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1. 发明专利

TW201428691A 基板之基準影像製作方法、基板之缺陷檢查方法、基板之基準影像製作裝置、基板之缺陷檢查單元、程式及電腦記錄媒體审中-公开
简体标题：基板之基准影像制作方法、基板之缺陷检查方法、基板之基准影像制作设备、基板之缺陷检查单元、进程及电脑记录媒体
公开(公告)号：TW201428691A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：TW102144221
申请日：2013-12-03
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：葉瀨川泉 , HASEGAWA, IZUMI , 富田浩 , TOMITA, HIROSHI , 岩永修兒 , IWANAGA, SHUJI , 西山直 , NISHIYAMA, TADASHI
IPC分类号： G06T7/00
CPC分类号： G03F7/7065 , G03F7/702 , G03F7/705
摘要：本發明之目的在於製作適當的基板基準影像，以正確地進行基板的缺陷檢查。為了達成上述目的，本發明提供一種晶圓影像製作方法，其拍攝晶圓，根據所拍攝的複數張基板影像，製作出作為缺陷檢查基準的晶圓影像，其特徵為包含：分量分解步驟，其將所拍攝之基板影像內的畫素值的平面分布Z，針對每張基板影像用任尼克多項式分別分解為複數個畫素值分布分量；任尼克係數算出步驟，其分別算出利用任尼克多項式所分解的該各畫素值分布分量的任尼克係數；任尼克係數抽出步驟，其從該算出的各任尼克係數，針對具有相同次數的各個任尼克係數，將(1)中央值以及(2)從該中央值偏離既定數值以上的數值分別抽出；影像特定步驟，其特定出具有該抽出之數值的各基板影像；以及影像製作步驟，其將該特定出的各基板影像合成，藉此製作出作為缺陷檢查基準的晶圓影像。
简体摘要：本发明之目的在于制作适当的基板基准影像，以正确地进行基板的缺陷检查。为了达成上述目的，本发明提供一种晶圆影像制作方法，其拍摄晶圆，根据所拍摄的复数张基板影像，制作出作为缺陷检查基准的晶圆影像，其特征为包含：分量分解步骤，其将所拍摄之基板影像内的像素值的平面分布Z，针对每张基板影像用任尼克多项式分别分解为复数个像素值分布分量；任尼克系数算出步骤，其分别算出利用任尼克多项式所分解的该各像素值分布分量的任尼克系数；任尼克系数抽出步骤，其从该算出的各任尼克系数，针对具有相同次数的各个任尼克系数，将(1)中央值以及(2)从该中央值偏离既定数值以上的数值分别抽出；影像特定步骤，其特定出具有该抽出之数值的各基板影像；以及影像制作步骤，其将该特定出的各基板影像合成，借此制作出作为缺陷检查基准的晶圆影像。

2. 发明专利

TW201351304A 半導體製造裝置之程序監視裝置以及半導體製造裝置之程序監視方法以及半導體製造裝置审中-公开
简体标题：半导体制造设备之进程监视设备以及半导体制造设备之进程监视方法以及半导体制造设备
公开(公告)号：TW201351304A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW102107757
申请日：2013-03-06
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：梅原康敏 , UMEHARA, YASUTOSHI , 岡田基 , OKADA, MOTOI , 岩永修兒 , IWANAGA, SHUJI
IPC分类号： G06K9/62 , H01L21/66
CPC分类号： G06T7/001 , G06T2207/10016 , G06T2207/30148
摘要：本發明之課題在於提供一種半導體製造裝置之程序監視裝置以及半導體製造裝置之程序監視方法以及半導體製造裝置，相較於以往能輕易且確實地監視半導體製造裝置之程序。一種半導體製造裝置之監視裝置，係對處理被處理基板之半導體製造裝置之程序狀態進行監視，具備有：記憶機構，係記憶用以顯示正常之該處理狀態的正常時動畫資料；攝像機構，係對於監視對象之該處理狀態進行攝像來取得動畫資料；異常度算出機構，係針對該攝像機構所取得之動畫資料以及該正常時動畫資料之各訊框來擷取特徵量，基於所擷取之特徵量來算出異常度；以及顯示機構，係將該異常度算出機構所算出之異常度和該動畫資料之訊框位置產生關聯而進行顯示。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种半导体制造设备之进程监视设备以及半导体制造设备之进程监视方法以及半导体制造设备，相较于以往能轻易且确实地监视半导体制造设备之进程。一种半导体制造设备之监视设备，系对处理被处理基板之半导体制造设备之进程状态进行监视，具备有：记忆机构，系记忆用以显示正常之该处理状态的正常时动画数据；摄像机构，系对于监视对象之该处理状态进行摄像来取得动画数据；异常度算出机构，系针对该摄像机构所取得之动画数据以及该正常时动画数据之各讯框来截取特征量，基于所截取之特征量来算出异常度；以及显示机构，系将该异常度算出机构所算出之异常度和该动画数据之讯框位置产生关联而进行显示。

3. 发明专利

TWI626424B 膜厚測定裝置、膜厚測定方法及非暫時性電腦記錄媒體有权
简体标题：膜厚测定设备、膜厚测定方法及非暂时性电脑记录媒体
公开(公告)号：TWI626424B
公开(公告)日：2018-06-11
申请号：TW104114091
申请日：2015-05-04
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：岩永修兒 , IWANAGA, SHUJI , 西山直 , NISHIYAMA, TADASHI , 加藤寬三 , KATOU, KANZOU
IPC分类号： G01B11/06 , G06T7/00

