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1. 发明专利

TWI386760B 厚膜用化學增幅型正型光阻組成物、厚膜用化學增幅型乾膜及厚膜光阻圖案之製造方法有权
简体标题：厚膜用化学增幅型正型光阻组成物、厚膜用化学增幅型干膜及厚膜光阻图案之制造方法
公开(公告)号：TWI386760B
公开(公告)日：2013-02-21
申请号：TW096145038
申请日：2007-11-27
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：鷲尾泰史 , WASHIO, YASUSHI , 大掛光明 , OHGAKE, MITSUAKI , 鵜野和英 , UNO, KAZUHIDE , 三隅浩一 , MISUMI, KOICHI , 先崎尊博 , SENZAKI, TAKAHIRO , 齋藤宏二 , SAITO, KOJI
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/11 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , H01L21/0271

2. 发明专利

TW201602721A 化學增幅型正型感光性樹脂組成物审中-公开
简体标题：化学增幅型正型感光性树脂组成物
公开(公告)号：TW201602721A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW104107409
申请日：2015-03-09
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：片山翔太 , KATAYAMA, SHOTA , 鷲尾泰史 , WASHIO, YASUSHI , 清水貴弘 , SHIMIZU, TAKAHIRO
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/32 , H01L21/027 , H01L21/60 , H01L23/48
CPC分类号： G03F7/30 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/09 , G03F7/20 , G03F7/322 , G03F7/40
摘要：本發明提供一種當使用化學增幅型正型感光性樹脂組成物，在具有金屬表面之基板的金屬表面上形成作為鍍敷成形體之模板的光阻圖案時，可抑制底部(支持體表面側)的寬度較頂部(光阻層之表面側)的寬度為小之鑽蝕(footing)的化學增幅型正型感光性樹脂組成物；使用該感光性樹脂組成物的附有模板之基板的製造方法；及使用該附有模板之基板的鍍敷成形體的製造方法。使包含：(A)藉由光化射線或放射線的照射而產生酸的酸產生劑、及(B)藉由酸之作用而增大對鹼的溶解性的樹脂的化學增幅型正型感光性樹脂組成物含有特定結構的硫醇化合物。
简体摘要：本发明提供一种当使用化学增幅型正型感光性树脂组成物，在具有金属表面之基板的金属表面上形成作为镀敷成形体之模板的光阻图案时，可抑制底部(支持体表面侧)的宽度较顶部(光阻层之表面侧)的宽度为小之钻蚀(footing)的化学增幅型正型感光性树脂组成物；使用该感光性树脂组成物的附有模板之基板的制造方法；及使用该附有模板之基板的镀敷成形体的制造方法。使包含：(A)借由光化射线或放射线的照射而产生酸的酸产生剂、及(B)借由酸之作用而增大对碱的溶解性的树脂的化学增幅型正型感光性树脂组成物含有特定结构的硫醇化合物。

3. 发明专利

TWI540393B 厚膜光阻圖型之製造方法有权
简体标题：厚膜光阻图型之制造方法
公开(公告)号：TWI540393B
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW101143458
申请日：2012-11-21
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：鷲尾泰史 , WASHIO, YASUSHI , 安藤友之 , ANDO, TOMOYUKI , 志村英一 , SHIMURA, EIICHI , 舘俊聡 , TACHI, TOSHIAKI
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/20 , G03F7/0045 , G03F7/0048

4. 发明专利

TWI526784B 厚膜用化學增幅型正型光阻組成物及厚膜光阻圖型的製造方法有权
简体标题：厚膜用化学增幅型正型光阻组成物及厚膜光阻图型的制造方法
公开(公告)号：TWI526784B
公开(公告)日：2016-03-21
申请号：TW100143945
申请日：2011-11-30
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：清水貴弘 , SHIMIZU, TAKAHIRO , 鷲尾泰史 , WASHIO, YASUSHI , 安藤友之 , ANDO, TOMOYUKI , 越山淳 , KOSHIYAMA, JUN
IPC分类号： G03F7/039 , C07C381/12 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397

