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1. 发明专利

TWI388954B 調整晶圓製造優先順序之方法有权
简体标题：调整晶圆制造优先级之方法
公开(公告)号：TWI388954B
公开(公告)日：2013-03-11
申请号：TW098111357
申请日：2009-04-06
申请人：華亞科技股份有限公司 , INOTERA MEMORIES, INC.
发明人：田昀宗 , TIAN, YUN ZONG , 陳俊琦 , CHEN, CHUN CHI , 李藝鋒 , LEE, YI FENG , 陳韋郡 , CHEN, WEI JUN , 高世昌 , KAO, SHIH CHANG , 朱怡潔 , CHU, YIJ CHIEH , 陳振豪 , CHEN, CHENG HAO
IPC分类号： G05B19/418 , H01L21/00
CPC分类号： G05B19/41865 , G05B2219/32015 , G05B2219/32016 , G05B2219/32019 , G05B2219/45031 , Y02P90/20

2. 发明专利

TWI537845B 半導體製程管制規格之制定方法有权
简体标题：半导体制程管制规格之制定方法
公开(公告)号：TWI537845B
公开(公告)日：2016-06-11
申请号：TW099135793
申请日：2010-10-20
申请人：華亞科技股份有限公司 , INOTERA MEMORIES, INC.
发明人：陳振豪 , CHEN, CHENG HAO , 田昀宗 , TIAN, YUN ZONG , 高世昌 , KAO, SHIN CHANG , 朱怡潔 , CHU, YIJ CHIEH , 陳韋郡 , CHEN, WEI JUN
IPC分类号： G06Q10/00 , G05B19/418 , H01L21/02
CPC分类号： G05B19/41865 , G05B2219/32201 , G05B2219/45031 , H01L22/20 , Y02P90/20 , Y02P90/22

3. 发明专利

TWI388953B 製程參數的監視方法有权
简体标题：制程参数的监视方法
公开(公告)号：TWI388953B
公开(公告)日：2013-03-11
申请号：TW098107808
申请日：2009-03-11
申请人：華亞科技股份有限公司 , INOTERA MEMORIES, INC.
发明人：李藝鋒 , LEE, YI FENG , 陳俊琦 , CHEN, CHUN CHI , 田昀宗 , TIAN, YUN ZONG , 陳韋郡 , CHEN, WEI JUN
IPC分类号： G05B19/418
CPC分类号： G05B19/41875 , G05B2219/31483 , G05B2219/32191 , G05B2219/45031 , H01L22/20 , Y02P90/22

4. 发明专利

TWI472939B 良率損失估算方法及相關電腦可讀媒體有权
简体标题：良率损失估算方法及相关电脑可读媒体
公开(公告)号：TWI472939B
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：TW098141503
申请日：2009-12-04
申请人：華亞科技股份有限公司 , INOTERA MEMORIES, INC.
发明人：朱怡潔 , CHU, YIJ CHIEH , 田昀宗 , TIAN, YUN ZONG , 高世昌 , KAO, SHIH CHANG , 陳韋郡 , CHEN, WEI JUN , 陳振豪 , CHEN, CHENG HAO
IPC分类号： G06F17/50 , G06F17/00
CPC分类号： G05B19/41875 , G05B2219/32194 , Y02P90/22 , Y02P90/86

5. 发明专利

TWI389050B 尋找產品良率與預防維護兩者間之關聯性的方法有权
简体标题：寻找产品良率与预防维护两者间之关联性的方法
公开(公告)号：TWI389050B
公开(公告)日：2013-03-11
申请号：TW098107805
申请日：2009-03-11
申请人：華亞科技股份有限公司 , INOTERA MEMORIES, INC.
发明人：李藝鋒 , LEE, YI FENG , 陳俊琦 , CHEN, CHUN CHI , 田昀宗 , TIAN, YUN ZONG , 陳韋郡 , CHEN, WEI JUN , 林宗威 , LIN, TUSNG WEI
IPC分类号： G06Q50/00 , G06F17/18
CPC分类号： G06Q10/06

