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1. 发明专利

TWI537845B 半導體製程管制規格之制定方法有权
简体标题：半导体制程管制规格之制定方法
公开(公告)号：TWI537845B
公开(公告)日：2016-06-11
申请号：TW099135793
申请日：2010-10-20
申请人：華亞科技股份有限公司 , INOTERA MEMORIES, INC.
发明人：陳振豪 , CHEN, CHENG HAO , 田昀宗 , TIAN, YUN ZONG , 高世昌 , KAO, SHIN CHANG , 朱怡潔 , CHU, YIJ CHIEH , 陳韋郡 , CHEN, WEI JUN
IPC分类号： G06Q10/00 , G05B19/418 , H01L21/02
CPC分类号： G05B19/41865 , G05B2219/32201 , G05B2219/45031 , H01L22/20 , Y02P90/20 , Y02P90/22

2. 发明专利

TW201033772A 多機台之監控方法 MONITOR METHOD FOR MULTI TOOLS 审中-公开
简体标题：多机台之监控方法 MONITOR METHOD FOR MULTI TOOLS
公开(公告)号：TW201033772A
公开(公告)日：2010-09-16
申请号：TW098106632
申请日：2009-03-02
申请人：華亞科技股份有限公司
发明人：朱怡潔 , 陳俊琦 , 田昀宗 , 高世昌 , 陳振豪
IPC分类号： G05B
CPC分类号： G05B19/4183 , G05B2219/31294 , G05B2219/45031 , Y02P90/10
摘要：一種多機台之監控方法，包括如下步驟：提供複數個量測機台，且使用該些量測機台在一預定時間量測一標準晶圓上之複數個測試點之量測值；利用該量測值計算代表每一量測機台之向量；計算每一個代表每一量測機台之向量間的角度差；以及利用該角度差判斷該些量測機台是否具有相同的量測表現，藉此可將量測機台予以歸類，更可以分析每一量測機台之穩定度。
简体摘要：一种多机台之监控方法，包括如下步骤：提供复数个量测机台，且使用该些量测机台在一预定时间量测一标准晶圆上之复数个测试点之量测值；利用该量测值计算代表每一量测机台之矢量；计算每一个代表每一量测机台之矢量间的角度差；以及利用该角度差判断该些量测机台是否具有相同的量测表现，借此可将量测机台予以归类，更可以分析每一量测机台之稳定度。

3. 发明专利

TWI447605B 半導體製程之失效偵測方法及執行此方法之系統架構有权
简体标题：半导体制程之失效侦测方法及运行此方法之系统架构
公开(公告)号：TWI447605B
公开(公告)日：2014-08-01
申请号：TW100121808
申请日：2011-06-22
申请人：華亞科技股份有限公司 , INOTERA MEMORIES, INC.
发明人：朱怡潔 , CHU, YIJ CHIEH , 田昀宗 , TIAN, YUN ZONG
IPC分类号： G06F19/00 , H01L21/66
CPC分类号： G06F19/00 , G05B19/4184 , G06T7/001 , G06T2207/30148 , H01L22/12 , H01L22/14 , H01L22/20 , Y02P90/14

4. 发明专利

TWI388954B 調整晶圓製造優先順序之方法有权
简体标题：调整晶圆制造优先级之方法
公开(公告)号：TWI388954B
公开(公告)日：2013-03-11
申请号：TW098111357
申请日：2009-04-06
申请人：華亞科技股份有限公司 , INOTERA MEMORIES, INC.
发明人：田昀宗 , TIAN, YUN ZONG , 陳俊琦 , CHEN, CHUN CHI , 李藝鋒 , LEE, YI FENG , 陳韋郡 , CHEN, WEI JUN , 高世昌 , KAO, SHIH CHANG , 朱怡潔 , CHU, YIJ CHIEH , 陳振豪 , CHEN, CHENG HAO
IPC分类号： G05B19/418 , H01L21/00
CPC分类号： G05B19/41865 , G05B2219/32015 , G05B2219/32016 , G05B2219/32019 , G05B2219/45031 , Y02P90/20

5. 发明专利

TW201003447A 偵測半導體製程變異之方法 A METHOD OF DETECTING VARIANCE BY REGRESSION MODEL 审中-公开
简体标题：侦测半导体制程变异之方法 A METHOD OF DETECTING VARIANCE BY REGRESSION MODEL
公开(公告)号：TW201003447A
公开(公告)日：2010-01-16
申请号：TW097125844
申请日：2008-07-09
申请人：華亞科技股份有限公司
发明人：朱怡潔 , 陳俊琦 , 田昀宗 , 李藝鋒
IPC分类号： G06F , H01L
CPC分类号： G05B23/024 , G05B23/0294 , G05B2219/37224
摘要：一種偵測半導體製程變異之方法，藉由關聯性統計分析，偵測半導體製程變異的原因，其步驟包括有：收集並前處理複數個機台製程資料、複數個第一原始資料與複數個第二原始資料；接著，使用一第一統計分析方法簡化該等第一原始資料，得到複數個關聯資料；然後，使用一第二統計分析方法處理該等第二原始資料，找出複數個總體指標資料；而後，使用一第三統計分析方法處理該等機台製程資料、該等總體指標資料與該等關聯資料，建立出複數個相關度指標；最後，依據該等相關度指標，找出造成半導體製程變異的原因。
简体摘要：一种侦测半导体制程变异之方法，借由关联性统计分析，侦测半导体制程变异的原因，其步骤包括有：收集并前处理复数个机台制程数据、复数个第一原始数据与复数个第二原始数据；接着，使用一第一统计分析方法简化该等第一原始数据，得到复数个关联数据；然后，使用一第二统计分析方法处理该等第二原始数据，找出复数个总体指针数据；而后，使用一第三统计分析方法处理该等机台制程数据、该等总体指针数据与该等关联数据，创建出复数个相关度指针；最后，依据该等相关度指针，找出造成半导体制程变异的原因。

