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1. 发明专利

TWI538979B 氮氧化物螢光粉之製造方法有权
简体标题：氮氧化物萤光粉之制造方法
公开(公告)号：TWI538979B
公开(公告)日：2016-06-21
申请号：TW100123636
申请日：2011-07-05
申请人：璨圓光電股份有限公司 , FORMOSA EPITAXY INCORPORATION
发明人：朱政屹 , 劉如熹 , 林裕智 , 李承鴻 , 鄭惟綱 , 丁逸聖 , 潘錫明
IPC分类号： C09K11/59 , H01L33/50
CPC分类号： C09K11/0883 , C09K11/7734

2. 发明专利

TWI511279B 用於形成多方向出光之發光二極體晶片的藍寶石基板有权
简体标题：用于形成多方向出光之发光二极管芯片的蓝宝石基板
公开(公告)号：TWI511279B
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW102116650
申请日：2013-05-10
申请人：璨圓光電股份有限公司 , FORMOSA EPITAXY INCORPORATION
发明人：潘錫明 , PAN, SHYI MING , 李承鴻 , LEE, CHEN HONG , 蒲計志 , PU, CHI CHIH , 葉時有 , YEH, SHIH YU , 湯士杰 , TANG, SHIH CHIEH , 鄭惟綱 , CHENG, WEI KANG
IPC分类号： H01L27/15 , H01L33/00
CPC分类号： H01L2224/14 , H01L2224/16225 , H01L2224/24145 , H01L2224/48091 , H01L2224/49107 , H01L2924/00014

3. 发明专利

TWI491074B 氮化物系半導體發光元件有权
简体标题：氮化物系半导体发光组件
公开(公告)号：TWI491074B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW097137795
申请日：2008-10-01
申请人：璨圓光電股份有限公司 , FORMOSA EPITAXY INCORPORATION
发明人：黃國欽 , 潘錫明 , 潘宏立 , 黃政國 , 鄭惟綱 , 丁逸聖
IPC分类号： H01L33/38
CPC分类号： H01L33/38 , H01L33/20

4. 发明专利

TWI479695B 一種發光二極體晶片與發光元件有权
简体标题：一种发光二极管芯片与发光组件
公开(公告)号：TWI479695B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW101125599
申请日：2012-07-16
申请人：璨圓光電股份有限公司 , FORMOSA EPITAXY INCORPORATION
发明人：蒲計志 , 李承鴻 , 葉時有 , 鄭惟綱 , 潘錫明 , 洪祥富
IPC分类号： H01L33/36

5. 发明专利

TW201511295A 電容結構以及堆疊型電容結構审中-公开
简体标题：电容结构以及堆栈型电容结构
公开(公告)号：TW201511295A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW102133050
申请日：2013-09-12
申请人：璨圓光電股份有限公司 , FORMOSA EPITAXY INCORPORATION
发明人：黃知澍 , HUANG, CHIH SHU , 潘錫明 , PAN, SHYI MING , 鄭惟綱 , CHENG, WEI KANG
IPC分类号： H01L29/92
CPC分类号： H01G2/00 , H01G4/012 , H01G4/228 , H01G4/30 , H01L23/642 , H01L27/0694 , H01L27/0805 , H01L29/66181 , H01L29/94 , H01L29/945 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：一種電容結構，其包括一導電基板、一第一介電層以及一第一金屬層。導電基板包括一第一表面以及位於第一表面上的至少一第一凹陷。第一介電層覆蓋第一表面以及第一凹陷。第一金屬層覆蓋第一介電層，其中第一介電層與第一金屬層具有與第一凹陷相應的凹陷結構。一種堆疊型電容結構亦被提出。
简体摘要：一种电容结构，其包括一导电基板、一第一介电层以及一第一金属层。导电基板包括一第一表面以及位于第一表面上的至少一第一凹陷。第一介电层覆盖第一表面以及第一凹陷。第一金属层覆盖第一介电层，其中第一介电层与第一金属层具有与第一凹陷相应的凹陷结构。一种堆栈型电容结构亦被提出。

