传输于传动滚轮之间,并与该电光调制设备接触。一电压供应设备,提供一电压差于该电光调制设备与该待测基板之间,以及一光源系统提供一检测光于该待测基板上,该检测光经反射后由一取像系统接收。

5. 发明专利

TWI467162B 電光調變裝置、電光檢測器及其檢測方法有权
简体标题：电光调制设备、电光检测器及其检测方法
公开(公告)号：TWI467162B
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW100132013
申请日：2011-09-06
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：鄒永桐 , ZOU, YONG TONG , 王浩偉 , WANG, HAU WEI , 劉定坤 , LIU, DING KUN
IPC分类号： G01N21/956 , G02F1/03

6. 发明专利

TWI499834B 電光調制器的製造方法及應用此方法製成的電光調制器有权
简体标题：电光调制器的制造方法及应用此方法制成的电光调制器
公开(公告)号：TWI499834B
公开(公告)日：2015-09-11
申请号：TW101148590
申请日：2012-12-20
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：鄒永桐 , ZOU, YONG TONG , 謝依萍 , HSIEH, YI PING
IPC分类号： G02F1/1334 , G02F1/13

7. 发明专利

TWI426286B 基板電性的量測設備有权
简体标题：基板电性的量测设备
公开(公告)号：TWI426286B
公开(公告)日：2014-02-11
申请号：TW099125577
申请日：2010-08-02
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：鄒永桐 , ZOU, YONG TONG , 劉定坤 , LIU, DING KUN , 王浩偉 , WANG, HAU WEI , 詹智翔 , CHAN, CHIH HSIANG
IPC分类号： G01R31/308
CPC分类号： G01R31/309 , G01R31/2805

8. 发明专利

TW201243318A 電光調變裝置、電光檢測器及其檢測方法 ELECTRO OPTICAL MODULATOR ELECTRO OPTICAL SENSOR AND DETECTING METHOD THEREOF 审中-公开
简体标题：电光调制设备、电光检测器及其检测方法 ELECTRO OPTICAL MODULATOR ELECTRO OPTICAL SENSOR AND DETECTING METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW201243318A
公开(公告)日：2012-11-01
申请号：TW100132013
申请日：2011-09-06
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：鄒永桐 , 王浩偉 , 劉定坤
IPC分类号： G01N , G02F
摘要：本揭露涉及一種電光檢測器，其包含一光源產生裝置、一電光調變裝置、一支撐模組以及一取像模組。該光源產生裝置發射一光束。該電光調變裝置調變該光束後該光束入射一待測物。該支撐模組包含一透明基板，該透明基板支撐該待測物並使調變後的該光束入射該透明基板。該取像模組轉變該支撐模組所反射的該光束而成一影像訊號。
简体摘要：本揭露涉及一种电光检测器，其包含一光源产生设备、一电光调制设备、一支撑模块以及一取像模块。该光源产生设备发射一光束。该电光调制设备调制该光束后该光束入射一待测物。该支撑模块包含一透明基板，该透明基板支撑该待测物并使调制后的该光束入射该透明基板。该取像模块转变该支撑模块所反射的该光束而成一影像信号。

9. 发明专利

TWI364540B 懸臂樑感測系統，以及具有該懸臂樑感測系統之輪廓儀及生化感測器 CANTILEVER SENSOR SYSTEM AND PROFILERS AND BIOSENSORS USING THE SAME 有权
简体标题：悬臂梁传感系统，以及具有该悬臂梁传感系统之轮廓仪及生化传感器 CANTILEVER SENSOR SYSTEM AND PROFILERS AND BIOSENSORS USING THE SAME
公开(公告)号：TWI364540B
公开(公告)日：2012-05-21
申请号：TW096150742
申请日：2007-12-28
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：戴鴻名 , 陳金亮 , 鄒永桐
IPC分类号： G01Q , G01B
CPC分类号： G01B9/02023 , G01B9/02057 , G01B9/02072 , G01Q20/02
摘要：本發明係提供一種懸臂樑感測系統，以及具有該系統之輪廓儀及生化感測器，該懸臂樑感測系統由一干涉物鏡模組、一懸臂樑模組及一影像擷取裝置構成，該干涉物鏡模組具有一光源、一分光單元及一干涉物鏡，由光源提供光束，經由分光單元、干涉物鏡作用，並投射至該懸臂樑模組，反射光束返回後與參考光束形成干涉，再由影像擷取裝置擷取該干涉光束所形成之干涉條紋影像；藉此構成一種能夠同時觀看懸臂樑感測器、懸臂樑感測器附近物體，並感測懸臂樑感測器偏折之懸臂樑感測器系統；將該懸臂樑感測系統應用於輪廓儀及生化感測器，大幅度改善儀器之便利性與擴展性。
简体摘要：本发明系提供一种悬臂梁传感系统，以及具有该系统之轮廓仪及生化传感器，该悬臂梁传感系统由一干涉物镜模块、一悬臂梁模块及一影像截取设备构成，该干涉物镜模块具有一光源、一分光单元及一干涉物镜，由光源提供光束，经由分光单元、干涉物镜作用，并投射至该悬臂梁模块，反射光束返回后与参考光束形成干涉，再由影像截取设备截取该干涉光束所形成之干涉条纹影像；借此构成一种能够同时观看悬臂梁传感器、悬臂梁传感器附近物体，并传感悬臂梁传感器偏折之悬臂梁传感器系统；将该悬臂梁传感系统应用于轮廓仪及生化传感器，大幅度改善仪器之便利性与扩展性。

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