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1. 发明专利

TW325457B 塗覆玻璃基質之方法及裝置塗覆組合物及由此製備之塗覆玻璃基質失效
简体标题：涂覆玻璃基质之方法及设备涂覆组合物及由此制备之涂覆玻璃基质
公开(公告)号：TW325457B
公开(公告)日：1998-01-21
申请号：TW083100967
申请日：1994-02-05
申请人：片片堅工業公司
发明人：羅亞.萊恩.史特瓦特–大衛斯
IPC分类号： C03C , C09D , C23C
CPC分类号： C03C17/245 , C03C17/002 , C03C17/2453 , C03C17/3417 , C03C2217/211 , C03C2217/212 , C03C2217/213 , C03C2217/215 , C03C2217/216 , C03C2217/218 , C03C2217/219 , C03C2217/228 , C03C2217/23 , C03C2217/241 , C03C2217/244 , C03C2218/152 , C23C16/401 , C23C16/4412 , C23C16/453 , C23C16/545
摘要：一種塗覆玻璃帶之裝置，在塗覆器每一側不同距離處各有一抽氣器。依此配置，塗覆器上游及下游之玻璃帶部份即可在塗覆器之塗覆蒸氣下暴露不等時間。塗覆混合物包括含錫先質及含矽先質。含矽先質之結構式如下：＄＄其中Ｒ１為不含可供形成過氧化物的氧之基，Ｒ２為可使含矽先質輕易轉化成氧化矽塗層之官能基，Ｒ３為提供多矽原子之架橋基及Ｒ４完成基底矽原子之鍵合。加速劑，例如含磷先質，可與含金屬先質一起使用，以提高塗屬之沈積速度。沈積在玻璃上之塗層，隨著與玻璃－塗層介面距離之增加，而有氧化矽及氧化錫重量百分比連續不斷變化之區域，而最遠離玻璃一塗層介面之塗層表面，主要為氧化錫。塗層內各區域提供塗屬不同之折射率，以消除外塗層表面氧化錫厚度增加所產生之虹彩，並提供塗覆玻璃物件中性色彩，使用磷作為加速劑時，結晶性百分比即降低且接近零，因而降低或消除塗屬霧濁。
简体摘要：一种涂覆玻璃带之设备，在涂覆器每一侧不同距离处各有一抽气器。依此配置，涂覆器上游及下游之玻璃带部份即可在涂覆器之涂覆蒸气下暴露不等时间。涂覆混合物包括含锡先质及含硅先质。含硅先质之结构式如下：＄＄其中Ｒ１为不含可供形成过氧化物的氧之基，Ｒ２为可使含硅先质轻易转化成氧化硅涂层之官能基，Ｒ３为提供多硅原子之架桥基及Ｒ４完成基底硅原子之键合。加速剂，例如含磷先质，可与含金属先质一起使用，以提高涂属之沉积速度。沉积在玻璃上之涂层，随着与玻璃－涂层界面距离之增加，而有氧化硅及氧化锡重量百分比连续不断变化之区域，而最远离玻璃一涂层界面之涂层表面，主要为氧化锡。涂层内各区域提供涂属不同之折射率，以消除外涂层表面氧化锡厚度增加所产生之虹彩，并提供涂覆玻璃对象中性色彩，使用磷作为加速剂时，结晶性百分比即降低且接近零，因而降低或消除涂属雾浊。

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