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1. 发明专利

TW201815750A 光阻組成物及光阻圖型形成方法以及化合物及酸產生劑审中-公开
简体标题：光阻组成物及光阻图型形成方法以及化合物及酸产生剂
公开(公告)号：TW201815750A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106121287
申请日：2017-06-26
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：鈴木一生 , SUZUKI, ISSEI , 矢萩真人 , YAHAGI, MASAHITO , 福村友貴 , FUKUMURA, YUKI , 海老澤和明 , EBISAWA, KAZUAKI , 小室嘉崇 , KOMURO, YOSHITAKA , 高山寿一 , TAKAYAMA, TOSHIKAZU , 神園喬 , KAMIZONO, TAKASHI , 藤井達也 , FUJII, TATSUYA
IPC分类号： C07C309/24 , G03F7/004 , G03F7/039
摘要：本案發明為一種因曝光產生酸，且因酸之作用而對顯像液之溶解性有變化之光阻組成物，且其特徵為含有因酸之作用而對顯像液之溶解性有變化之基材成分、與一般式(b1)所表示之酸產生劑。式(b1)中，Rb1表示具有至少1個碳數3以上之烷基作為取代基之芳香族烴基。Yb1表示包含酯鍵結(-C(=O)-O-或-O-C(=O)-)之2價連結基。Vb1表示伸烷基、氟化伸烷基或單鍵。m為1以上之整數，Mm+表示m價之有機陽離子。 [化1]Rb1-Yb1-Vb1-CF2-SO3-(Mm+)1/m...(b1)
简体摘要：本案发明为一种因曝光产生酸，且因酸之作用而对显像液之溶解性有变化之光阻组成物，且其特征为含有因酸之作用而对显像液之溶解性有变化之基材成分、与一般式(b1)所表示之酸产生剂。式(b1)中，Rb1表示具有至少1个碳数3以上之烷基作为取代基之芳香族烃基。Yb1表示包含酯键结(-C(=O)-O-或-O-C(=O)-)之2价链接基。Vb1表示伸烷基、氟化伸烷基或单键。m为1以上之整数，Mm+表示m价之有机阳离子。 [化1]Rb1-Yb1-Vb1-CF2-SO3-(Mm+)1/m...(b1)

2. 发明专利

TWI699621B 鍍敷造形物之製造方法及感光性組成物之提供方法有权
简体标题：镀敷造形物之制造方法及感光性组成物之提供方法
公开(公告)号：TWI699621B
公开(公告)日：2020-07-21
申请号：TW108104550
申请日：2019-02-12
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：桃澤綾 , MOMOZAWA, AYA , 黒岩靖司 , KUROIWA, YASUSHI , 片山翔太 , KATAYAMA, SHOTA , 山本悠太 , YAMAMOTO, YUTA , 海老澤和明 , EBISAWA, KAZUAKI
IPC分类号： G03F7/039 , H01L21/027

3. 发明专利

TW201921110A 化學增強型正型感光性樹脂組成物、感光性乾薄膜、感光性乾薄膜之製造方法、圖型化阻劑膜之製造方法、附膜具基板之製造方法，及鍍敷造形物之製造方法，及氫硫化合物审中-公开
简体标题：化学增强型正型感光性树脂组成物、感光性干薄膜、感光性干薄膜之制造方法、图型化阻剂膜之制造方法、附膜具基板之制造方法，及镀敷造形物之制造方法，及氢硫化合物
公开(公告)号：TW201921110A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107134064
申请日：2018-09-27
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：川上晃也 , KAWAUE, AKIYA , 黒岩靖司 , KUROIWA, YASUSHI , 片山翔太 , KATAYAMA, SHOTA , 海老澤和明 , EBISAWA, KAZUAKI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039
摘要： [課題]本發明提供一種化學增強型正型感光性樹脂組成物，其於具有金屬表面之基板的金屬表面上形成作為鍍敷造形物的模具之阻劑圖型時，可抑制相較於非阻劑部中的頂部(Top)(阻劑層之表面側)的寬度，底部(支撐體之表面側)之寬度為更狹窄的「腳化(footing)」之發生的化學增強型正型感光性樹脂組成物，與感光性乾薄膜、該感光性乾薄膜之製造方法，及圖型化阻劑膜之製造方法，及前述之附模具基板之製造方法，及使用該附模具基板的鍍敷造形物之製造方法。 [解決手段]一種包含經由活性光線或輻射線之照射而產生酸的酸產生劑(A)，與經由酸之作用而增大對鹼之溶解性的樹脂(B)的化學增強型正型感光性樹脂組成物中，含有特定之構造的氫硫化合物。
简体摘要： [课题]本发明提供一种化学增强型正型感光性树脂组成物，其于具有金属表面之基板的金属表面上形成作为镀敷造形物的模具之阻剂图型时，可抑制相较于非阻剂部中的顶部(Top)(阻剂层之表面侧)的宽度，底部(支撑体之表面侧)之宽度为更狭窄的“脚化(footing)”之发生的化学增强型正型感光性树脂组成物，与感光性干薄膜、该感光性干薄膜之制造方法，及图型化阻剂膜之制造方法，及前述之附模具基板之制造方法，及使用该附模具基板的镀敷造形物之制造方法。 [解决手段]一种包含经由活性光线或辐射线之照射而产生酸的酸产生剂(A)，与经由酸之作用而增大对碱之溶解性的树脂(B)的化学增强型正型感光性树脂组成物中，含有特定之构造的氢硫化合物。