6. 外观设计

TWD164807S 半導體發光元件之部分有权
简体标题：半导体发光组件之部分
公开(公告)号：TWD164807S
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：TW102305357
申请日：2013-08-06
申请人：璨圓光電股份有限公司 , FORMOSA EPITAXY INCORPORATION
设计人：賴隆寬 , 李仁智 , 鄭惟綱 , 潘錫明

7. 发明专利

TW201442287A 發光裝置之製造方法审中-公开
简体标题：发光设备之制造方法
公开(公告)号：TW201442287A
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW103120552
申请日：2010-08-23
申请人：璨圓光電股份有限公司 , FORMOSA EPITAXY INCORPORATION
发明人：鄭惟綱 , 林裕智 , 廖漢忠 , 丁逸聖 , 潘錫明
IPC分类号： H01L33/44 , H01L33/50
摘要：本發明為一種發光裝置之製造方法，其先提供一基板，再接續形成一發光單元於該基板上，之後形成至少一電極，然後形成至少一保護層於該電極上，以避免後續形成一螢光粉層於該發光單元時，造成螢光粉層覆蓋於該電極上，在形成該螢光粉層之後，平整該螢光粉層與該保護層，也就是移除位於該保護層上的部分該螢光粉層，然後移除該保護層，以讓該電極避免受到螢光粉層的影響，進而提高電極之導電性，更改善發光裝置之螢光粉厚度與均勻性問題，使具發光二極體之發光裝置的厚度有效減少，同時在白光色溫控制的穩定性也大為提高。
简体摘要：本发明为一种发光设备之制造方法，其先提供一基板，再接续形成一发光单元于该基板上，之后形成至少一电极，然后形成至少一保护层于该电极上，以避免后续形成一萤光粉层于该发光单元时，造成萤光粉层覆盖于该电极上，在形成该萤光粉层之后，平整该萤光粉层与该保护层，也就是移除位于该保护层上的部分该萤光粉层，然后移除该保护层，以让该电极避免受到萤光粉层的影响，进而提高电极之导电性，更改善发光设备之萤光粉厚度与均匀性问题，使具发光二极管之发光设备的厚度有效减少，同时在白光色温控制的稳定性也大为提高。

8. 外观设计

TWD163761S 半導體發光元件之部分有权
简体标题：半导体发光组件之部分
公开(公告)号：TWD163761S
公开(公告)日：2014-10-21
申请号：TW103302278
申请日：2013-06-28
申请人：璨圓光電股份有限公司 , FORMOSA EPITAXY INCORPORATION
设计人：湯士杰 , 王子翔 , 林玉晟 , 葉時有 , 李承鴻 , 鄭惟綱 , 潘錫明

9. 外观设计

TWD163760S 半導體發光元件之部分有权
简体标题：半导体发光组件之部分
公开(公告)号：TWD163760S
公开(公告)日：2014-10-21
申请号：TW103302277
申请日：2013-06-28
申请人：璨圓光電股份有限公司 , FORMOSA EPITAXY INCORPORATION
设计人：湯士杰 , 王子翔 , 林玉晟 , 葉時有 , 李承鴻 , 鄭惟綱 , 潘錫明

10. 实用新型

TWM486007U 發光組件及發光裝置有权
简体标题：发光组件及发光设备
公开(公告)号：TWM486007U
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：TW103202674
申请日：2014-02-17
申请人：璨圓光電股份有限公司 , FORMOSA EPITAXY INCORPORATION
发明人：鄭惟綱 , CHENG, WEI KANG , 湯士杰 , TANG, SHIH CHIEH , 王子翔 , WANG, TZU HSIANG , 李承鴻 , LEE, CHEN HONG , 潘錫明 , PAN, SHYI MING
IPC分类号： F21V33/00 , F21Y101/02

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