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1. 发明专利

TW201533491A 包括用於焦距長度調整和／或減少傾斜的自訂間隔物之光學模組及光學模組的製造审中-公开
简体标题：包括用于焦距长度调整和／或减少倾斜的自订间隔物之光学模块及光学模块的制造
公开(公告)号：TW201533491A
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW104105926
申请日：2015-02-24
申请人：海特根微光學公司 , HEPTAGON MICRO OPTICS PTE. LTD.
发明人：魯德曼哈特牧 , RUDMANN, HARTMUT , 阿拉西尼歐優卡 , ALASIRNIO, JUKKA , 特桑諾維克博真 , TESANOVIC, BOJAN , 山恩多畢阿斯 , SENN, TOBIAS , 庫鋪沙密狄凡拉伊 , KUPUSAMY, DEVANRAJ , 畢茲齊亞歷山德 , BIETSCH, ALEXANDER
IPC分类号： G02B7/04 , H04N5/225
CPC分类号： H01L27/14618 , H01L24/48 , H01L27/1462 , H01L27/14625 , H01L27/14632 , H01L27/14685 , H01L27/14687 , H01L2224/48091 , H01L2224/48225 , H01L2924/00014 , H01L2924/181 , H04N5/2253 , H04N5/2254 , H04N5/2257 , H04N5/2258 , H01L2924/00 , H01L2224/05599 , H01L2224/45099 , H01L2224/85399
摘要：本發明揭示光學模組，其等係使用自訂間隔物製成以減少光學通道之焦距長度的變動、減少該等光學通道之傾斜發生和/或防止黏著劑遷移至一影像感測器之作用部分。
简体摘要：本发明揭示光学模块，其等系使用自订间隔物制成以减少光学信道之焦距长度的变动、减少该等光学信道之倾斜发生和/或防止黏着剂迁移至一影像传感器之作用部分。

2. 发明专利

TW201740502A 模製的電路基板审中-公开
简体标题：模制的电路基板
公开(公告)号：TW201740502A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW105132672
申请日：2016-10-07
申请人：海特根微光學公司 , HEPTAGON MICRO OPTICS PTE. LTD.
发明人：特桑諾維克博真 , TESANOVIC, BOJAN , 史普林妮可拉 , SPRING, NICOLA , 古柏瑟賽門 , GUBSER, SIMON , 李納特羅伯特 , LENART, ROBERT , 賽桑那瑪利歐 , CESANA, MARIO
IPC分类号： H01L21/76 , H05K3/28 , H01L21/56 , H01L21/31 , H01L21/469 , H01L27/14
CPC分类号： H05K3/0097 , H01L27/14618 , H01L33/486 , H01L33/58 , H01L2224/48091 , H01L2224/97 , H01L2924/181 , H01L2933/0033 , H05K1/0284 , H05K3/0014 , H05K3/28 , H05K2201/09118 , H01L2924/00012 , H01L2924/00014
摘要：模製的電路基板包含由一絕緣側壁環繞之一導電層。該絕緣側壁進一步為併入有模製的電路基板之一電子模組提供一結構組件。因此，該等模製的電路基板可准許較佳之效能、減小電子模組厚度並減少製作成本。用於製作模製的電路基板之方法可促進對絕緣側壁、絕緣分隔件、電觸點及其他組件之精確定位。
简体摘要：模制的电路基板包含由一绝缘侧壁环绕之一导电层。该绝缘侧壁进一步为并入有模制的电路基板之一电子模块提供一结构组件。因此，该等模制的电路基板可准许较佳之性能、减小电子模块厚度并减少制作成本。用于制作模制的电路基板之方法可促进对绝缘侧壁、绝缘分隔件、电触点及其他组件之精确定位。

