专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI437369B 正型感光性組合物及永久抗蝕劑失效
简体标题：正型感光性组合物及永久抗蚀剂
公开(公告)号：TWI437369B
公开(公告)日：2014-05-11
申请号：TW098135477
申请日：2009-10-20
申请人：艾迪科股份有限公司 , ADEKA CORPORATION
发明人：齋藤誠一 , SAITO, SEIICHI , 森田博 , MORITA, HIROSHI , 竹之內宏美 , TAKENOUCHI, HIROMI , 小林純 , KOBAYASHI, ATSUSHI , 尾見仁一 , OMI, JINICHI
IPC分类号： G03F7/075 , G03F7/039 , G03F7/022 , C08G77/14 , C07F7/21 , G02F1/1368 , H01L51/50
CPC分类号： G03F7/0757 , C08G77/16 , C08G77/18 , G03F7/0233 , G03F7/40 , H05B33/10 , H05B33/22

2. 发明专利

TW201249740A 無機聚矽氮、含有其之氧化矽膜形成用塗布液及氧化矽膜之形成方法审中-公开
简体标题：无机聚硅氮、含有其之氧化硅膜形成用涂布液及氧化硅膜之形成方法
公开(公告)号：TW201249740A
公开(公告)日：2012-12-16
申请号：TW101113655
申请日：2012-04-17
申请人：艾迪科股份有限公司
发明人：森田博 , 小林純 , 橫田洋大 , 降幡泰久
IPC分类号： C01B , C09D
CPC分类号： H01L21/02164 , C01B21/087 , C08G77/62 , C08L83/16 , C09D1/00 , H01L21/02282 , H01L31/02167 , Y02E10/50
摘要：本發明提供一種無機聚矽氮及含有其之氧化矽膜形成用塗佈液，其係於水蒸氣等氧化劑中之煅燒步驟中之收縮較小，不易產生氧化矽膜之龜裂或與半導體基板之剝離，且於 1 H-NMR光譜中，將4.75 ppm以上且未達5.4 ppm之範圍之波峰面積設為A、4.5 ppm以上且未達4.75 ppm之範圍之波峰面積設為B、4.2 ppm以上且未達4.5 ppm之範圍之波峰面積設為C時，A/(B+C)之值為0.9~1.5，(A+B)/C之值為4.2~50，且基於聚苯乙烯換算值之質量平均分子量為2000~20000。
简体摘要：本发明提供一种无机聚硅氮及含有其之氧化硅膜形成用涂布液，其系于水蒸气等氧化剂中之煅烧步骤中之收缩较小，不易产生氧化硅膜之龟裂或与半导体基板之剥离，且于 1 H-NMR光谱中，将4.75 ppm以上且未达5.4 ppm之范围之波峰面积设为A、4.5 ppm以上且未达4.75 ppm之范围之波峰面积设为B、4.2 ppm以上且未达4.5 ppm之范围之波峰面积设为C时，A/(B+C)之值为0.9~1.5，(A+B)/C之值为4.2~50，且基于聚苯乙烯换算值之质量平均分子量为2000~20000。

3. 发明专利

TW201030468A 正型感光性組合物及永久抗蝕劑失效
简体标题：正型感光性组合物及永久抗蚀剂
公开(公告)号：TW201030468A
公开(公告)日：2010-08-16
申请号：TW098135477
申请日：2009-10-20
申请人：艾迪科股份有限公司
发明人：齋藤誠一 , 森田博 , 竹之內宏美 , 小林純 , 尾見仁一
IPC分类号： G03F , C08G , C07F , G02F , H01L
CPC分类号： G03F7/0757 , C08G77/16 , C08G77/18 , G03F7/0233 , G03F7/40 , H05B33/10 , H05B33/22
摘要：本發明之正型感光性組合物包含：作為(A)成分的於1分子中具有至少2個以下述通式(1)所表示之基的矽氧樹脂；作為(B)成分的具有縮水甘油基之矽氧烷化合物；作為(C)成分的重氮萘醌類；以及作為(D)成分的有機溶劑。永久抗蝕劑係將上述正型感光性組合物塗佈於基材上，使塗佈物曝光，進行鹼性顯影後，於120~350℃之溫度下進行後烘烤而製造。
(式中，R 1 表示可具有取代烴基之碳數1~10之伸烷基，R 2 表示碳數1~4之烷基，a表示0或1~4之數，b表示1~3之數，但a+b不超過5)。
简体摘要：本发明之正型感光性组合物包含：作为(A)成分的于1分子中具有至少2个以下述通式(1)所表示之基的硅氧树脂；作为(B)成分的具有缩水甘油基之硅氧烷化合物；作为(C)成分的重氮萘醌类；以及作为(D)成分的有机溶剂。永久抗蚀剂系将上述正型感光性组合物涂布于基材上，使涂布物曝光，进行碱性显影后，于120~350℃之温度下进行后烘烤而制造。 (式中，R 1 表示可具有取代烃基之碳数1~10之伸烷基，R 2 表示碳数1~4之烷基，a表示0或1~4之数，b表示1~3之数，但a+b不超过5)。