4. 发明专利

TW201902874A 化學增強型正型感光性樹脂組成物、附鑄模之基板之製造方法及鍍敷造形物之製造方法审中-公开
简体标题：化学增强型正型感光性树脂组成物、附铸模之基板之制造方法及镀敷造形物之制造方法
公开(公告)号：TW201902874A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107107387
申请日：2018-03-06
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：海老澤和明 , EBISAWA, KAZUAKI
IPC分类号： C07C323/52 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/40 , H01L21/027 , C25D5/02
摘要：本發明係提供使用化學增強型正型感光性(chemically amplified positive photosensitive)樹脂組成物，在具有金屬表面之基板之金屬表面上，形成成為鍍敷造形物之鑄模的阻劑圖型時，可抑制非阻劑部，底部(支撐體表面側)之寬度比頂部(阻劑層之表面側)之寬度窄之「基腳(footing)」之發生及顯影殘渣之發生的化學增強型正型感光性樹脂組成物、使用該感光性樹脂組成物之附鑄模之基板之製造方法及使用該附鑄模之基板之鍍敷造形物之製造方法。　　本發明係使於包含藉由活性光線或放射線之照射產生酸的酸產生劑(A)及藉由酸之作用，增大對鹼之溶解性的樹脂(B)的化學增強型正型感光性樹脂組成物中，含有特定構造的巰基化合物。
简体摘要：本发明系提供使用化学增强型正型感光性(chemically amplified positive photosensitive)树脂组成物，在具有金属表面之基板之金属表面上，形成成为镀敷造形物之铸模的阻剂图型时，可抑制非阻剂部，底部(支撑体表面侧)之宽度比顶部(阻剂层之表面侧)之宽度窄之“基脚(footing)”之发生及显影残渣之发生的化学增强型正型感光性树脂组成物、使用该感光性树脂组成物之附铸模之基板之制造方法及使用该附铸模之基板之镀敷造形物之制造方法。　　本发明系使于包含借由活性光线或放射线之照射产生酸的酸产生剂(A)及借由酸之作用，增大对碱之溶解性的树脂(B)的化学增强型正型感光性树脂组成物中，含有特定构造的巯基化合物。