3. 发明专利

TW201726345A 光學元件堆疊組件审中-公开
简体标题：光学组件堆栈组件
公开(公告)号：TW201726345A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105136785
申请日：2016-11-11
申请人：商海特根微光學公司 , HEPTAGON MICRO OPTICS PTE. LTD.
发明人：王季 , WANG, JI , 梁凱華 , LEONG, KAM WAH , 特桑諾維克博真 , TESANOVIC, BOJAN , 余齊權 , YU, QICHUAN , 山恩多畢阿斯 , SENN, TOBIAS , 史普林妮可拉 , SPRING, NICOLA , 李納特羅伯特 , LENART, ROBERT
IPC分类号： B29C33/00 , G02B11/02 , G02B3/00 , G02B7/02 , G02B9/04
CPC分类号： G02B9/04 , B29C39/10 , B29C39/42 , B29K2995/0031 , B29L2011/00 , G02B7/021
摘要：本發明描述光學堆疊組件及其製造技術。例如，一光學元件堆疊組件可包含第一子組件及第二子組件，其等之各者包含一基板及固定至該各自基板之一子結構。該第一子結構或該第二子結構之至少一者包含一光學元件。該光學元件堆疊組件進一步包含橫向包圍且模製至該第一子組件及該第二子組件之一間隔物。
简体摘要：本发明描述光学堆栈组件及其制造技术。例如，一光学组件堆栈组件可包含第一子组件及第二子组件，其等之各者包含一基板及固定至该各自基板之一子结构。该第一子结构或该第二子结构之至少一者包含一光学组件。该光学组件堆栈组件进一步包含横向包围且模制至该第一子组件及该第二子组件之一间隔物。

4. 发明专利

TW201816981A 包括光電裝置次組件的光電模組及其製造方法审中-公开
简体标题：包括光电设备次组件的光电模块及其制造方法
公开(公告)号：TW201816981A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106121629
申请日：2017-06-28
申请人：海特根微光學公司 , HEPTAGON MICRO OPTICS PTE. LTD.
发明人：魯德曼哈特牧 , RUDMANN, HARTMUT , 余齊權 , YU, QICHUAN , 古柏瑟賽門 , GUBSER, SIMON , 特桑諾維克博真 , TESANOVIC, BOJAN , 易蘇 , YI, XU , 翁尤妮絲侯 , ONG, EUNICE HO , 劉宏源 , LIU, HONGYUAN , 王季 , WANG, JI , 陸愛德蒙觀 , LUA, EDMUND KOON , 邊茂 , PAING, MYO , 唐淺 , TANG, JIAN , 李明傑 , LEE, MING JIE
IPC分类号： H01L25/16 , H05K3/34 , H01L21/78 , H01L21/56
摘要：本發明描述用於製造光電裝置次組件之晶圓級製程，該次組件可經安裝(例如)至一電路基板(諸如一可撓性纜線或印刷電路板)且經整合於包括堆疊於該光電裝置次組件上之一或多個光學次組件之光電模組。該光電裝置次組件可使用焊料回焊技術經安裝至該電路基板上，即使該等光學次組件由非回焊相容之材料組成。
简体摘要：本发明描述用于制造光电设备次组件之晶圆级制程，该次组件可经安装(例如)至一电路基板(诸如一可挠性缆线或印刷电路板)且经集成于包括堆栈于该光电设备次组件上之一或多个光学次组件之光电模块。该光电设备次组件可使用焊料回焊技术经安装至该电路基板上，即使该等光学次组件由非回焊兼容之材料组成。

5. 发明专利

TW201722222A 電接觸總成审中-公开
简体标题：电接触总成
公开(公告)号：TW201722222A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW105134337
申请日：2016-10-24
申请人：海特根微光學公司 , HEPTAGON MICRO OPTICS PTE. LTD.
发明人：特桑諾維克博真 , TESANOVIC, BOJAN , 立歐彼得 , RIEL, PETER
IPC分类号： H05K1/11 , H01L23/522 , H05K3/40
CPC分类号： H05K3/425 , H05K3/0014 , H05K3/007 , H05K3/284 , H05K2201/09118 , H05K2201/09845 , H05K2201/10121 , H05K2203/0733 , H05K2203/1461 , H05K2203/1476
摘要：一種電接觸總成包含在該總成之相對側上具有第一及第二電接觸表面之電接觸件。該電接觸總成係藉由一結構化程序(例如，光結構化程序)且藉由電鍍而製造。該等第一及第二電接觸表面可相對於彼此以例如至少5微米之一精度定位。此外，該電接觸總成之厚度在一些情況中可為至多17微米。該電接觸總成可包含整合式主動光電子元件、包覆模製件、光學元件及非透明壁。
简体摘要：一种电接触总成包含在该总成之相对侧上具有第一及第二电接触表面之电接触件。该电接触总成系借由一结构化进程(例如，光结构化进程)且借由电镀而制造。该等第一及第二电接触表面可相对于彼此以例如至少5微米之一精度定位。此外，该电接触总成之厚度在一些情况中可为至多17微米。该电接触总成可包含集成式主动光电子组件、包覆模制件、光学组件及非透明壁。