5. 发明专利

TWI458773B 樹脂組成物及其塗布方法有权
简体标题：树脂组成物及其涂布方法
公开(公告)号：TWI458773B
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW098115587
申请日：2009-05-11
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：鷲尾泰史 , WASHIO, YASUSHI , 先崎尊博 , SENZAKI, TAKAHIRO , 鵜野和英 , UNO, KAZUHIDE
IPC分类号： C08L101/12 , G03F7/004 , B05D1/40 , B05D7/24
CPC分类号： B05D1/32 , B05D7/00 , B05D7/24 , G03F7/0048 , H01J9/227 , H01J9/233

6. 发明专利

TWI624730B 正型光阻組成物、光阻層合體、光阻圖型之製造方法、及連接用端子之製造方法有权
简体标题：正型光阻组成物、光阻层合体、光阻图型之制造方法、及连接用端子之制造方法
公开(公告)号：TWI624730B
公开(公告)日：2018-05-21
申请号：TW102105833
申请日：2013-02-20
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：清水貴弘 , SHIMIZU, TAKAHIRO , 鷲尾泰史 , WASHIO, YASUSHI , 黑岩靖司 , KUROIWA, YASUSHI , 森貴敬 , MORI, TAKAYOSHI , 內海義之 , UTSUMI, YOSHIYUKI
IPC分类号： G03F7/039 , H01L21/027

7. 发明专利

TW201403237A 正型光阻組成物、光阻層合體、光阻圖型之製造方法、及連接用端子之製造方法审中-公开
简体标题：正型光阻组成物、光阻层合体、光阻图型之制造方法、及连接用端子之制造方法
公开(公告)号：TW201403237A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102105833
申请日：2013-02-20
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：清水貴弘 , SHIMIZU, TAKAHIRO , 鷲尾泰史 , WASHIO, YASUSHI , 黑岩靖司 , KUROIWA, YASUSHI , 森貴敬 , MORI, TAKAYOSHI , 內海義之 , UTSUMI, YOSHIYUKI
IPC分类号： G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0042 , G03F7/0045 , G03F7/20
摘要：本發明之課題為提供一種使用正型光阻組成物，於形成凸塊或金屬柱等連接用端子形成用之光阻圖型時，可形成具備底部(支持體表面側)寬大於頂部(光阻層之表面側)寬之非抗蝕部之光阻圖型的正型光阻組成物，使用如此組成物之光阻層合體、光阻圖型之製造方法及連接用端子之製造方法。用以解決此課題的手段為於含有藉由光化射線或放射線之照射而產生酸之酸產生劑(A)、藉由酸之作用而增大對鹼之溶解的樹脂(B)及有機溶劑(S)之正型光阻組成物，加入鹼金屬鹽(C)。
简体摘要：本发明之课题为提供一种使用正型光阻组成物，于形成凸块或金属柱等连接用端子形成用之光阻图型时，可形成具备底部(支持体表面侧)宽大于顶部(光阻层之表面侧)宽之非抗蚀部之光阻图型的正型光阻组成物，使用如此组成物之光阻层合体、光阻图型之制造方法及连接用端子之制造方法。用以解决此课题的手段为于含有借由光化射线或放射线之照射而产生酸之酸产生剂(A)、借由酸之作用而增大对碱之溶解的树脂(B)及有机溶剂(S)之正型光阻组成物，加入碱金属盐(C)。

8. 发明专利

TWI667533B 化學增幅型正型感光性樹脂組成物、附有模板之基板的製造方法及鍍敷成形體的製造方法有权
简体标题：化学增幅型正型感光性树脂组成物、附有模板之基板的制造方法及镀敷成形体的制造方法
公开(公告)号：TWI667533B
公开(公告)日：2019-08-01
申请号：TW104107409
申请日：2015-03-09
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：片山翔太 , KATAYAMA, SHOTA , 鷲尾泰史 , WASHIO, YASUSHI , 清水貴弘 , SHIMIZU, TAKAHIRO
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/32 , H01L21/027 , H01L21/60 , H01L23/48