6. 发明专利

TWI461871B 多機台之監控方法有权
简体标题：多机台之监控方法
公开(公告)号：TWI461871B
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：TW098106632
申请日：2009-03-02
申请人：華亞科技股份有限公司 , INOTERA MEMORIES, INC.
发明人：朱怡潔 , CHU, YIJ CHIEH , 陳俊琦 , CHEN, CHUN CHI , 田昀宗 , TIAN, YUN ZONG , 高世昌 , KAO, SHIH CHANG , 陳振豪 , CHEN, CHENG HAO
IPC分类号： G05B19/406
CPC分类号： G05B19/4183 , G05B2219/31294 , G05B2219/45031 , Y02P90/10

7. 发明专利

TWI447828B 製程原始資料的壓縮方法及壓縮系統有权
简体标题：制程原始数据的压缩方法及压缩系统
公开(公告)号：TWI447828B
公开(公告)日：2014-08-01
申请号：TW100121812
申请日：2011-06-22
申请人：華亞科技股份有限公司 , INOTERA MEMORIES, INC.
发明人：朱怡潔 , CHU, YIJ CHIEH , 田昀宗 , TIAN, YUN ZONG
IPC分类号： H01L21/66 , G06F17/50
CPC分类号： G05B23/0254 , G06F11/0754 , G06F11/3013 , G06F11/3082

8. 发明专利

TWI380228B 利用隨機排序晶圓位置之搜尋關鍵半導體製程方法 METHOD OF SEARCHING KEY SEMICONDUCTOR OPERATION WITH RANDOMIZATION FOR WAFER POSITION 有权
简体标题：利用随机排序晶圆位置之搜索关键半导体制程方法 METHOD OF SEARCHING KEY SEMICONDUCTOR OPERATION WITH RANDOMIZATION FOR WAFER POSITION
公开(公告)号：TWI380228B
公开(公告)日：2012-12-21
申请号：TW097139536
申请日：2008-10-15
申请人：華亞科技股份有限公司
发明人：朱怡潔 , 陳俊琦 , 田昀宗 , 陳振豪
IPC分类号： G06Q , H01L
CPC分类号： G05B19/41875 , G05B2219/32221 , G05B2219/45031 , Y02P90/22
摘要：一種利用隨機排序晶圓位置之搜尋關鍵半導體製程方法，包括下列步驟：記錄複數個半導體製程(Semiconductor Operation)相對應複數個晶圓編號(Wader ID)之晶圓位置(Wafer Slot)、及該些晶圓編號之晶圓良率(Wafer Yield)；建立一矩陣數學式(Matrix)，該矩陣數學式描述該些晶圓編號之晶圓良率之矩陣集合；分析該矩陣數學式，進而計算該些晶圓編號之晶圓良率之矩陣集合，得到該些半導體製程之隨機排序晶圓位置之權重數值(Weighting)；以及搜尋該些半導體製程中的關鍵半導體製程；藉此，其中利用區段迴歸模型(Local Regression Model)估計晶圓位置效應，由位置效應估計值與隨機重排列之晶圓良率值來計算位置效應在每一個半導體製程的權重數值，其較大權重數值即為上述半導體製程中具有較大位置效應的關鍵半導體製程。
简体摘要：一种利用随机排序晶圆位置之搜索关键半导体制程方法，包括下列步骤：记录复数个半导体制程(Semiconductor Operation)相对应复数个晶圆编号(Wader ID)之晶圆位置(Wafer Slot)、及该些晶圆编号之晶圆良率(Wafer Yield)；创建一矩阵数学式(Matrix)，该矩阵数学式描述该些晶圆编号之晶圆良率之矩阵集合；分析该矩阵数学式，进而计算该些晶圆编号之晶圆良率之矩阵集合，得到该些半导体制程之随机排序晶圆位置之权重数值(Weighting)；以及搜索该些半导体制程中的关键半导体制程；借此，其中利用区段回归模型(Local Regression Model)估计晶圆位置效应，由位置效应估计值与随机重排列之晶圆良率值来计算位置效应在每一个半导体制程的权重数值，其较大权重数值即为上述半导体制程中具有较大位置效应的关键半导体制程。

