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1. 发明专利

TW201801230A 基板懸浮搬送裝置审中-公开
简体标题：基板悬浮搬送设备
公开(公告)号：TW201801230A
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW106108651
申请日：2017-03-16
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO., LTD.
发明人：濱川健史 , HAMAKAWA, KENJI , 奧田大輔 , OKUDA, DAISUKE , 森俊裕 , MORI, TOSHIHIRO , 岡本貫志 , OKAMOTO, KANJI , 伊藤俊文 , ITO, TOSHIFUMI
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/06 , B05C13/02
CPC分类号： B65G49/06 , B05C13/02 , G02F1/13 , H01L21/027 , H01L21/677
摘要：本發明提供一種基板懸浮搬送裝置，其可避免裝置構成之複雜化，不會引起成本上升，可使懸浮之基板容易地保持於固定高度。本發明之基板懸浮搬送裝置具備：懸浮平台，其使基板懸浮；基板保持單元，其保持由懸浮平台而懸浮之基板；及搬送驅動部，其於由基板保持單元保持有基板之狀態下，使基板保持單元移動，藉此使基板於搬送方向上移動；且基板保持單元具有吸附基板之複數個吸附部、及將該等所有的吸附部以排列於搬送方向之狀態安裝之保持框部，保持框部係經由升降部而設置於搬送驅動部，形成為藉由使升降部動作而使保持框部進行升降動作，從而使所有的吸附部相對於基板進行相接/分離動作。
简体摘要：本发明提供一种基板悬浮搬送设备，其可避免设备构成之复杂化，不会引起成本上升，可使悬浮之基板容易地保持于固定高度。本发明之基板悬浮搬送设备具备：悬浮平台，其使基板悬浮；基板保持单元，其保持由悬浮平台而悬浮之基板；及搬送驱动部，其于由基板保持单元保持有基板之状态下，使基板保持单元移动，借此使基板于搬送方向上移动；且基板保持单元具有吸附基板之复数个吸附部、及将该等所有的吸附部以排列于搬送方向之状态安装之保持框部，保持框部系经由升降部而设置于搬送驱动部，形成为借由使升降部动作而使保持框部进行升降动作，从而使所有的吸附部相对于基板进行相接/分离动作。

2. 发明专利

TW201825373A 脫臭裝置及塗布裝置审中-公开
简体标题：脱臭设备及涂布设备
公开(公告)号：TW201825373A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106130105
申请日：2017-09-04
申请人：日商東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO., LTD.
发明人：濱川健史 , HAMAKAWA, KENJI , 森俊裕 , MORI, TOSHIHIRO , 岡本貫志 , OKAMOTO, KANJI
IPC分类号： B65G49/06 , H01L21/677 , B05C11/02
摘要：本發明提供一種能於不降低臭氣量之情況下，抑制因供臭氣流通之臭氣配管部摩擦所致的發塵且能提高耐久性之脫臭裝置、及具有該脫臭裝置之塗布裝置。本發明之脫臭裝置係設於在被搬送至平台面之基板形成塗布膜之塗布裝置者，該脫臭裝置構成為，具有：脫臭器本體，其可相對於塗布器移動地設置，對廢液托盤之臭氣進行脫臭；支持框架部，其具有排氣抽吸源；及接頭管部，其將脫臭器本體與支持框架部連結，而將上述脫臭器本體之臭氣導入至排氣抽吸源；接頭管部具有將脫臭器本體與支持框架連結之連通管部、及支持連通管部且使該連通管部可繞與平台面垂直之軸旋轉之回轉支持部，於支持框架部，設有容許回轉支持部於與脫臭器本體之移動方向正交之方向位移的差分吸收導引部。
简体摘要：本发明提供一种能于不降低臭气量之情况下，抑制因供臭气流通之臭气配管部摩擦所致的发尘且能提高耐久性之脱臭设备、及具有该脱臭设备之涂布设备。本发明之脱臭设备系设于在被搬送至平台面之基板形成涂布膜之涂布设备者，该脱臭设备构成为，具有：脱臭器本体，其可相对于涂布器移动地设置，对废液托盘之臭气进行脱臭；支持框架部，其具有排气抽吸源；及接头管部，其将脱臭器本体与支持框架部链接，而将上述脱臭器本体之臭气导入至排气抽吸源；接头管部具有将脱臭器本体与支持框架链接之连通管部、及支持连通管部且使该连通管部可绕与平台面垂直之轴旋转之回转支持部，于支持框架部，设有容许回转支持部于与脱臭器本体之移动方向正交之方向位移的差分吸收导引部。

3. 发明专利

TW201708087A 基板懸浮搬送裝置审中-公开
简体标题：基板悬浮搬送设备
公开(公告)号：TW201708087A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105119622
申请日：2016-06-22
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO., LTD.
发明人：濱川健史 , HAMAKAWA, KENJI , 奧田大輔 , OKUDA, DAISUKE , 森俊裕 , MORI, TOSHIHIRO , 岡本貫志 , OKAMOTO, KANJI
IPC分类号： B65G51/02
摘要：本發明之課題在於提供一種即便是橫斷方向尺寸較大之寬幅基板亦可在高精度地維持平面度下進行搬送之基板懸浮搬送裝置。本發明之基板懸浮搬送裝置設為以下構成：其包含：懸浮平台部，其於搬送方向延伸，且使基板於基板懸浮面上懸浮；及基板保持部，其保持於基板懸浮面上懸浮之基板；且在藉由以保持於上述基板懸浮面上懸浮之狀態之基板之狀態使基板保持部沿著搬送方向移動，將基板以於基板懸浮面上懸浮之狀態進行搬送的基板懸浮搬送裝置中，於懸浮平台部與基板保持部之間包含：輔助懸浮支持部，其係於搬送較基準尺寸之基板於與搬送方向正交之橫斷方向尺寸更大之寬幅基板之情形時，使自基板懸浮面於橫斷方向超出之寬幅基板之超出區域懸浮。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种即便是横断方向尺寸较大之宽幅基板亦可在高精度地维持平面度下进行搬送之基板悬浮搬送设备。本发明之基板悬浮搬送设备设为以下构成：其包含：悬浮平台部，其于搬送方向延伸，且使基板于基板悬浮面上悬浮；及基板保持部，其保持于基板悬浮面上悬浮之基板；且在借由以保持于上述基板悬浮面上悬浮之状态之基板之状态使基板保持部沿着搬送方向移动，将基板以于基板悬浮面上悬浮之状态进行搬送的基板悬浮搬送设备中，于悬浮平台部与基板保持部之间包含：辅助悬浮支持部，其系于搬送较基准尺寸之基板于与搬送方向正交之横断方向尺寸更大之宽幅基板之情形时，使自基板悬浮面于横断方向超出之宽幅基板之超出区域悬浮。

