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    • 2. 发明专利
    • 具有改良應力輪廓的玻璃陶瓷物件
    • 具有改良应力轮廓的玻璃陶瓷对象
    • TW202010720A
    • 2020-03-16
    • TW108129417
    • 2019-08-19
    • 美商康寧公司CORNING INCORPORATED
    • 杜菲 迪琳娜露辛達傑斯堤斯DUFFY, DELENA LUCINDA JUSTICE菲耶諾 康斯塔斯LFIENO, CONSTANCE L哈爾 吉兒瑪利HALL, JILL MARIE金 宇輝JIN, YUHUI施耐德 維特馬利諾SCHNEIDER, VITOR MARINO
    • C03C10/10C03C3/083
    • 藉由一離子交換製程來製造玻璃陶瓷物件,該離子交換製程產生具有改良應力輪廓的基於玻璃之物件。一彎曲處可位於3微米或更深之一深度。壓縮應力在一表面處可為200 MPa或更大且在一彎曲處處可為20 MPa或更大。一非鈉氧化物可具有自該第一表面至一深度變化之一非零濃度,且一壓縮深度(DOC)可位於0.10•t處,或甚至位於0.17•t或更深處。兩步離子交換(DIOX)包括例如一第一處理中之用於形成應力輪廓之尖峰區域中的尖峰之鉀浴,繼之以一第二處理,該第二處理包括例如用於維持該尖峰且形成該應力輪廓之一尾部區域的鉀與鈉混合浴。該等玻璃陶瓷物件由此可避免成長一玻璃狀表面層,如此有利於對波導模式之可重複且可靠的量測及對表面中之壓縮應力(CS)及尖峰之深度的決定。
    • 借由一离子交换制程来制造玻璃陶瓷对象,该离子交换制程产生具有改良应力轮廓的基于玻璃之对象。一弯曲处可位于3微米或更深之一深度。压缩应力在一表面处可为200 MPa或更大且在一弯曲处处可为20 MPa或更大。一非钠氧化物可具有自该第一表面至一深度变化之一非零浓度,且一压缩深度(DOC)可位于0.10•t处,或甚至位于0.17•t或更深处。两步离子交换(DIOX)包括例如一第一处理中之用于形成应力轮廓之尖峰区域中的尖峰之钾浴,继之以一第二处理,该第二处理包括例如用于维持该尖峰且形成该应力轮廓之一尾部区域的钾与钠混合浴。该等玻璃陶瓷对象由此可避免成长一玻璃状表面层,如此有利于对波导模式之可重复且可靠的量测及对表面中之压缩应力(CS)及尖峰之深度的决定。