6. 发明专利

TW201310626A 製造被動光學元件的方法及包含該元件的裝置审中-公开
简体标题：制造被动光学组件的方法及包含该组件的设备
公开(公告)号：TW201310626A
公开(公告)日：2013-03-01
申请号：TW101125645
申请日：2012-07-17
申请人：海特根微光學公司 , HEPTAGON MICRO OPTICS PTE. LTD.
发明人：盧德曼哈馬特 , RUDMANN, HARTMUT , 威斯頓霍夫蘇珊 , WESTENHOEFER, SUSANNE , 泰莎諾維克博亞恩 , TESANOVIC, BOJAN
IPC分类号： H01L27/14 , G02B3/00
CPC分类号： G02B3/0031 , B29D11/00307 , B29D11/00375 , B29D11/0074 , B29D11/00932 , B29K2063/00 , B29L2011/00 , G02B3/00 , G02B5/20 , G02B13/0085 , H01L25/167 , H01L27/14618 , H01L27/14625 , H01L27/14685 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：該裝置包含至少一光學組件(O)，其包含至少一透光部(t)及至少一阻光部(b)。該至少一透光部(t)係由一或更多對至少一特定頻譜範圍的光為實質透光的材料(稱為透光材料)所作成，及該至少一阻光部(b)係由一或更多對該特定頻譜範圍的光為實質不透光的材料(稱為不透光材料)所作成。該透光部(t)包含至少一被動光學元件(L)。該至少一被動光學元件(L)包含：透光單元(6)，具有兩相反至少大致平坦面，實質垂直於該至少一阻光部(b)的至少大約等於厚度的垂直方向，該至少一阻光部(b)的厚度係沿著該垂直方向量測，並附著至該透光單元(6)；至少一光學結構(5)。製造包含至少一被動光學元件(L)的裝置的方法包含：提供有包含至少一阻光部(b)及一數量透光單元(6)的晶圓。
简体摘要：该设备包含至少一光学组件(O)，其包含至少一透光部(t)及至少一阻光部(b)。该至少一透光部(t)系由一或更多对至少一特定频谱范围的光为实质透光的材料(称为透光材料)所作成，及该至少一阻光部(b)系由一或更多对该特定频谱范围的光为实质不透光的材料(称为不透光材料)所作成。该透光部(t)包含至少一被动光学组件(L)。该至少一被动光学组件(L)包含：透光单元(6)，具有两相反至少大致平坦面，实质垂直于该至少一阻光部(b)的至少大约等于厚度的垂直方向，该至少一阻光部(b)的厚度系沿着该垂直方矢量测，并附着至该透光单元(6)；至少一光学结构(5)。制造包含至少一被动光学组件(L)的设备的方法包含：提供有包含至少一阻光部(b)及一数量透光单元(6)的晶圆。

7. 发明专利

TW201820597A 製造被動光學元件的方法及包含該元件的裝置审中-公开
简体标题：制造被动光学组件的方法及包含该组件的设备
公开(公告)号：TW201820597A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106126425
申请日：2012-07-17
申请人：新加坡商新加坡恒立私人有限公司 , HEPTAGON MICRO OPTICS PTE. LTD.
发明人：盧德曼哈馬特 , RUDMANN, HARTMUT , 威斯頓霍夫蘇珊 , WESTENHOEFER, SUSANNE , 泰莎諾維克博亞恩 , TESANOVIC, BOJAN
IPC分类号： H01L27/14 , G02B3/00
摘要：該裝置包含至少一光學組件(O)，其包含至少一透光部(t)及至少一阻光部(b)。該至少一透光部(t)係由一或更多對至少一特定頻譜範圍的光為實質透光的材料(稱為透光材料)所作成，及該至少一阻光部(b)係由一或更多對該特定頻譜範圍的光為實質不透光的材料(稱為不透光材料)所作成。該透光部(t)包含至少一被動光學元件(L)。該至少一被動光學元件(L)包含：透光單元(6)，具有兩相反至少大致平坦面，實質垂直於該至少一阻光部(b)的至少大約等於厚度的垂直方向，該至少一阻光部(b)的厚度係沿著該垂直方向量測，並附著至該透光單元(6)；至少一光學結構(5)。製造包含至少一被動光學元件(L)的裝置的方法包含：提供有包含至少一阻光部(b)及一數量透光單元(6)的晶圓。
简体摘要：该设备包含至少一光学组件(O)，其包含至少一透光部(t)及至少一阻光部(b)。该至少一透光部(t)系由一或更多对至少一特定频谱范围的光为实质透光的材料(称为透光材料)所作成，及该至少一阻光部(b)系由一或更多对该特定频谱范围的光为实质不透光的材料(称为不透光材料)所作成。该透光部(t)包含至少一被动光学组件(L)。该至少一被动光学组件(L)包含：透光单元(6)，具有两相反至少大致平坦面，实质垂直于该至少一阻光部(b)的至少大约等于厚度的垂直方向，该至少一阻光部(b)的厚度系沿着该垂直方矢量测，并附着至该透光单元(6)；至少一光学结构(5)。制造包含至少一被动光学组件(L)的设备的方法包含：提供有包含至少一阻光部(b)及一数量透光单元(6)的晶圆。