4. 发明专利

TWI675788B 基板懸浮搬送裝置有权
简体标题：基板悬浮搬送设备
公开(公告)号：TWI675788B
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：TW105119622
申请日：2016-06-22
申请人：日商東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO., LTD.
发明人：濱川健史 , HAMAKAWA, KENJI , 奧田大輔 , OKUDA, DAISUKE , 森俊裕 , MORI, TOSHIHIRO , 岡本貫志 , OKAMOTO, KANJI
IPC分类号： B65G51/02

5. 发明专利

TWI458564B 塗佈裝置及其基板保持方法有权
简体标题：涂布设备及其基板保持方法
公开(公告)号：TWI458564B
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW097138880
申请日：2008-10-09
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING COMPANY, LIMITED
发明人：森俊裕 , MORI, TOSHIHIRO , 伊藤禎彥 , ITO, SADAHIKO
IPC分类号： B05C13/00

6. 发明专利

TWI446973B 塗佈裝置有权
简体标题：涂布设备
公开(公告)号：TWI446973B
公开(公告)日：2014-08-01
申请号：TW097148381
申请日：2008-12-12
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING COMPANY, LIMITED
发明人：釜谷學 , KAMATANI, MANABU , 森俊裕 , MORI, TOSHIHIRO
IPC分类号： B05C13/02 , B05C5/00 , G02F1/1333

7. 发明专利

TWI560023B 標度裝置有权
简体标题：标度设备
公开(公告)号：TWI560023B
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW101132172
申请日：2012-09-04
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING COMPANY, LIMITED
发明人：濱川健史 , HAMAKAWA, KENJI , 森俊裕 , MORI, TOSHIHIRO
IPC分类号： B23Q17/22 , B05C21/00
CPC分类号： G01D5/34753

8. 发明专利

TWI559365B 塗佈裝置有权
简体标题：涂布设备
公开(公告)号：TWI559365B
公开(公告)日：2016-11-21
申请号：TW102100474
申请日：2013-01-07
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING COMPANY, LIMITED
发明人：森俊裕 , MORI, TOSHIHIRO , 濱川健史 , HAMAKAWA, KENJI
IPC分类号： H01L21/027 , B05C13/00 , B65G49/06 , H01L21/68

9. 发明专利

TW201338017A 塗佈裝置审中-公开
简体标题：涂布设备
公开(公告)号：TW201338017A
公开(公告)日：2013-09-16
申请号：TW102100474
申请日：2013-01-07
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING COMPANY, LIMITED
发明人：森俊裕 , MORI, TOSHIHIRO , 濱川健史 , HAMAKAWA, KENJI
IPC分类号： H01L21/027 , B05C13/00 , B65G49/06 , H01L21/68
摘要：本發明的課題為提供一種在對被運送的基板進行塗佈的塗佈裝置中，藉由簡單的構成提高由感測器得到的噴嘴的橫向兩端部中的高度位置的檢測精度。本發明的解決手段為一種塗佈裝置，包含:將基板W運送於水平的運送方向之運送機構部2；具有在橫向長且對向於被運送的基板W的噴嘴30之塗佈機構部3；為了調整噴嘴30對水平面的姿勢而檢測噴嘴30的橫向兩端部35中的高度位置之感測器7。運送機構部2包含:延伸於運送方向之導軌21；沿著該導軌21移動之底座構件23；搭載於底座構件23，在運送基板W時保持基板W的橫向兩端部E之吸附機構25。感測器7與吸附機構25一起被搭載於底座構件23。
简体摘要：本发明的课题为提供一种在对被运送的基板进行涂布的涂布设备中，借由简单的构成提高由传感器得到的喷嘴的横向两端部中的高度位置的检测精度。本发明的解决手段为一种涂布设备，包含:将基板W运送于水平的运送方向之运送机构部2；具有在横向长且对向于被运送的基板W的喷嘴30之涂布机构部3；为了调整喷嘴30对水平面的姿势而检测喷嘴30的横向两端部35中的高度位置之传感器7。运送机构部2包含:延伸于运送方向之导轨21；沿着该导轨21移动之底座构件23；搭载于底座构件23，在运送基板W时保持基板W的横向两端部E之吸附机构25。传感器7与吸附机构25一起被搭载于底座构件23。

10. 发明专利

TWI458565B 塗佈裝置及塗佈方法有权
简体标题：涂布设备及涂布方法
公开(公告)号：TWI458565B
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW097138873
申请日：2008-10-09
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING COMPANY, LIMITED
发明人：森俊裕 , MORI, TOSHIHIRO , 釜谷學 , KAMATANI, MANABU
IPC分类号： B05C13/02

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