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2. 发明专利

TW201503229A 安定時間之取得方法审中-公开
简体标题：安定时间之取得方法
公开(公告)号：TW201503229A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW103105851
申请日：2014-02-21
申请人：紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：西村理恵子 , NISHIMURA, RIEKO , 酒井道宏 , SAKAI, MICHIHIRO
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3174 , H01J2237/31754 , H01J2237/31776 , H01J2237/31798
摘要：本發明之一態樣之安定時間之取得方法，其特徵為：使用第1與第2成形孔口，以及使通過第1與第2成形孔口間的荷電粒子束偏向的偏向器成形的至少1次照射之荷電粒子束所導致的基準圖案描繪於1個以上的試料，使用第1與第2成形孔口與偏向器，使被成形為尺寸不同的第1與第2圖案的2次照射的荷電粒子束的組合所導致的解像後的圖案寬幅尺寸成為與設計上基準圖案相同的評估圖案，使針對第2次照射的粒子束成形控制偏向器的DAC(數位類比轉換器)放大器的安定時間為可變同時於各安定時間描繪於試料上，測定基準圖案的圖案寬幅尺寸，測定各安定時間之評估圖案的圖案寬幅尺寸，於各安定時間，算出基準圖案的圖案寬幅尺寸與評估圖案的圖案寬幅尺寸的差分，取得差分成為閾值以下的DAC放大器的安定時間。
简体摘要：本发明之一态样之安定时间之取得方法，其特征为：使用第1与第2成形孔口，以及使通过第1与第2成形孔口间的荷电粒子束偏向的偏向器成形的至少1次照射之荷电粒子束所导致的基准图案描绘于1个以上的试料，使用第1与第2成形孔口与偏向器，使被成形为尺寸不同的第1与第2图案的2次照射的荷电粒子束的组合所导致的解像后的图案宽幅尺寸成为与设计上基准图案相同的评估图案，使针对第2次照射的粒子束成形控制偏向器的DAC(数码模拟转换器)放大器的安定时间为可变同时于各安定时间描绘于试料上，测定基准图案的图案宽幅尺寸，测定各安定时间之评估图案的图案宽幅尺寸，于各安定时间，算出基准图案的图案宽幅尺寸与评估图案的图案宽幅尺寸的差分，取得差分成为阈值以下的DAC放大器的安定时间。

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