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1. 发明专利

TWI700388B 用於可流動式CVD的雙遠端電漿源的集成有权
简体标题：用于可流动式CVD的双远程等离子源的集成
公开(公告)号：TWI700388B
公开(公告)日：2020-08-01
申请号：TW106141333
申请日：2017-11-28
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：馬瑩 , MA, YING , 瑞吉戴米恩 , RAJ, DAEMIAN , 賓森二世傑D , PINSON II, JAY D. , 李東擎 , LI, DONGQING , 梁璟梅 , LIANG, JINGMEI , 張軼珍 , ZHANG, YIZHEN
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/458

2. 发明专利

TW201843340A 用於可流動式CVD的擴散器設計审中-公开
简体标题：用于可流动式CVD的扩散器设计
公开(公告)号：TW201843340A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107104918
申请日：2018-02-12
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：馬瑩 , MA, YING , 瑞吉戴米恩 , RAJ, DAEMIAN , 奇科卡諾夫葛瑞格 , CHICHKANOFF, GREG
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/505
摘要：本文所述的實施方式大體上關於用於形成可流動膜的設備。在一個實施方式中，設備為擴散器，該擴散器包括具有第一表面及與該第一表面相對的第二表面的主體、形成在該第一表面中的複數個圓頂結構、形成在該第二表面中的中心歧管及經耦接在該中心歧管及該複數個圓頂結構中之相應一者之間的複數個管狀導管，該複數個管狀導管的至少一部分相對於該第一表面的平面對角地定位。
简体摘要：本文所述的实施方式大体上关于用于形成可流动膜的设备。在一个实施方式中，设备为扩散器，该扩散器包括具有第一表面及与该第一表面相对的第二表面的主体、形成在该第一表面中的复数个圆顶结构、形成在该第二表面中的中心歧管及经耦接在该中心歧管及该复数个圆顶结构中之相应一者之间的复数个管状导管，该复数个管状导管的至少一部分相对于该第一表面的平面对角地定位。

3. 发明专利

TW201836441A 遠端電漿流動性CVD腔室的方法及設備审中-公开
简体标题：远程等离子流动性CVD腔室的方法及设备
公开(公告)号：TW201836441A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW107105519
申请日：2018-02-14
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：馬瑩 , MA, YING , 瑞吉戴米恩 , RAJ, DAEMIAN , 西蒙斯馬丁傑 , SEAMONS, MARTIN JAY , 波克瑞爾安凱特 , POKHREL, ANKIT , 奇科卡諾夫葛瑞格 , CHICHKANOFF, GREG , 張軼珍 , ZHANG, YIZHEN , 梁璟梅 , LIANG, JINGMEI , 賓森二世傑D , PINSON II, JAY D. , 李東擎 , LI, DONGQING , 羅莎亞凡利斯君卡洛斯 , ROCHA-ALVAREZ, JUAN CARLOS
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/3065
摘要：本案揭露的實施例一般係關於電漿處理系統。電漿處理系統包括處理腔室、腔室陳化系統和遠端電漿清洗系統。處理腔室具有界定處理區域和電漿場的腔室主體。腔室陳化系統耦接到處理腔室。腔室陳化系統經配置而陳化處理區域和電漿場。遠端電漿清洗系統與處理腔室通信。遠端電漿清洗系統經配置清洗處理區域和電漿場。
简体摘要：本案揭露的实施例一般系关于等离子处理系统。等离子处理系统包括处理腔室、腔室陈化系统和远程等离子清洗系统。处理腔室具有界定处理区域和等离子场的腔室主体。腔室陈化系统耦接到处理腔室。腔室陈化系统经配置而陈化处理区域和等离子场。远程等离子清洗系统与处理腔室通信。远程等离子清洗系统经配置清洗处理区域和等离子场。

4. 发明专利

TW201833378A 用於可流動式CVD的雙遠端電漿源的集成审中-公开
简体标题：用于可流动式CVD的双远程等离子源的集成
公开(公告)号：TW201833378A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106141333
申请日：2017-11-28
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：馬瑩 , MA, YING , 瑞吉戴米恩 , RAJ, DAEMIAN , 賓森二世傑D , PINSON II, JAY D. , 李東擎 , LI, DONGQING , 梁璟梅 , LIANG, JINGMEI , 張軼珍 , ZHANG, YIZHEN
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/458
摘要：本文中描述的實現方式總體涉及一種用於形成可流動膜的設備。在一個實現方式中，設備是包括第一RPS和第二RPS的處理腔室，第一RPS被耦接到處理腔室的蓋，第二RPS被耦接到處理腔室的側壁。第一RPS用於將沉積自由基傳遞到處理腔室中的處理區域中，並且第二RPS用於將清潔自由基傳遞到處理區域中。處理腔室還包括自由基傳遞環，所述自由基傳遞環設置在噴頭與基板支撐件之間，用於將清潔自由基從第二RPS傳遞到處理區域中。具有用於沉積和清潔的單獨RPS以及使用單獨傳遞通道將自由基從所述RPS引入到處理區域中使RPS上的交叉污染和迴圈變化最小化，從而導致改進的沉積速率漂移和顆粒效能。
简体摘要：本文中描述的实现方式总体涉及一种用于形成可流动膜的设备。在一个实现方式中，设备是包括第一RPS和第二RPS的处理腔室，第一RPS被耦接到处理腔室的盖，第二RPS被耦接到处理腔室的侧壁。第一RPS用于将沉积自由基传递到处理腔室中的处理区域中，并且第二RPS用于将清洁自由基传递到处理区域中。处理腔室还包括自由基传递环，所述自由基传递环设置在喷头与基板支撑件之间，用于将清洁自由基从第二RPS传递到处理区域中。具有用于沉积和清洁的单独RPS以及使用单独传递信道将自由基从所述RPS引入到处理区域中使RPS上的交叉污染和循环变化最小化，从而导致改进的沉积速率漂移和颗粒性能。

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