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1. 发明专利

TW200303444A 薄膜半導體裝置及光電裝置,以及該等的製造方法及中間掩膜审中-公开
简体标题：薄膜半导体设备及光电设备,以及该等的制造方法及中间掩膜
公开(公告)号：TW200303444A
公开(公告)日：2003-09-01
申请号：TW092102677
申请日：2003-02-10
申请人：精工愛普生股份有限公司 SEIKO EPSON CORPORATOIN
发明人：天野隆祐 , 北和田清文
IPC分类号： G02F , G09G
CPC分类号： H01L27/12 , G02F1/136213
摘要：本發明的課題在於提供一種在薄膜的圖案形成中，即使在該圖案上具有交叉部，也不會在該薄膜的下部產生下切(undercut)之薄膜半導體裝置及其製造方法。其解決手段為：上述半導體膜(1)具有含曲折形狀或突出形狀的圖案。又，有關規定上述曲折形狀或上述突出形狀的交叉部，且彼此鄰接的一線份(1AR)或其他線份(1BU)是形成：在該一線份的端部與該其他線份的端部間存在別的線份，該別的線份與上述一線份所成的角度，及該別的線份與上述其他線份所成的角度為大於90°，小於180°之滑動交叉部。
简体摘要：本发明的课题在于提供一种在薄膜的图案形成中，即使在该图案上具有交叉部，也不会在该薄膜的下部产生下切(undercut)之薄膜半导体设备及其制造方法。其解决手段为：上述半导体膜(1)具有含曲折形状或突出形状的图案。又，有关规定上述曲折形状或上述突出形状的交叉部，且彼此邻接的一线份(1AR)或其他线份(1BU)是形成：在该一线份的端部与该其他线份的端部间存在别的线份，该别的线份与上述一线份所成的角度，及该别的线份与上述其他线份所成的角度为大于90°，小于180°之滑动交叉部。

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