4. 发明专利

TWI378975B 含矽之硬化性組合物及其硬化物有权
简体标题：含硅之硬化性组合物及其硬化物
公开(公告)号：TWI378975B
公开(公告)日：2012-12-11
申请号：TW095105984
申请日：2006-02-22
申请人：艾迪科股份有限公司
发明人：尾見仁一 , 坂卷功一 , 森田博 , 齋藤雅子
IPC分类号： C08L , C08K , H01L
CPC分类号： C08G77/52 , C08G77/045 , C08G77/12 , C08G77/20 , C08G77/70 , C08K5/56 , C08L83/04 , C08L83/14 , C08L83/00 , C08L2666/52
摘要：本發明提供一種含矽之硬化性組合物，包含(A)成分：從下述(α)成分及(β)成分中各自選出的1種或1種以上成分經矽氫化反應所得到的1分子中含2個以上Si－H基的預聚合物(A)；(B)成分：1分子中含2個以上與Si－H基有反應性的碳－碳雙鍵的環狀矽氧烷化合物(B)；以及(C)成分：矽氫化催化劑(C)。其中，(α)成分是如下述式(1)所示的1分子中含2個以上Si－H基的環狀矽氧烷化合物：
式(1)
[式(1)中，R1、R2及R3分別表示碳數1~6的烷基或苯基，其可以相同也可不同。a表示2~10的整數，b表示0~8的整數，a＋b＞＝2]；(β)成分是1分子中含2個以上與Si－H基有反應性的碳－碳雙鍵的化合物。
简体摘要：本发明提供一种含硅之硬化性组合物，包含(A)成分：从下述(α)成分及(β)成分中各自选出的1种或1种以上成分经硅氢化反应所得到的1分子中含2个以上Si－H基的预聚合物(A)；(B)成分：1分子中含2个以上与Si－H基有反应性的碳－碳双键的环状硅氧烷化合物(B)；以及(C)成分：硅氢化催化剂(C)。其中，(α)成分是如下述式(1)所示的1分子中含2个以上Si－H基的环状硅氧烷化合物：式(1) [式(1)中，R1、R2及R3分别表示碳数1~6的烷基或苯基，其可以相同也可不同。a表示2~10的整数，b表示0~8的整数，a＋b＞＝2]；(β)成分是1分子中含2个以上与Si－H基有反应性的碳－碳双键的化合物。

5. 发明专利

TW201232182A 正型感光性樹脂組合物及永久抗蝕劑审中-公开
简体标题：正型感光性树脂组合物及永久抗蚀剂
公开(公告)号：TW201232182A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：TW100139831
申请日：2011-11-01
申请人：艾迪科股份有限公司
发明人：森田博 , 竹之內宏美 , 小林純 , 尾見仁一
IPC分类号： G03F , C08G
摘要：本發明提供一種正型感光性樹脂組合物,其適於高耐熱性、高耐溶劑性、高透過率及低介電常數之層間絕緣膜之形成,且具有於顯影步驟中即便超過最佳顯影時間亦可形成良好之圖案形狀的較大之顯影裕度,具體而言提供一種正型感光性樹脂組合物,其係含有作為基體樹脂之具有羧基及/或酚性羥基之聚矽氧烷化合物、作為感光性成分之感光性重氮化合物及有機溶劑者,其特徵在於:含有利用自1分子中具有2~4個乙烯基之化合物中去除乙烯基之殘基連結下述通式(1)所示之基彼此、或連結下述通式(1)所示之基與下述通式(2)所示之基而成之環氧矽氧烷化合物,

(式中,R1表示可相同亦可不同之碳數1~4之烷基或碳數6~10之芳基,E表示具有環氧基之基,a表示2~5之數)

(式中,b表示使a-b+1成為0~4之數之2~6之數,R1、E及a與上述通式(1)同義)。
简体摘要：本发明提供一种正型感光性树脂组合物,其适于高耐热性、高耐溶剂性、高透过率及低介电常数之层间绝缘膜之形成,且具有于显影步骤中即便超过最佳显影时间亦可形成良好之图案形状的较大之显影裕度,具体而言提供一种正型感光性树脂组合物,其系含有作为基体树脂之具有羧基及/或酚性羟基之聚硅氧烷化合物、作为感光性成分之感光性重氮化合物及有机溶剂者,其特征在于:含有利用自1分子中具有2~4个乙烯基之化合物中去除乙烯基之残基链接下述通式(1)所示之基彼此、或链接下述通式(1)所示之基与下述通式(2)所示之基而成之环氧硅氧烷化合物, (式中,R1表示可相同亦可不同之碳数1~4之烷基或碳数6~10之芳基,E表示具有环氧基之基,a表示2~5之数) (式中,b表示使a-b+1成为0~4之数之2~6之数,R1、E及a与上述通式(1)同义)。

