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1. 发明专利

TWI537063B 塗裝方法有权
简体标题：涂装方法
公开(公告)号：TWI537063B
公开(公告)日：2016-06-11
申请号：TW101150267
申请日：2012-12-26
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO., LTD.
发明人：李永華 , LEE, YUNG HUA , 李哲宇 , LEE, CHE YU , 李鴻昌 , LEE, HUNG CHANG , 周雅惠 , CHOU, YA HUI , 徐禎邦 , HSU, CHEN PANG , 陳駿鵬 , CHEN, CHUN PUNG
IPC分类号： B05D3/12 , B05D5/00

2. 发明专利

TW201542397A 具外紋路的轉印膜、應用轉印膜之殼體結構及其製備方法审中-公开
简体标题：具外纹路的转印膜、应用转印膜之壳体结构及其制备方法
公开(公告)号：TW201542397A
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：TW103116994
申请日：2014-05-14
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO., LTD.
发明人：黃桂齡 , HUANG, KUEI LING , 李鴻昌 , LEE, HUNG CHANG , 林凱尉 , LIN, KAI WEI , 徐禎邦 , HSU, CHEN PANG , 劉郁茹 , LIU, YU JU , 陳駿鵬 , CHEN, CHUN PUNG
IPC分类号： B44C1/16 , B41M3/12
摘要：一種具外紋路的轉印膜、應用轉印膜之殼體結構及其製備方法。殼體結構包含一基板、一黏著層、一油墨層以及一軟性塗層。黏著層設置於基板。油墨層設置於黏著層相反於基板之一側。油墨層於黏著層相反於基板之一側形成一立體圖案。軟性塗層設置於油墨層相反於黏著層之一側。軟性塗層相反於油墨層之一側具有對應立體圖案之一凹凸紋路。藉此，殼體結構的外部具有圖案並且轉印膜具有軟性的觸感。
简体摘要：一种具外纹路的转印膜、应用转印膜之壳体结构及其制备方法。壳体结构包含一基板、一黏着层、一油墨层以及一软性涂层。黏着层设置于基板。油墨层设置于黏着层相反于基板之一侧。油墨层于黏着层相反于基板之一侧形成一三維图案。软性涂层设置于油墨层相反于黏着层之一侧。软性涂层相反于油墨层之一侧具有对应三維图案之一凹凸纹路。借此，壳体结构的外部具有图案并且转印膜具有软性的触感。

3. 实用新型

TWM484505U 具內紋路的轉印膜及應用轉印膜之殼體結構有权
简体标题：具内纹路的转印膜及应用转印膜之壳体结构
公开(公告)号：TWM484505U
公开(公告)日：2014-08-21
申请号：TW103208415
申请日：2014-05-14
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO., LTD.
发明人：黃桂齡 , HUANG, KUEI LING , 李鴻昌 , LEE, HUNG CHANG , 林凱尉 , LIN, KAI WEI , 徐禎邦 , HSU, CHEN PANG , 劉郁茹 , LIU, YU JU , 陳駿鵬 , CHEN, CHUN PUNG
IPC分类号： B29C70/00

4. 发明专利

TW201424866A 塗裝方法及其構造审中-公开
简体标题：涂装方法及其构造
公开(公告)号：TW201424866A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW101150267
申请日：2012-12-26
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO., LTD.
发明人：李永華 , LEE, YUNG HUA , 李哲宇 , LEE, CHE YU , 李鴻昌 , LEE, HUNG CHANG , 周雅惠 , CHOU, YA HUI , 徐禎邦 , HSU, CHEN PANG , 陳駿鵬 , CHEN, CHUN PUNG
IPC分类号： B05D3/12 , B05D5/00
摘要：一種塗裝方法，包括以下步驟。提供一基材，其中基材具有至少一表面。設置一第一色料在表面。設置一披覆材在表面上，且覆蓋於第一色料上。在基材上施以一機械加工，使得基材與披覆材共同構成至少一斷面。設置一第二色料在斷面。自基材移除披覆材。塗裝構造包含一基材以及一披覆材。基材具有至少一表面，表面具有一第一色料。披覆材設置在表面且覆蓋第一色料。其中，基材與披覆材共同構成一斷面。斷面用以供一第二色料塗佈。披覆材可選擇性地自基材移除。藉此，可避免斷面處堆積色料的問題。
简体摘要：一种涂装方法，包括以下步骤。提供一基材，其中基材具有至少一表面。设置一第一色料在表面。设置一披覆材在表面上，且覆盖于第一色料上。在基材上施以一机械加工，使得基材与披覆材共同构成至少一断面。设置一第二色料在断面。自基材移除披覆材。涂装构造包含一基材以及一披覆材。基材具有至少一表面，表面具有一第一色料。披覆材设置在表面且覆盖第一色料。其中，基材与披覆材共同构成一断面。断面用以供一第二色料涂布。披覆材可选择性地自基材移除。借此，可避免断面处堆积色料的问题。

