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    • 2. 发明专利
    • 光電半導體晶片 OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR CHIP
    • 光电半导体芯片 OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR CHIP
    • TW201236195A
    • 2012-09-01
    • TW101103749
    • 2012-02-06
    • 歐斯朗奧托半導體股份有限公司
    • 何佩 魯茲
    • H01L
    • H01L33/44H01L33/385H01L33/405
    • 一種光電半導體晶片(1),包括:載體基板(11),半導體層序列(2),其具有第一導電型之第一半導體區(3)、第二導電型之第二半導體區(5)及配置在此二半導體區之間的活性層(4),配置在載體基板(11)和半導體層序列(2)之間的鏡面層(6),電性絕緣之透明包封層(10),其覆蓋鏡面層(6)之側緣(16)及半導體層序列(2)之側緣(21),接合墊(9),其以在橫向上偏離半導體層序列(2)的方式配置,接觸層(7),其用來與第二半導體區(5)形成電性接觸且至少配置在輻射發出面(15)之多個部分區域上,及電性連接層(8),其使接合墊(9)與接觸層(7)導電性連接,且在透明包封層(10)上於半導體層序列(2)之上述側緣(21)上延伸至接合墊(9)。
    • 一种光电半导体芯片(1),包括:载体基板(11),半导体层串行(2),其具有第一导电型之第一半导体区(3)、第二导电型之第二半导体区(5)及配置在此二半导体区之间的活性层(4),配置在载体基板(11)和半导体层串行(2)之间的镜面层(6),电性绝缘之透明包封层(10),其覆盖镜面层(6)之侧缘(16)及半导体层串行(2)之侧缘(21),接合垫(9),其以在横向上偏离半导体层串行(2)的方式配置,接触层(7),其用来与第二半导体区(5)形成电性接触且至少配置在辐射发出面(15)之多个部分区域上,及电性连接层(8),其使接合垫(9)与接触层(7)导电性连接,且在透明包封层(10)上于半导体层串行(2)之上述侧缘(21)上延伸至接合垫(9)。
    • 4. 发明专利
    • 輻射半導體晶片 RADIATION-EMITTING SEMICONDUCTOR CHIP
    • 辐射半导体芯片 RADIATION-EMITTING SEMICONDUCTOR CHIP
    • TW201029232A
    • 2010-08-01
    • TW098139698
    • 2009-11-23
    • 歐斯朗奧托半導體股份有限公司
    • 英格 卡羅何佩 魯茲摩斯伯格 侏根羅德 派翠克凡馬爾姆 諾文
    • H01L
    • H01L27/15H01L25/167H01L33/005H01L33/02H01L33/08H01L33/382H01L33/62H01L2924/0002H01L2933/0016H01L2924/00
    • 一種發出輻射之半導體晶片(1),具有一載體(5)和一包含半導體層序列之半導體本體(2)。具有半導體層序列之半導體本體(2)中形成一放射區(23)和一保護二極體區(24)。該半導體層序列包括一用來產生輻射之活性區(20),其配置在第一半導體層(21)和第二半導體層(22)之間。該第一半導體層(21)配置在該活性區(20)之遠離該載體(5)之一側上。該放射區(23)具有一凹口(25),其經由該活性區而延伸。該第一半導體層(21)在該放射區(23)中可導電地與第一連接層(31)相連接,其中該第一連接層(31)在該凹口(25)中由該第一半導體層(21)延伸至該載體(5)的方向中。該第一連接層在該保護二極體區(24)中可導電地與該第二半導體層(22)相連接。此外,本發明提供一發出輻射之半導體晶片之製造方法。
    • 一种发出辐射之半导体芯片(1),具有一载体(5)和一包含半导体层串行之半导体本体(2)。具有半导体层串行之半导体本体(2)中形成一放射区(23)和一保护二极管区(24)。该半导体层串行包括一用来产生辐射之活性区(20),其配置在第一半导体层(21)和第二半导体层(22)之间。该第一半导体层(21)配置在该活性区(20)之远离该载体(5)之一侧上。该放射区(23)具有一凹口(25),其经由该活性区而延伸。该第一半导体层(21)在该放射区(23)中可导电地与第一连接层(31)相连接,其中该第一连接层(31)在该凹口(25)中由该第一半导体层(21)延伸至该载体(5)的方向中。该第一连接层在该保护二极管区(24)中可导电地与该第二半导体层(22)相连接。此外,本发明提供一发出辐射之半导体芯片之制造方法。
    • 9. 发明专利
    • 光電半導體晶片及其製造方法 OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR CHIP AND ITS PRODUCTION METHOD
    • 光电半导体芯片及其制造方法 OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR CHIP AND ITS PRODUCTION METHOD
    • TW200950161A
    • 2009-12-01
    • TW098110038
    • 2009-03-27
    • 歐斯朗奧托半導體股份有限公司
    • 英格 卡羅何佩 魯茲羅德 派翠克薩巴席 馬提亞
    • H01L
    • H01L33/382H01L33/10H01L33/40H01L33/46H01L33/62H01L2924/0002H01L2924/00
    • 一種光電半導體晶片,包括半導體層序列(2),其在第一導電型之層(21)和第二導電型之層(22)之間具有一用來產生輻射之活性層(23)。該第一導電型之層(21)是與該半導體層序列(2)之前側(110)相鄰。該半導體層序列(2)包括至少一凹口(3),其由該半導體層序列(2)之與該前側(110)相面對的背面(120)經由該活性層(23)而延伸至該第一導電型之層(21)。該第一導電型之層(21)藉由第一電性終端層(5)以經由該凹口(3)來形成電性達接,該第一電性終端層(5)至少依據位置來覆蓋該半導體層序列(2)之背面(120)。該半導體層晶片在該凹口(3)之區域中包括一接面層(20),其所具有的材料成份包括該第一導電型之層(21)之材料和該第一電性終端層(5)之材料。此外,本發明亦涉及此種半導體晶片的製造方法。
    • 一种光电半导体芯片,包括半导体层串行(2),其在第一导电型之层(21)和第二导电型之层(22)之间具有一用来产生辐射之活性层(23)。该第一导电型之层(21)是与该半导体层串行(2)之前侧(110)相邻。该半导体层串行(2)包括至少一凹口(3),其由该半导体层串行(2)之与该前侧(110)相面对的背面(120)经由该活性层(23)而延伸至该第一导电型之层(21)。该第一导电型之层(21)借由第一电性终端层(5)以经由该凹口(3)来形成电性达接,该第一电性终端层(5)至少依据位置来覆盖该半导体层串行(2)之背面(120)。该半导体层芯片在该凹口(3)之区域中包括一接面层(20),其所具有的材料成份包括该第一导电型之层(21)之材料和该第一电性终端层(5)之材料。此外,本发明亦涉及此种半导体芯片的制造方法。