6. 发明专利

TW201834769A 銅粉之製造方法、樹脂組成物、形成硬化物的方法及硬化物审中-公开
简体标题：铜粉之制造方法、树脂组成物、形成硬化物的方法及硬化物
公开(公告)号：TW201834769A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW106144331
申请日：2017-12-18
申请人：日商ADEKA股份有限公司 , ADEKA CORPORATION
发明人：縫田祐介 , NUIDA, YUSUKE , 森田博 , MORITA, HIROSHI
IPC分类号： B22F9/20 , H01B1/22 , C08G65/38 , C08G63/00 , C08F20/02 , B05D7/24
摘要：本發明係揭示銅粉之製造方法，其特徵為包含，水中使用由氫化硼鉀、氫化硼鈉及氫化硼鋰所成群中所選出之至少一種化合物使銅粒子進行還原處理的第1步驟；第1步驟後，以水洗淨的第2步驟；以由醚化合物及醇化合物所成群中所選出至少一種化合物洗淨第2步驟所得之銅粉的第3步驟；以由醚化合物及醇化合物所成群中所選出至少一種化合物為溶劑，使第3步驟所得之銅粉接觸有機酸溶液的第4步驟。
简体摘要：本发明系揭示铜粉之制造方法，其特征为包含，水中使用由氢化硼钾、氢化硼钠及氢化硼锂所成群中所选出之至少一种化合物使铜粒子进行还原处理的第1步骤；第1步骤后，以水洗净的第2步骤；以由醚化合物及醇化合物所成群中所选出至少一种化合物洗净第2步骤所得之铜粉的第3步骤；以由醚化合物及醇化合物所成群中所选出至少一种化合物为溶剂，使第3步骤所得之铜粉接触有机酸溶液的第4步骤。

7. 发明专利

TW201809295A 銅粉之製造方法审中-公开
简体标题：铜粉之制造方法
公开(公告)号：TW201809295A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106123412
申请日：2017-07-13
申请人： ADEKA股份有限公司 , ADEKA CORPORATION
发明人：縫田祐介 , NUIDA, YUSUKE , 森田博 , MORITA, HIROSHI
IPC分类号： C22B15/00 , B22F9/24 , B22F1/00 , H01B1/02
CPC分类号： B22F1/00 , B22F9/20 , B22F9/30
摘要：一種特徵係使用（A）氧化亞銅、（B）由硼酸及其鹽所成群組中選出的至少1種、（C）由氨及銨離子供給源所成群組中選出的至少1種、以及（D）由單糖類、二糖類及多糖類所成群組中選出的至少1種作為原料的銅粉之製造方法。（C）成分以由氨、氯化銨、溴化銨、甲酸銨及乙酸銨所成群組中選出的至少1種為佳。
简体摘要：一种特征系使用（A）氧化亚铜、（B）由硼酸及其盐所成群组中选出的至少1种、（C）由氨及铵离子供给源所成群组中选出的至少1种、以及（D）由单糖类、二糖类及多糖类所成群组中选出的至少1种作为原料的铜粉之制造方法。（C）成分以由氨、氯化铵、溴化铵、甲酸铵及乙酸铵所成群组中选出的至少1种为佳。

8. 发明专利

TWI478931B 環狀矽氧烷化合物及使用其之正型光阻組成物有权
简体标题：环状硅氧烷化合物及使用其之正型光阻组成物
公开(公告)号：TWI478931B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW097114349
申请日：2008-04-18
申请人： ADEKA股份有限公司 , ADEKA CORPORATION
发明人：森田博 , MORITA, HIROSHI , 佐藤宏美 , SATO, HIROMI , 尾見仁一 , OMI, JINICHI , 齋藤誠一 , SAITO, SEIICHI
IPC分类号： C07F7/21 , G03F7/039 , G03F7/075
CPC分类号： C07F7/21 , G03F7/0045 , G03F7/0755 , G03F7/0757

9. 发明专利

TWI468867B 正型感光性組成物，正型永久光阻及正型永久光阻之製造方法失效
简体标题：正型感光性组成物，正型永久光阻及正型永久光阻之制造方法
公开(公告)号：TWI468867B
公开(公告)日：2015-01-11
申请号：TW097143903
申请日：2008-11-13
申请人： ADEKA股份有限公司 , ADEKA CORPORATION
发明人：森田博 , MORITA, HIROSHI , 佐藤宏美 , SATO, HIROMI , 小林純 , KOBAYASHI, ATSUSHI , 尾見仁一 , OMI, JINICHI , 齋藤誠一 , SAITO, SEIICHI
IPC分类号： G03F7/075 , G03F7/039 , G03F7/022 , C08G77/16 , H01L21/027
CPC分类号： C08G77/50 , C08G77/14 , C08G77/80 , C08K5/235 , C08K5/5419 , C08L83/06 , G03F7/0233 , G03F7/0758 , G03F7/40 , H01L23/296 , H01L2924/0002 , H01L2924/12044 , Y10S430/115 , Y10S430/12 , Y10S430/124 , H01L2924/00

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式