专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 外观设计

TWD174341S 排氣處理裝置用內筒有权
简体标题：排气处理设备用内筒
公开(公告)号：TWD174341S
公开(公告)日：2016-03-11
申请号：TW104303350
申请日：2015-06-22
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
设计人：川村興太郎 , KAWAMURA, KHOTARO , 柏木誠 , KASHIWAGI, MAKOTO , 池田宏 , IKEDA, HIROSHI

2. 外观设计

TWD176440S 排氣處理裝置用內筒有权
简体标题：排气处理设备用内筒
公开(公告)号：TWD176440S
公开(公告)日：2016-06-11
申请号：TW104303350D02
申请日：2015-06-22
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
设计人：川村興太郎 , KAWAMURA, KHOTARO , 柏木誠 , KASHIWAGI, MAKOTO , 池田宏 , IKEDA, HIROSHI

3. 外观设计

TWD176439S 排氣處理裝置用內筒有权
简体标题：排气处理设备用内筒
公开(公告)号：TWD176439S
公开(公告)日：2016-06-11
申请号：TW104303350D01
申请日：2015-06-22
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
设计人：川村興太郎 , KAWAMURA, KHOTARO , 柏木誠 , KASHIWAGI, MAKOTO , 池田宏 , IKEDA, HIROSHI

4. 发明专利

TWI676506B 粉體排出系統及廢氣處理裝置有权
简体标题：粉体排出系统及废气处理设备
公开(公告)号：TWI676506B
公开(公告)日：2019-11-11
申请号：TW103120470
申请日：2014-06-13
申请人：日商荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：宮崎一知 , MIYAZAKI, KAZUTOMO , 池田宏 , IKEDA, HIROSHI
IPC分类号： B08B3/02 , B08B9/28

5. 外观设计

TWD174342S 排氣處理裝置用內筒之部分有权
简体标题：排气处理设备用内筒之部分
公开(公告)号：TWD174342S
公开(公告)日：2016-03-11
申请号：TW104303356
申请日：2015-06-22
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
设计人：川村興太郎 , KAWAMURA, KHOTARO , 柏木誠 , KASHIWAGI, MAKOTO , 池田宏 , IKEDA, HIROSHI

6. 发明专利

TW201507784A 粉體排出系統审中-公开
简体标题：粉体排出系统
公开(公告)号：TW201507784A
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW103120470
申请日：2014-06-13
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：宮崎一知 , MIYAZAKI, KAZUTOMO , 池田宏 , IKEDA, HIROSHI
IPC分类号： B08B3/02 , B08B9/28
CPC分类号： B08B9/0933 , F23D2900/00002 , F23J15/04 , F23J15/06 , F23J2217/50 , F23J2217/60 , F23J2219/70 , F23J2219/80 , Y10T137/4259
摘要：本發明提供一種粉體排出系統，其係將堆積在設置於廢氣處理裝置內之循環水槽內的二氧化矽等之粉體產生物予以粉碎並使之浮遊，並將粉體與排水一同排出。本發明之粉體排出系統係設置在用以收集廢氣處理裝置中產生於廢氣處理中之粉體的循環水槽20，且在循環水槽20內配置噴射器3，並藉由泵將循環水槽20內之水予以加壓並供給至噴射器3，利用藉由噴射器3內之噴嘴3n而使水之流動節流時產生的壓力降低，由吸入口3h將循環水槽20內之水吸入噴射器3內，並將所吸入之水與從噴嘴2n放出之水一同從送出口3OUT噴射至循環水槽之底部。
简体摘要：本发明提供一种粉体排出系统，其系将堆积在设置于废气处理设备内之循环水槽内的二氧化硅等之粉体产生物予以粉碎并使之浮游，并将粉体与排水一同排出。本发明之粉体排出系统系设置在用以收集废气处理设备中产生于废气处理中之粉体的循环水槽20，且在循环水槽20内配置喷射器3，并借由泵将循环水槽20内之水予以加压并供给至喷射器3，利用借由喷射器3内之喷嘴3n而使水之流动节流时产生的压力降低，由吸入口3h将循环水槽20内之水吸入喷射器3内，并将所吸入之水与从喷嘴2n放出之水一同从送出口3OUT喷射至循环水槽之底部。