9. 发明专利

TW201329638A 厚膜光阻圖型之製造方法审中-公开
简体标题：厚膜光阻图型之制造方法
公开(公告)号：TW201329638A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101143458
申请日：2012-11-21
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：鷲尾泰史 , WASHIO, YASUSHI , 安藤友之 , ANDO, TOMOYUKI , 志村英一 , SHIMURA, EIICHI , 舘俊聡 , TACHI, TOSHIAKI
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/20 , G03F7/0045 , G03F7/0048
摘要：本發明提供一種抑制起泡之厚膜光阻圖型之製造方法。該製造方法包含於支撐體上層合由厚膜用化學增幅型正型光阻組成物所成之厚膜光阻層之層合步驟，與對前述厚膜光阻層照射活性光線或輻射線之曝光步驟，與使曝光後之前述厚膜光阻層顯像獲得厚膜光阻圖型之顯像步驟，前述厚膜用化學增幅型正型光阻組成物含有藉活性光線或輻射線之照射而產生酸之酸產生劑(A)，與藉酸之作用增加對鹼之溶解性之樹脂(B)，及有機溶劑(S)，前述有機溶劑(S)含有佔全部有機溶劑中40質量%以上之在大氣壓下之沸點為150℃以上、且對矽基板之接觸角為18度以下之有機溶劑。
简体摘要：本发明提供一种抑制起泡之厚膜光阻图型之制造方法。该制造方法包含于支撑体上层合由厚膜用化学增幅型正型光阻组成物所成之厚膜光阻层之层合步骤，与对前述厚膜光阻层照射活性光线或辐射线之曝光步骤，与使曝光后之前述厚膜光阻层显像获得厚膜光阻图型之显像步骤，前述厚膜用化学增幅型正型光阻组成物含有藉活性光线或辐射线之照射而产生酸之酸产生剂(A)，与藉酸之作用增加对碱之溶解性之树脂(B)，及有机溶剂(S)，前述有机溶剂(S)含有占全部有机溶剂中40质量%以上之在大气压下之沸点为150℃以上、且对硅基板之接触角为18度以下之有机溶剂。

10. 发明专利

TW201235785A 厚膜用化學增幅型正型光阻組成物及厚膜光阻圖型的製造方法审中-公开
简体标题：厚膜用化学增幅型正型光阻组成物及厚膜光阻图型的制造方法
公开(公告)号：TW201235785A
公开(公告)日：2012-09-01
申请号：TW100143945
申请日：2011-11-30
申请人：東京應化工業股份有限公司
发明人：清水貴弘 , 鷲尾泰史 , 安藤友之 , 越山淳
IPC分类号： G03F , C07C , H01L
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
摘要：本發明係提供一種可形成解像性、尺寸控制性高，且矩形性良好之厚膜光阻圖型之厚膜用化學增幅型正型光阻組成物、及使用如此組成物的厚膜光阻圖型之製造方法。本發明的光阻組成物含有包含一般式(a1)所示陽離子部與一般式(a2)所示陰離子部之酸產生劑(A)、與藉由酸作用對鹼之溶解性增大的樹脂(B)。但，R 1a ~R 3a 表示烷氧基、烷基羰基、烷基羰氧基、烷氧基羰基等。R 4a ~R 7a 表示氟原子或苯基，該苯基的氫原子之一部份或全部可由選自氟原子及三氟甲基所成群的至少1種所取代。
简体摘要：本发明系提供一种可形成解像性、尺寸控制性高，且矩形性良好之厚膜光阻图型之厚膜用化学增幅型正型光阻组成物、及使用如此组成物的厚膜光阻图型之制造方法。本发明的光阻组成物含有包含一般式(a1)所示阳离子部与一般式(a2)所示阴离子部之酸产生剂(A)、与借由酸作用对碱之溶解性增大的树脂(B)。但，R 1a ~R 3a 表示烷氧基、烷基羰基、烷基羰氧基、烷氧基羰基等。R 4a ~R 7a 表示氟原子或苯基，该苯基的氢原子之一部份或全部可由选自氟原子及三氟甲基所成群的至少1种所取代。

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