6. 发明专利

TWI388952B 基於使用者需求之半導體加工排程最佳化規劃方法有权
简体标题：基于用户需求之半导体加工调度最优化规划方法
公开(公告)号：TWI388952B
公开(公告)日：2013-03-11
申请号：TW098104297
申请日：2009-02-11
申请人：華亞科技股份有限公司 , INOTERA MEMORIES, INC.
发明人：陳韋郡 , CHEN, WEI JUN , 陳俊琦 , CHEN, CHUN CHI , 田昀宗 , TIAN, YUN ZONG , 李藝鋒 , LEE, YI FENG , 林宗威 , LIN, TUSNG WEI
IPC分类号： G05B19/418 , G06Q10/00
CPC分类号： G06N3/126 , G06N7/02

7. 发明专利

TW201135613A 規劃機台之生產排程的方法以及相關電腦可讀媒體 METHOD FOR PLANNING PRODUCTION SCHEDULE OF EQUIPMENT AND ASSOCIATED COMPUTER READABLE MEDIUM 审中-公开
简体标题：规划机台之生产调度的方法以及相关电脑可读媒体 METHOD FOR PLANNING PRODUCTION SCHEDULE OF EQUIPMENT AND ASSOCIATED COMPUTER READABLE MEDIUM
公开(公告)号：TW201135613A
公开(公告)日：2011-10-16
申请号：TW099110736
申请日：2010-04-07
申请人：華亞科技股份有限公司
发明人：陳韋郡 , 田昀宗 , 朱怡潔 , 李藝鋒
IPC分类号： G06Q , G05B
CPC分类号： G06Q10/06 , Y02P90/86
摘要：一種規劃一機台之生產排程的方法包含有：接收至少有關該機台之一製程材料更換的相關資訊；以及依據所接收之至少該機台之該製程材料更換的相關資訊來決定出該機台之一目標生產排程，其中該目標生產排程中具有至少一閒置期間，且於該閒置期間，該機台係在可正常運作的狀態下停止生產產品。
简体摘要：一种规划一机台之生产调度的方法包含有：接收至少有关该机台之一制程材料更换的相关信息；以及依据所接收之至少该机台之该制程材料更换的相关信息来决定出该机台之一目标生产调度，其中该目标生产调度中具有至少一闲置期间，且于该闲置期间，该机台系在可正常运作的状态下停止生产产品。

8. 发明专利

TW201117128A 晶圓允收度預測及警示方法 ADVANCED WAT PREDICT AND WARNING SYSTEM 审中-公开
简体标题：晶圆允收度预测及警示方法 ADVANCED WAT PREDICT AND WARNING SYSTEM
公开(公告)号：TW201117128A
公开(公告)日：2011-05-16
申请号：TW098137722
申请日：2009-11-06
申请人：華亞科技股份有限公司
发明人：李藝鋒 , 高世昌 , 田昀宗 , 陳韋郡
IPC分类号： G06Q , H01L
CPC分类号： H01L22/20
摘要：一種晶圓允收度預測及警示方法，其步驟包括：選擇一關鍵製程，以該關鍵製程完成後的晶圓允收度作為預測的目標；建立預測模型；準備一批或複數批預測晶圓，從該些預測晶圓中，蒐集該關鍵製程的生產製程參數及量測參數；以及將從該些預測晶圓蒐集而來的生產製程參數及量測參數，輸入預測模型進行正式的預測，並由該預測模型輸出該些預測晶圓之預測晶圓允收度。本發明能準確地預測晶圓允收度，可以有效監控特定異常晶圓，並對異常晶圓施以後續的改善措施。
简体摘要：一种晶圆允收度预测及警示方法，其步骤包括：选择一关键制程，以该关键制程完成后的晶圆允收度作为预测的目标；创建预测模型；准备一批或复数批预测晶圆，从该些预测晶圆中，搜集该关键制程的生产制程参数及量测参数；以及将从该些预测晶圆搜集而来的生产制程参数及量测参数，输入预测模型进行正式的预测，并由该预测模型输出该些预测晶圆之预测晶圆允收度。本发明能准确地预测晶圆允收度，可以有效监控特定异常晶圆，并对异常晶圆施以后续的改善措施。