7. 外观设计

TWD155845S 排廢氣處理裝置用刮頭有权
简体标题：排废气处理设备用刮头
公开(公告)号：TWD155845S
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW101305353
申请日：2012-09-13
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
设计人：柏木誠司 , KASHIWAGI, SEIJI , 池田宏 , IKEDA, HIROSHI , 宮崎一知 , MIYAZAKI, KAZUTOMO

8. 发明专利

TW509593B 防止排氣配管內附著固體生成物之方法與裝置,以及具備該裝置之排氣處理裝置失效
简体标题：防止排气配管内附着固体生成物之方法与设备,以及具备该设备之排气处理设备
公开(公告)号：TW509593B
公开(公告)日：2002-11-11
申请号：TW090119296
申请日：2001-08-08
申请人：荏原製作所股份有限公司
发明人：池田宏 , 京谷敬史 , 鮫島貴紀 , 上村健司 , 北島宗孝
IPC分类号： B08B , B01D
CPC分类号： B01D47/06 , B01D53/346 , B08B9/02 , B08B9/0321 , B08B17/02 , C23C16/4407 , C23C16/4412
摘要：本發明在提供一種排氣管內附著固體生成物除去裝置，其特徵為具備：具有位於排氣管內的前端開口，可自該前端開口將洗淨水供給至排氣管內面的洗淨水導入管。該固體生成物除去裝置，係在排氣含有與排氣管內的水分產生反應後生成固形物的成分時特別有用，可以洗淨水洗去生成且附著在管內面的固體生成物。於排氣管的排氣流向中隔著間隔設置複數的洗淨水導入管的前述前端開口，利用由1個前端開口導入的洗淨水洗淨和排氣管內的水分產生反應而生成附著的固體生成物時，可利用自其他位置的前端開口導入的洗淨水洗去和該洗淨水產生反應而新生成附著的固體生成物。此外，也可設置將高溫氣體導入排氣管內，用以加熱該排氣管內面的高溫氣體導入裝置。藉由加熱排氣管內面，可防止固體生成物的附著。還可設置一種設在排氣管內，可以其長度方向在該排氣管內滑動，而將附著於該排氣管內面的固體生成物刮除的刮除構件。
简体摘要：本发明在提供一种排气管内附着固体生成物除去设备，其特征为具备：具有位于排气管内的前端开口，可自该前端开口将洗净水供给至排气管内面的洗净水导入管。该固体生成物除去设备，系在排气含有与排气管内的水分产生反应后生成固形物的成分时特别有用，可以洗净水洗去生成且附着在管内面的固体生成物。于排气管的排气流向中隔着间隔设置复数的洗净水导入管的前述前端开口，利用由1个前端开口导入的洗净水洗净和排气管内的水分产生反应而生成附着的固体生成物时，可利用自其他位置的前端开口导入的洗净水洗去和该洗净水产生反应而新生成附着的固体生成物。此外，也可设置将高温气体导入排气管内，用以加热该排气管内面的高温气体导入设备。借由加热排气管内面，可防止固体生成物的附着。还可设置一种设在排气管内，可以其长度方向在该排气管内滑动，而将附着于该排气管内面的固体生成物刮除的刮除构件。

9. 发明专利

TW460311B 半導體製造之排氣處理方法及裝置失效
简体标题：半导体制造之排气处理方法及设备
公开(公告)号：TW460311B
公开(公告)日：2001-10-21
申请号：TW087117195
申请日：1998-10-17
申请人：荏原製作所股份有限公司
发明人：池田宏 , 久保田泰弘 , 京谷敬史
IPC分类号： B01D
CPC分类号： B01D53/68 , B01D53/75 , B01D53/78
摘要：本發明係關於一種具有使用鹼性水性液之通氣攪拌槽5，及氣液接觸裝置7及/或填充塔ll之排氣處理方法及裝置者。在通氣攪拌槽無法除去的有害氣體，例如乙醇等之水溶性有機化合物、SiCl4等之鹵化矽化合物、F2,Cl2等之鹵氣等在後段可除去之。尤其是適合於從半導體製造裝置所排出之排氣之淨化。
简体摘要：本发明系关于一种具有使用碱性水性液之通气搅拌槽5，及气液接触设备7及/或填充塔ll之排气处理方法及设备者。在通气搅拌槽无法除去的有害气体，例如乙醇等之水溶性有机化合物、SiCl4等之卤化硅化合物、F2,Cl2等之卤气等在后段可除去之。尤其是适合于从半导体制造设备所排出之排气之净化。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式