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1. 发明专利

TW200536624A 循環式氣體溶解水供給裝置及該裝置之運轉方法 CIRCULATED TYPE GAS-SOLUBLE WATER SUPPLYING DEVICE AND THE RUNNING METHOD OF SAID DEVICE 审中-公开
简体标题：循环式气体溶解水供给设备及该设备之运转方法 CIRCULATED TYPE GAS-SOLUBLE WATER SUPPLYING DEVICE AND THE RUNNING METHOD OF SAID DEVICE
公开(公告)号：TW200536624A
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：TW094105717
申请日：2005-02-25
申请人：栗田工業股份有限公司 KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：床裕人 TOKOSHIMA, HIROTO , 井田純一 IDA, JUNICHI , 森田博志 MORITA, HIROSHI
IPC分类号： B08B
CPC分类号： B01F1/00 , B08B3/08 , B08B3/10 , C02F1/68 , H01L21/304 , H01L21/306
摘要：本發明係提供一種循環式氣體溶解水供給裝置及該裝置之運轉方法，該循環式氣體溶解水供給裝置係使洗淨機未使用之氣體溶解水返回到水槽，並將溶存於氣體溶解水之特定氣體的濃度，維持在一定值以上，並且，可將貯存氣體溶解水的水槽之上部空間之特定氣體的濃度保持較低。且，本發明係一種循環式氣體溶解水供給裝置，及該裝置之運轉方法，該循環式氣體溶解水供給裝置係具有製造特定之氣體溶解水的溶解裝置A、貯存氣體溶解水之水槽B、連繫溶解裝置A與水槽B之連接配管C、將水槽B之貯存水送出之泵D、從水槽B經過泵D與通向洗淨機之分歧點而返回水槽B之循環配管E、將氣體供給到水槽B之上部空間之氣體配管F之裝置，且連接配管C及循環配管E之下端沒入於水槽B內之水面下，及該運轉方法係在該裝置中，相對於藉由泵D送出之氣體溶解水100體積份，將從溶解裝置A對水槽B補給的氣體溶解水之量，做成5體積份以上。
简体摘要：本发明系提供一种循环式气体溶解水供给设备及该设备之运转方法，该循环式气体溶解水供给设备系使洗净机未使用之气体溶解水返回到水槽，并将溶存于气体溶解水之特定气体的浓度，维持在一定值以上，并且，可将贮存气体溶解水的水槽之上部空间之特定气体的浓度保持较低。且，本发明系一种循环式气体溶解水供给设备，及该设备之运转方法，该循环式气体溶解水供给设备系具有制造特定之气体溶解水的溶解设备A、贮存气体溶解水之水槽B、连系溶解设备A与水槽B之连接配管C、将水槽B之贮存水送出之泵D、从水槽B经过泵D与通向洗净机之分歧点而返回水槽B之循环配管E、将气体供给到水槽B之上部空间之气体配管F之设备，且连接配管C及循环配管E之下端没入于水槽B内之水面下，及该运转方法系在该设备中，相对于借由泵D送出之气体溶解水100体积份，将从溶解设备A对水槽B补给的气体溶解水之量，做成5体积份以上。

2. 发明专利

TW200836246A 洗淨用液體、洗淨方法、液體產生裝置、曝光裝置、以及元件製造方法 CLEANING LIQUID, CLEANING METHOD, LIQUID GENERATING APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE FABRICATING METHOD 审中-公开
简体标题：洗净用液体、洗净方法、液体产生设备、曝光设备、以及组件制造方法 CLEANING LIQUID, CLEANING METHOD, LIQUID GENERATING APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE FABRICATING METHOD
公开(公告)号：TW200836246A
公开(公告)日：2008-09-01
申请号：TW096146002
申请日：2007-12-04
申请人：尼康股份有限公司 NIKON CORPORATION , 栗田工業股份有限公司 KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：長博之 NAGASAKA, HIROYUKI , 森田博志 MORITA, HIROSHI , 床裕人 TOKOSHIMA, HIROTO
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F7/70341 , Y10T137/0318
摘要：曝光裝置,係透過曝光用液體以曝光用光使基板曝光。洗淨用液體,係為了洗淨曝光裝置之至少一部分而被供應至曝光裝置。洗淨用液體中,既定氣體係被溶解至飽和濃度以上。
简体摘要：曝光设备,系透过曝光用液体以曝光用光使基板曝光。洗净用液体,系为了洗净曝光设备之至少一部分而被供应至曝光设备。洗净用液体中,既定气体系被溶解至饱和浓度以上。

3. 发明专利

TW200744763A 溶解氣體洗淨水之製法、製造裝置及洗淨裝置 A PROCESS FOR PRODUCING CLEANING WATER CONTAINING DISSOLVED GAS, AN APPARATUS FOR THE PROCESS AND AN APPALATUS FOR CLEANING 审中-公开
简体标题：溶解气体洗净水之制法、制造设备及洗净设备 A PROCESS FOR PRODUCING CLEANING WATER CONTAINING DISSOLVED GAS, AN APPARATUS FOR THE PROCESS AND AN APPALATUS FOR CLEANING
公开(公告)号：TW200744763A
公开(公告)日：2007-12-16
申请号：TW096108398
申请日：2007-03-12
申请人：栗田工業股份有限公司 KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：森田博志 MORITA, HIROSHI , 床裕人 TOKOSHIMA, HIROTO
IPC分类号： B08B
CPC分类号： C02F1/70 , B01D19/0036 , B01F3/04269 , B01F2003/04404 , B01F2003/04914 , B08B3/12 , B08B9/0321 , C01B3/501 , C01B2203/0405 , C01B2203/0495 , C02F1/444 , C11D3/0052 , H01L21/67057
摘要：【課題】本發明係提供一種不使用真空泵等減壓機構,可安全地製造預期的氣體濃度之溶解氣體洗淨水,可再利用已使用過的溶解氣體洗淨水的水和特定氣體,且適用於需求高清潔度的電子零件等的洗淨的溶解氣體洗淨水之製法、製造裝置及洗淨裝置。【解決方法】使特定氣體溶解於水的溶解氣體洗淨水之製法中,於超過大氣壓的加壓下使特定氣體溶解於水,作為大氣壓下溶解度以上的濃度之溶解氣體水,其次使溶解氣體水減壓,去除部分溶存氣體之溶解氣體洗淨水之製造方法、具有於超過大氣壓的加壓下使特定氣體溶解於水之氣體溶解裝置、使來自溶解氣體裝置的溶解氣體水減壓至較溶解氣體時的壓力更低之壓力而去除溶存氣體之一部分之部分氣體去除裝置之溶解氣體洗淨水的製造裝置、及使用該溶解氣體洗淨水之洗淨裝置。
简体摘要：【课题】本发明系提供一种不使用真空泵等减压机构,可安全地制造预期的气体浓度之溶解气体洗净水,可再利用已使用过的溶解气体洗净水的水和特定气体,且适用于需求高清洁度的电子零件等的洗净的溶解气体洗净水之制法、制造设备及洗净设备。【解决方法】使特定气体溶解于水的溶解气体洗净水之制法中,于超过大气压的加压下使特定气体溶解于水,作为大气压下溶解度以上的浓度之溶解气体水,其次使溶解气体水减压,去除部分溶存气体之溶解气体洗净水之制造方法、具有于超过大气压的加压下使特定气体溶解于水之气体溶解设备、使来自溶解气体设备的溶解气体水减压至较溶解气体时的压力更低之压力而去除溶存气体之一部分之部分气体去除设备之溶解气体洗净水的制造设备、及使用该溶解气体洗净水之洗净设备。

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