8. 发明专利

TW201742238A 製造被動光學元件的方法及包含該元件的裝置审中-公开
简体标题：制造被动光学组件的方法及包含该组件的设备
公开(公告)号：TW201742238A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106113502
申请日：2012-07-17
申请人：新加坡恒立私人有限公司 , HEPTAGON MICRO OPTICS PTE. LTD.
发明人：盧德曼哈馬特 , RUDMANN, HARTMUT , 威斯頓霍夫蘇珊 , WESTENHOEFER, SUSANNE , 泰莎諾維克博亞恩 , TESANOVIC, BOJAN
IPC分类号： H01L27/14 , G02B3/00
CPC分类号： G02B3/0031 , B29D11/00307 , B29D11/00375 , B29D11/0074 , B29D11/00932 , B29K2063/00 , B29L2011/00 , G02B3/00 , G02B5/20 , G02B13/0085 , H01L25/167 , H01L27/14618 , H01L27/14625 , H01L27/14685 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：該裝置包含至少一光學組件(O)，其包含至少一透光部(t)及至少一阻光部(b)。該至少一透光部(t)係由一或更多對至少一特定頻譜範圍的光為實質透光的材料(稱為透光材料)所作成，及該至少一阻光部(b)係由一或更多對該特定頻譜範圍的光為實質不透光的材料(稱為不透光材料)所作成。該透光部(t)包含至少一被動光學元件(L)。該至少一被動光學元件(L)包含：透光單元(6)，具有兩相反至少大致平坦面，實質垂直於該至少一阻光部(b)的至少大約等於厚度的垂直方向，該至少一阻光部(b)的厚度係沿著該垂直方向量測，並附著至該透光單元(6)；至少一光學結構(5)。製造包含至少一被動光學元件(L)的裝置的方法包含：提供有包含至少一阻光部(b)及一數量透光單元(6)的晶圓。
简体摘要：该设备包含至少一光学组件(O)，其包含至少一透光部(t)及至少一阻光部(b)。该至少一透光部(t)系由一或更多对至少一特定频谱范围的光为实质透光的材料(称为透光材料)所作成，及该至少一阻光部(b)系由一或更多对该特定频谱范围的光为实质不透光的材料(称为不透光材料)所作成。该透光部(t)包含至少一被动光学组件(L)。该至少一被动光学组件(L)包含：透光单元(6)，具有两相反至少大致平坦面，实质垂直于该至少一阻光部(b)的至少大约等于厚度的垂直方向，该至少一阻光部(b)的厚度系沿着该垂直方矢量测，并附着至该透光单元(6)；至少一光学结构(5)。制造包含至少一被动光学组件(L)的设备的方法包含：提供有包含至少一阻光部(b)及一数量透光单元(6)的晶圆。

9. 发明专利

TWI647825B 製造被動光學元件的方法及包含該元件的裝置有权
简体标题：制造被动光学组件的方法及包含该组件的设备
公开(公告)号：TWI647825B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：TW106126425
申请日：2012-07-17
申请人：新加坡商新加坡恒立私人有限公司 , HEPTAGON MICRO OPTICS PTE. LTD.
发明人：盧德曼哈馬特 , RUDMANN, HARTMUT , 威斯頓霍夫蘇珊 , WESTENHOEFER, SUSANNE , 泰莎諾維克博亞恩 , TESANOVIC, BOJAN
IPC分类号： H01L27/14 , G02B3/00

10. 发明专利

TWI635601B 製造被動光學元件的方法及包含該元件的裝置有权
简体标题：制造被动光学组件的方法及包含该组件的设备
公开(公告)号：TWI635601B
公开(公告)日：2018-09-11
申请号：TW101125645
申请日：2012-07-17
申请人：新加坡恒立私人有限公司 , HEPTAGON MICRO OPTICS PTE. LTD.
发明人：盧德曼哈馬特 , RUDMANN, HARTMUT , 威斯頓霍夫蘇珊 , WESTENHOEFER, SUSANNE , 泰莎諾維克博亞恩 , TESANOVIC, BOJAN
IPC分类号： H01L27/14 , G02B3/00

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