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1. 发明专利

TW563161B 液體塗覆噴嘴製造方法失效
简体标题：液体涂覆喷嘴制造方法
公开(公告)号：TW563161B
公开(公告)日：2003-11-21
申请号：TW089104735
申请日：1997-02-20
申请人：松下電器產業股份有限公司
发明人：三谷真人 , 中島和人 , 小谷博之 , 外園信貴 , 中裕之 , 山口明 , 池田順治
IPC分类号： H01J , B05B
CPC分类号： B05B7/0884 , B05B7/02 , B05B7/025 , B05C5/02 , B05C5/0208 , B05C5/0254 , B05C5/027 , B05C11/08 , H01J9/227
摘要：一個液體塗覆噴嘴(4、4a、124)設有一個第一區塊(41)，其具有一個內部液體貯存區段(43)，該區段是沿著其縱伸方向延伸，及一個內部排放區段，該區段是由許多小孔洞(44)所構成，這些小孔洞是在該液體貯存區段(43)的底部沿著該縱伸方向形成，及一個第二區塊(42)，其具有一個內部空間，該空間界定了一個在該第一區塊(41)外面在縱向上延伸的氣體貯存區段(46)，及一個在該內部空間的底部沿著該縱伸方向形成的外部排放區段，該區段是由許多小孔洞所構成並且形成一股環繞在一直線狀或簾狀液體流的外部的氣體流，該液體流是由這些小孔洞(44)向下流動。
简体摘要：一个液体涂覆喷嘴(4、4a、124)设有一个第一区块(41)，其具有一个内部液体贮存区段(43)，该区段是沿着其纵伸方向延伸，及一个内部排放区段，该区段是由许多小孔洞(44)所构成，这些小孔洞是在该液体贮存区段(43)的底部沿着该纵伸方向形成，及一个第二区块(42)，其具有一个内部空间，该空间界定了一个在该第一区块(41)外面在纵向上延伸的气体贮存区段(46)，及一个在该内部空间的底部沿着该纵伸方向形成的外部排放区段，该区段是由许多小孔洞所构成并且形成一股环绕在一直线状或帘状液体流的外部的气体流，该液体流是由这些小孔洞(44)向下流动。

2. 发明专利

TW473766B 液體塗覆噴嘴、液體塗覆方法、液體塗覆裝置、及陰極射線管製造方法失效
简体标题：液体涂覆喷嘴、液体涂覆方法、液体涂覆设备、及阴极射线管制造方法
公开(公告)号：TW473766B
公开(公告)日：2002-01-21
申请号：TW086102023
申请日：1997-02-20
申请人：松下電器產業股份有限公司
发明人：三谷真人 , 中島和人 , 小谷博之 , 外園信貴 , 中裕之 , 山口明 , 池田順治
IPC分类号： H01J , B05B
CPC分类号： B05B7/0884 , B05B7/02 , B05B7/025 , B05C5/02 , B05C5/0208 , B05C5/0254 , B05C5/027 , B05C11/08 , H01J9/227
摘要：一個液體塗覆噴嘴(4、4a-124)設有一個第一區塊(41)，其具有一個內部液體貯存區段(43)，該區段是沿著其縱伸方向延伸，及一個內部排放區段，該區段是由許多小孔洞(44)所構成，這些小孔洞是在該液體貯存區段(43)的底部沿著該縱伸方向形成，及一個第二區塊(42)，其具有一個內部空間，該空間界定了一個在該第一區塊(41)外面在縱向上延伸的氣體貯存區段(46)，及一個在該內部空間的底部沿著該縱伸方向形成的外部排放區段，該區段是由許多小孔洞所構成並且形成一股環繞在一直線狀或簾狀液體流的外部的氣體流，該液體流是由這些小孔洞(44)向下流動。
简体摘要：一个液体涂覆喷嘴(4、4a-124)设有一个第一区块(41)，其具有一个内部液体贮存区段(43)，该区段是沿着其纵伸方向延伸，及一个内部排放区段，该区段是由许多小孔洞(44)所构成，这些小孔洞是在该液体贮存区段(43)的底部沿着该纵伸方向形成，及一个第二区块(42)，其具有一个内部空间，该空间界定了一个在该第一区块(41)外面在纵向上延伸的气体贮存区段(46)，及一个在该内部空间的底部沿着该纵伸方向形成的外部排放区段，该区段是由许多小孔洞所构成并且形成一股环绕在一直线状或帘状液体流的外部的气体流，该液体流是由这些小孔洞(44)向下流动。

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