5. 发明专利

TW202026759A 化學增幅型正型感光性樹脂組成物、感光性乾膜、感光性乾膜之製造方法、經圖型化之阻劑膜之製造方法、附有鑄模之基板之製造方法及鍍敷造形物之製造方法审中-公开
简体标题：化学增幅型正型感光性树脂组成物、感光性干膜、感光性干膜之制造方法、经图型化之阻剂膜之制造方法、附有铸模之基板之制造方法及镀敷造形物之制造方法
公开(公告)号：TW202026759A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108140140
申请日：2019-11-05
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：桃澤綾 , MOMOZAWA, AYA , 黒岩靖司 , KUROIWA, YASUSHI , 増田靖男 , MASUDA, YASUO , 川上晃也 , KAWAUE, AKIYA , 片山翔太 , KATAYAMA, SHOTA , 海老澤和明 , EBISAWA, KAZUAKI , 福元浩平 , FUKUMOTO, KOHEI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , H01L21/027
摘要：本發明之課題係提供:容易形成斷面形狀為矩形之阻劑圖型且感度為良好的化學增幅型正型感光性樹脂組成物；具備含有該化學增幅型正型感光性樹脂組成物之感光性樹脂層的感光性乾膜、該感光性乾膜之製造方法；使用前述的化學增幅型正型感光性樹脂組成物之經圖型化之阻劑膜之製造方法；使用前述的化學增幅型正型感光性樹脂組成物之附有鑄模之基板之製造方法；及，使用該附有鑄模之基板之鍍敷造形物之製造方法。解決課題之手段之本發明之化學增幅型正型感光性樹脂組成物，其包含藉由活性光線或放射線的照射來產生酸的酸產生劑(A)與藉由酸的作用來增加對於鹼的溶解性的樹脂(B)，酸產生劑(A)包含具有萘醯亞胺骨架的酸產生劑(A-1)，與在波長365nm下的莫耳吸光係數較酸產生劑(A-1)為低的酸產生劑(A-2)。
简体摘要：本发明之课题系提供:容易形成断面形状为矩形之阻剂图型且感度为良好的化学增幅型正型感光性树脂组成物；具备含有该化学增幅型正型感光性树脂组成物之感光性树脂层的感光性干膜、该感光性干膜之制造方法；使用前述的化学增幅型正型感光性树脂组成物之经图型化之阻剂膜之制造方法；使用前述的化学增幅型正型感光性树脂组成物之附有铸模之基板之制造方法；及，使用该附有铸模之基板之镀敷造形物之制造方法。解决课题之手段之本发明之化学增幅型正型感光性树脂组成物，其包含借由活性光线或放射线的照射来产生酸的酸产生剂(A)与借由酸的作用来增加对于碱的溶解性的树脂(B)，酸产生剂(A)包含具有萘酰亚胺骨架的酸产生剂(A-1)，与在波长365nm下的莫耳吸光系数较酸产生剂(A-1)为低的酸产生剂(A-2)。

6. 发明专利

TW202014802A 化學增幅型正型感光性樹脂組成物、附有鑄模之基板的製造方法，及鍍敷造形物的製造方法审中-公开
简体标题：化学增幅型正型感光性树脂组成物、附有铸模之基板的制造方法，及镀敷造形物的制造方法
公开(公告)号：TW202014802A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108125958
申请日：2019-07-23
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：片山翔太 , KATAYAMA, SHOTA , 海老澤和明 , EBISAWA, KAZUAKI
IPC分类号： G03F7/039 , C25D5/02 , H01L21/027 , H01L23/485
摘要： [課題]本發明之課題在於提供一種於鍍敷造形物作成後將鑄模去除時，可抑制鑄模之殘渣物對於鍍敷造形物之附著之化學增幅型正型感光性樹脂組成物，及使用該化學增幅型正型感光性樹脂組成物之附有鑄模之基板的製造方法，及使用該化學增幅型正型感光性樹脂組成物之鍍敷造形物的製造方法。 [解決手段]使用含有包含特定量之沸點120～180℃之有機溶劑(S1)之特定的成分，且滿足以下之[要件1]化學增幅型正型感光性樹脂組成物。 [要件1] 藉由以下之步驟1)、2)所測定之溶媒殘存率為3.5質量%以下。 1)藉由將化學增幅型正型感光性樹脂組成物塗佈於基板，形成40μm之塗膜。 2)藉由比有機溶劑(S1)之沸點高10℃之溫度烘烤30秒，並藉由GC(氣相層析)算出烘烤後之塗膜之總質量中有機溶劑(S1)之比例。
简体摘要： [课题]本发明之课题在于提供一种于镀敷造形物作成后将铸模去除时，可抑制铸模之残渣物对于镀敷造形物之附着之化学增幅型正型感光性树脂组成物，及使用该化学增幅型正型感光性树脂组成物之附有铸模之基板的制造方法，及使用该化学增幅型正型感光性树脂组成物之镀敷造形物的制造方法。 [解决手段]使用含有包含特定量之沸点120～180℃之有机溶剂(S1)之特定的成分，且满足以下之[要件1]化学增幅型正型感光性树脂组成物。 [要件1] 借由以下之步骤1)、2)所测定之溶媒残存率为3.5质量%以下。 1)借由将化学增幅型正型感光性树脂组成物涂布于基板，形成40μm之涂膜。 2)借由比有机溶剂(S1)之沸点高10℃之温度烘烤30秒，并借由GC(气相层析)算出烘烤后之涂膜之总质量中有机溶剂(S1)之比例。