5. 发明专利

TW201827254A 轉印膜、其製造方法及包含其之外殼审中-公开
简体标题：转印膜、其制造方法及包含其之外壳
公开(公告)号：TW201827254A
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：TW106103067
申请日：2017-01-25
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO.,LTD.
发明人：劉郁茹 , LIU, YU-JU , 徐禎邦 , HSU, CHEN-PANG , 楊益承 , YANG, YI-CHENG
IPC分类号： B44C1/16
摘要：本發明提供一種轉印膜、其製造方法及包含其之外殼。轉印膜包含一硬塗層、一第一黏著層及一光學效果層。硬塗層具有相對的一第一表面與一第二表面。第一表面具有至少一紋理區域。第一黏著層位於具有紋理區域的第一表面。光學效果層位於第一黏著層遠離硬塗層的一黏著表面。光學效果層包含一基質與複數個光散射粒子。光散射粒子分散於基質中。白光對硬塗層的一硬塗層穿透度、白光對第一黏著層的一第一黏著層穿透度以及白光對光學效果層的基質的一基質穿透度彼此相異。
简体摘要：本发明提供一种转印膜、其制造方法及包含其之外壳。转印膜包含一硬涂层、一第一黏着层及一光学效果层。硬涂层具有相对的一第一表面与一第二表面。第一表面具有至少一纹理区域。第一黏着层位于具有纹理区域的第一表面。光学效果层位于第一黏着层远离硬涂层的一黏着表面。光学效果层包含一基质与复数个光散射粒子。光散射粒子分散于基质中。白光对硬涂层的一硬涂层穿透度、白光对第一黏着层的一第一黏着层穿透度以及白光对光学效果层的基质的一基质穿透度彼此相异。

6. 发明专利

TWI552888B 具內紋路的轉印膜、應用轉印膜之殼體結構及其製備方法有权
简体标题：具内纹路的转印膜、应用转印膜之壳体结构及其制备方法
公开(公告)号：TWI552888B
公开(公告)日：2016-10-11
申请号：TW103116993
申请日：2014-05-14
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO., LTD.
发明人：黃桂齡 , HUANG, KUEI LING , 李鴻昌 , LEE, HUNG CHANG , 林凱尉 , LIN, KAI WEI , 徐禎邦 , HSU, CHEN PANG , 劉郁茹 , LIU, YU JU , 陳駿鵬 , CHEN, CHUN PUNG
IPC分类号： B44C1/16

7. 发明专利

TW201542396A 具內紋路的轉印膜、應用轉印膜之殼體結構及其製備方法审中-公开
简体标题：具内纹路的转印膜、应用转印膜之壳体结构及其制备方法
公开(公告)号：TW201542396A
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：TW103116993
申请日：2014-05-14
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO., LTD.
发明人：黃桂齡 , HUANG, KUEI LING , 李鴻昌 , LEE, HUNG CHANG , 林凱尉 , LIN, KAI WEI , 徐禎邦 , HSU, CHEN PANG , 劉郁茹 , LIU, YU JU , 陳駿鵬 , CHEN, CHUN PUNG
IPC分类号： B44C1/16
摘要：一種具內紋路的轉印膜、應用轉印膜之殼體結構及其製備方法。殼體結構包含一基板、一黏著層、一油墨層、一紫外線硬化樹脂層以及一熱風乾燥塗層。黏著層設置於基板。油墨層設置於黏著層相反於基板之一側。油墨層相反於黏著層之一側具有一立體圖案。紫外線硬化樹脂層設置於油墨層相反於黏著層之一側。紫外線硬化樹脂層面對油墨層之一側具有對應立體圖案之一凹凸紋路。熱風乾燥塗層設置於紫外線硬化樹脂層相反於油墨層之一側。藉此，殼體結構的內部具有圖案並且轉印膜具有軟性的觸感。
简体摘要：一种具内纹路的转印膜、应用转印膜之壳体结构及其制备方法。壳体结构包含一基板、一黏着层、一油墨层、一紫外线硬化树脂层以及一热风干燥涂层。黏着层设置于基板。油墨层设置于黏着层相反于基板之一侧。油墨层相反于黏着层之一侧具有一三維图案。紫外线硬化树脂层设置于油墨层相反于黏着层之一侧。紫外线硬化树脂层面对油墨层之一侧具有对应三維图案之一凹凸纹路。热风干燥涂层设置于紫外线硬化树脂层相反于油墨层之一侧。借此，壳体结构的内部具有图案并且转印膜具有软性的触感。

8. 实用新型

TWM484506U 具外紋路的轉印膜及應用轉印膜之殼體結構有权
简体标题：具外纹路的转印膜及应用转印膜之壳体结构
公开(公告)号：TWM484506U
公开(公告)日：2014-08-21
申请号：TW103208416
申请日：2014-05-14
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO., LTD.
发明人：黃桂齡 , HUANG, KUEI LING , 李鴻昌 , LEE, HUNG CHANG , 林凱尉 , LIN, KAI WEI , 徐禎邦 , HSU, CHEN PANG , 劉郁茹 , LIU, YU JU , 陳駿鵬 , CHEN, CHUN PUNG
IPC分类号： B29C70/00

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