9. 发明专利

TW201037472A 調整晶圓製造優先順序之方法 METHOD FOR ADJUSTING PRIORITY OF LOT OF WAFER 审中-公开
简体标题：调整晶圆制造优先级之方法 METHOD FOR ADJUSTING PRIORITY OF LOT OF WAFER
公开(公告)号：TW201037472A
公开(公告)日：2010-10-16
申请号：TW098111357
申请日：2009-04-06
申请人：華亞科技股份有限公司
发明人：田昀宗 , 陳俊琦 , 李藝鋒 , 陳韋郡 , 高世昌 , 朱怡潔 , 陳振豪
IPC分类号： G05B , H01L
CPC分类号： G05B19/41865 , G05B2219/32015 , G05B2219/32016 , G05B2219/32019 , G05B2219/45031 , Y02P90/20
摘要：一種調整晶圓製造優先順序之方法，包括步驟如下：收集多數批晶圓的多數個製造參數；從該些製造參數中選擇多數個關鍵的製造參數，該些關鍵的製造參數至少包括一製造優先順序；定義一數學式計算一鄰近值；定義一最少點數；使用一具有雜訊之密度基礎空間分群應用法，並依據該鄰近值及該最少點數，來將該些批晶圓分成多數個群組；以及調整該些群組中的該些批晶圓的製造優先順序。藉此，相同製程的批晶圓能連續或同時送入至一機台內加工，讓該機台切換製程的次數減少，或是讓機台閒置的時間變短。
简体摘要：一种调整晶圆制造优先级之方法，包括步骤如下：收集多数批晶圆的多数个制造参数；从该些制造参数中选择多数个关键的制造参数，该些关键的制造参数至少包括一制造优先级；定义一数学式计算一邻近值；定义一最少点数；使用一具有噪声之密度基础空间分群应用法，并依据该邻近值及该最少点数，来将该些批晶圆分成多数个群组；以及调整该些群组中的该些批晶圆的制造优先级。借此，相同制程的批晶圆能连续或同时送入至一机台内加工，让该机台切换制程的次数减少，或是让机台闲置的时间变短。

10. 发明专利

TW201015481A 利用隨機排序晶圓位置之搜尋關鍵半導體製程方法 METHOD OF SEARCHING KEY SEMICONDUCTOR OPERATION WITH RANDOMIZATION FOR WAFER POSITION 审中-公开
简体标题：利用随机排序晶圆位置之搜索关键半导体制程方法 METHOD OF SEARCHING KEY SEMICONDUCTOR OPERATION WITH RANDOMIZATION FOR WAFER POSITION
公开(公告)号：TW201015481A
公开(公告)日：2010-04-16
申请号：TW097139536
申请日：2008-10-15
申请人：華亞科技股份有限公司
发明人：朱怡潔 , 陳俊琦 , 田昀宗 , 陳振豪
IPC分类号： G06Q , H01L
CPC分类号： G05B19/41875 , G05B2219/32221 , G05B2219/45031 , Y02P90/22
摘要：一種利用隨機排序晶圓位置之搜尋關鍵半導體製程方法，包括下列步驟：記錄複數個半導體製程(Semiconductor Operation)相對應複數個晶圓編號(Wader ID)之晶圓位置(Wafer Slot)、及該些晶圓編號之晶圓良率(Wafer Yield)；建立一矩陣數學式(Matrix)，該矩陣數學式描述該些晶圓編號之晶圓良率之矩陣集合；分析該矩陣數學式，進而計算該些晶圓編號之晶圓良率之矩陣集合，得到該些半導體製程之隨機排序晶圓位置之權重數值(Weighting)；以及搜尋該些半導體製程中的關鍵半導體製程；藉此，其中利用區段迴歸模型(Local Regression Model)估計晶圓位置效應，由位置效應估計值與隨機重排列之晶圓良率值來計算位置效應在每一個半導體製程的權重數值，其較大權重數值即為上述半導體製程中具有較大位置效應的關鍵半導體製程。
简体摘要：一种利用随机排序晶圆位置之搜索关键半导体制程方法，包括下列步骤：记录复数个半导体制程(Semiconductor Operation)相对应复数个晶圆编号(Wader ID)之晶圆位置(Wafer Slot)、及该些晶圆编号之晶圆良率(Wafer Yield)；创建一矩阵数学式(Matrix)，该矩阵数学式描述该些晶圆编号之晶圆良率之矩阵集合；分析该矩阵数学式，进而计算该些晶圆编号之晶圆良率之矩阵集合，得到该些半导体制程之随机排序晶圆位置之权重数值(Weighting)；以及搜索该些半导体制程中的关键半导体制程；借此，其中利用区段回归模型(Local Regression Model)估计晶圆位置效应，由位置效应估计值与随机重排列之晶圆良率值来计算位置效应在每一个半导体制程的权重数值，其较大权重数值即为上述半导体制程中具有较大位置效应的关键半导体制程。

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