7. 发明专利

TW202014409A 化學增幅型正型感光性樹脂組成物、感光性乾膜、感光性乾膜之製造方法、圖型化之阻劑膜之製造方法、附鑄模之基板的製造方法、鍍敷造形物之製造方法及含氮芳香族雜環化合物审中-公开
简体标题：化学增幅型正型感光性树脂组成物、感光性干膜、感光性干膜之制造方法、图型化之阻剂膜之制造方法、附铸模之基板的制造方法、镀敷造形物之制造方法及含氮芳香族杂环化合物
公开(公告)号：TW202014409A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108122118
申请日：2019-06-25
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：海老澤和明 , EBISAWA, KAZUAKI
IPC分类号： C07D213/79 , G03F7/039
摘要：本發明係提供容易形成剖面形狀為矩形之阻劑圖型的化學增幅型正型感光性樹脂組成物，具備由該化學增幅型正型感光性樹脂組成物所成之感光性樹脂層的感光性乾膜，該感光性乾膜之製造方法，使用前述化學增幅型正型感光性樹脂組成物之圖型化之阻劑膜之製造方法，使用前述化學增幅型正型感光性樹脂組成物之附鑄模之基板之製造方法，使用該附鑄模之基板之鍍敷造形物之製造方法，及新穎之含氮芳香族雜環化合物。在包含藉由活性光線或輻射線之照射產生酸的酸產生劑(A)及藉由酸之作用增加對鹼之溶解性的樹脂(B)的化學增幅型正型感光性樹脂組成物中，使含有具有特定結構，LogS值為-6.00以下之含氮芳香族雜環化合物的含氮芳香族雜環化合物(C)。
简体摘要：本发明系提供容易形成剖面形状为矩形之阻剂图型的化学增幅型正型感光性树脂组成物，具备由该化学增幅型正型感光性树脂组成物所成之感光性树脂层的感光性干膜，该感光性干膜之制造方法，使用前述化学增幅型正型感光性树脂组成物之图型化之阻剂膜之制造方法，使用前述化学增幅型正型感光性树脂组成物之附铸模之基板之制造方法，使用该附铸模之基板之镀敷造形物之制造方法，及新颖之含氮芳香族杂环化合物。在包含借由活性光线或辐射线之照射产生酸的酸产生剂(A)及借由酸之作用增加对碱之溶解性的树脂(B)的化学增幅型正型感光性树脂组成物中，使含有具有特定结构，LogS值为-6.00以下之含氮芳香族杂环化合物的含氮芳香族杂环化合物(C)。

8. 发明专利

TW201812456A 化學增幅型正型感光性樹脂組成物审中-公开
简体标题：化学增幅型正型感光性树脂组成物
公开(公告)号：TW201812456A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106114830
申请日：2017-05-04
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：海老澤和明 , EBISAWA, KAZUAKI , 山本悠太 , YAMAMOTO, YUTA
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/16 , G03F7/32
CPC分类号： G03F7/0392 , C23C18/1605 , C23C18/1633 , C25D5/022 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/2004 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
摘要：本發明之課題在於提供化學增幅型正型感光性樹脂組成物、使用該感光性樹脂組成物之附模板的基板之製造方法、與使用該附模板的基板之鍍敷造形物之製造方法，當使用該化學增幅型正型感光性樹脂組成物，在具有金屬表面的基板之金屬表面上形成作為鍍敷造形物之模板的阻劑圖型時，可抑制在非阻劑部中底部(支持體表面側)的寬度較頂部(阻劑層的表面側)的寬度更窄之「腳化(footing)」的發生、金屬基板表面的變質、與顯像殘渣的發生。本發明之解決手段為在包含(A)藉由活性光線或放射線之照射而產生酸的酸產生劑與(B)藉由酸之作用而增大在鹼中之溶解性的樹脂之化學增幅型正型感光性樹脂組成物中，含有特定構造的巰基化合物。
简体摘要：本发明之课题在于提供化学增幅型正型感光性树脂组成物、使用该感光性树脂组成物之附模板的基板之制造方法、与使用该附模板的基板之镀敷造形物之制造方法，当使用该化学增幅型正型感光性树脂组成物，在具有金属表面的基板之金属表面上形成作为镀敷造形物之模板的阻剂图型时，可抑制在非阻剂部中底部(支持体表面侧)的宽度较顶部(阻剂层的表面侧)的宽度更窄之“脚化(footing)”的发生、金属基板表面的变质、与显像残渣的发生。本发明之解决手段为在包含(A)借由活性光线或放射线之照射而产生酸的酸产生剂与(B)借由酸之作用而增大在碱中之溶解性的树脂之化学增幅型正型感光性树脂组成物中，含有特定构造的巯基化合物。

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