9. 发明专利

TW201033928A 尋找產品良率與預防維護兩者間之關聯性的方法 METHOD FOR SEARCHING OUT THE CORRELATION BETWEEN THE TOOL PM AND THE PRODUCT YIELD 审中-公开
简体标题：寻找产品良率与预防维护两者间之关联性的方法 METHOD FOR SEARCHING OUT THE CORRELATION BETWEEN THE TOOL PM AND THE PRODUCT YIELD
公开(公告)号：TW201033928A
公开(公告)日：2010-09-16
申请号：TW098107805
申请日：2009-03-11
申请人：華亞科技股份有限公司
发明人：李藝鋒 , 陳俊琦 , 田昀宗 , 陳韋郡 , 林宗威
IPC分类号： G06Q , G06F
CPC分类号： G06Q10/06
摘要：本發明係揭露一種尋找產品良率與預防維護兩者間之關聯性的方法，其透過移動平均法，以使得每一台工具機在維修前的預定天數內及維修後的預定天數內之所有最終產品良率資料所形成之曲線的趨勢放大，並且將上述趨勢被放大的每一個曲線以CUSUM圖的樣式呈現出來；最後透過每一張CUSUM圖的分析，相關人員將會得到「此次進行工具機的預防維護對最終產品良率的影響率為何」之通知訊息，以使得工具機之預防維護的時機能夠抓的更準確。因此，透過本發明的方法將有效得知「此次進行工具機的預防維護對最終產品良率的影響率為何」，以作為未來進行工具機之預防維護的重要參考資料。
简体摘要：本发明系揭露一种寻找产品良率与预防维护两者间之关联性的方法，其透过移动平均法，以使得每一台工具机在维修前的预定天数内及维修后的预定天数内之所有最终产品良率数据所形成之曲线的趋势放大，并且将上述趋势被放大的每一个曲线以CUSUM图的样式呈现出来；最后透过每一张CUSUM图的分析，相关人员将会得到“此次进行工具机的预防维护对最终产品良率的影响率为何”之通知消息，以使得工具机之预防维护的时机能够抓的更准确。因此，透过本发明的方法将有效得知“此次进行工具机的预防维护对最终产品良率的影响率为何”，以作为未来进行工具机之预防维护的重要参考数据。

10. 发明专利

TW201037472A 調整晶圓製造優先順序之方法 METHOD FOR ADJUSTING PRIORITY OF LOT OF WAFER 审中-公开
简体标题：调整晶圆制造优先级之方法 METHOD FOR ADJUSTING PRIORITY OF LOT OF WAFER
公开(公告)号：TW201037472A
公开(公告)日：2010-10-16
申请号：TW098111357
申请日：2009-04-06
申请人：華亞科技股份有限公司
发明人：田昀宗 , 陳俊琦 , 李藝鋒 , 陳韋郡 , 高世昌 , 朱怡潔 , 陳振豪
IPC分类号： G05B , H01L
CPC分类号： G05B19/41865 , G05B2219/32015 , G05B2219/32016 , G05B2219/32019 , G05B2219/45031 , Y02P90/20
摘要：一種調整晶圓製造優先順序之方法，包括步驟如下：收集多數批晶圓的多數個製造參數；從該些製造參數中選擇多數個關鍵的製造參數，該些關鍵的製造參數至少包括一製造優先順序；定義一數學式計算一鄰近值；定義一最少點數；使用一具有雜訊之密度基礎空間分群應用法，並依據該鄰近值及該最少點數，來將該些批晶圓分成多數個群組；以及調整該些群組中的該些批晶圓的製造優先順序。藉此，相同製程的批晶圓能連續或同時送入至一機台內加工，讓該機台切換製程的次數減少，或是讓機台閒置的時間變短。
简体摘要：一种调整晶圆制造优先级之方法，包括步骤如下：收集多数批晶圆的多数个制造参数；从该些制造参数中选择多数个关键的制造参数，该些关键的制造参数至少包括一制造优先级；定义一数学式计算一邻近值；定义一最少点数；使用一具有噪声之密度基础空间分群应用法，并依据该邻近值及该最少点数，来将该些批晶圆分成多数个群组；以及调整该些群组中的该些批晶圆的制造优先级。借此，相同制程的批晶圆能连续或同时送入至一机台内加工，让该机台切换制程的次数减少，或是让机台闲置的时间变短。

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