4. 发明专利

TW201432252A 基板之缺陷檢查方法、基板之缺陷檢查裝置、程式及電腦記憶媒體审中-公开
简体标题：基板之缺陷检查方法、基板之缺陷检查设备、进程及电脑记忆媒体
公开(公告)号：TW201432252A
公开(公告)日：2014-08-16
申请号：TW102145180
申请日：2013-12-09
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：岩永修兒 , IWANAGA, SHUJI , 西山直 , NISHIYAMA, TADASHI
IPC分类号： G01N21/956
CPC分类号： G01N21/956 , H01L22/12
摘要：本發明之目的在於以低成本且高處理量正確地進行晶圓的缺陷檢查。為了達成上述目的，本發明提供一種晶圓的缺陷檢查方法，包含以下步驟：拍攝作為檢查對象的晶圓W，根據所拍攝之晶圓W的影像，算出基板影像的畫素值超過既定閾值的缺陷區域E的影像特徵量。根據該算出之影像特徵量以及預先求出的缺陷尺寸與影像特徵量的相關資料，確定出缺陷區域E中的缺陷的高度方向的大小。
简体摘要：本发明之目的在于以低成本且高处理量正确地进行晶圆的缺陷检查。为了达成上述目的，本发明提供一种晶圆的缺陷检查方法，包含以下步骤：拍摄作为检查对象的晶圆W，根据所拍摄之晶圆W的影像，算出基板影像的像素值超过既定阈值的缺陷区域E的影像特征量。根据该算出之影像特征量以及预先求出的缺陷尺寸与影像特征量的相关数据，确定出缺陷区域E中的缺陷的高度方向的大小。

5. 发明专利

TW201324659A 基板處理裝置、基板處理方法、及記憶有基板處理程式之電腦可讀取記憶媒體审中-公开
简体标题：基板处理设备、基板处理方法、及记忆有基板处理进程之电脑可读取记忆媒体
公开(公告)号：TW201324659A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW101137797
申请日：2012-10-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：松本宗兵 , MATSUMOTO, SHUHEI , 岩永修兒 , IWANAGA, SHUJI , 富田浩 , TOMITA, HIROSHI , 中溝賢治 , NAKAMIZO, KENJI , 守田聰 , MORITA, SATOSHI
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67023 , G05D3/00 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/67259
摘要：本發明提供一種基板處理裝置，其可在不受基板的材質與表面的狀態等因素影響的情況下，正確的判斷基板的保持狀態是否良好。本發明包含：基板保持機構(22)，其保持基板(2)；拍攝機構(25)，其在該基板保持機構(22)正常的保持該基板(2)時，拍攝該基板(2)的邊緣部存在的區域；以及控制機構(26)，其根據以該拍攝機構(25)所拍攝的影像，判斷由該基板保持機構(22)所保持的該基板(2)的保持狀態。
简体摘要：本发明提供一种基板处理设备，其可在不受基板的材质与表面的状态等因素影响的情况下，正确的判断基板的保持状态是否良好。本发明包含：基板保持机构(22)，其保持基板(2)；拍摄机构(25)，其在该基板保持机构(22)正常的保持该基板(2)时，拍摄该基板(2)的边缘部存在的区域；以及控制机构(26)，其根据以该拍摄机构(25)所拍摄的影像，判断由该基板保持机构(22)所保持的该基板(2)的保持状态。

6. 发明专利

TWI579556B 基板之缺陷結構分析裝置、基板處理系統、基板之缺陷結構分析方法、程式及電腦記錄媒體有权
简体标题：基板之缺陷结构分析设备、基板处理系统、基板之缺陷结构分析方法、进程及电脑记录媒体
公开(公告)号：TWI579556B
公开(公告)日：2017-04-21
申请号：TW103138095
申请日：2014-11-03
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：岩永修兒 , IWANAGA, SHUJI , 西山直 , NISHIYAMA, TADASHI , 富田浩 , TOMITA, HIROSHI , 葉瀨川泉 , HASEGAWA, IZUMI
IPC分类号： G01N21/956 , H01L21/66
CPC分类号： G06T7/0004 , G06T2207/30148

7. 发明专利

TWI534720B 半導體製造裝置之程序監視裝置以及半導體製造裝置之程序監視方法以及半導體製造裝置有权
简体标题：半导体制造设备之进程监视设备以及半导体制造设备之进程监视方法以及半导体制造设备
公开(公告)号：TWI534720B
公开(公告)日：2016-05-21
申请号：TW102107757
申请日：2013-03-06
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：梅原康敏 , UMEHARA, YASUTOSHI , 岡田基 , OKADA, MOTOI , 岩永修兒 , IWANAGA, SHUJI
IPC分类号： G06K9/62 , H01L21/66
CPC分类号： G06T7/001 , G06T2207/10016 , G06T2207/30148

8. 发明专利

TWI529837B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI529837B
公开(公告)日：2016-04-11
申请号：TW101137797
申请日：2012-10-12
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：松本宗兵 , MATSUMOTO, SHUHEI , 岩永修兒 , IWANAGA, SHUJI , 富田浩 , TOMITA, HIROSHI , 中溝賢治 , NAKAMIZO, KENJI , 守田聰 , MORITA, SATOSHI
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67023 , G05D3/00 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/67259

9. 发明专利

TWI420095B 基板檢查方法，基板檢查裝置及記憶媒體有权
简体标题：基板检查方法，基板检查设备及记忆媒体
公开(公告)号：TWI420095B
公开(公告)日：2013-12-21
申请号：TW098140990
申请日：2009-12-01
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：岩永修兒 , IWANAGA, SHUJI , 久野和哉 , HISANO, KAZUYA
IPC分类号： G01N21/88 , H01L21/66 , G06K9/62
CPC分类号： G06T7/001 , G06T7/33 , G06T2207/30121 , G06T2207/30148

10. 发明专利

TWI545524B 基板之基準影像製作方法、基板之缺陷檢查方法、基板之基準影像製作裝置、基板之缺陷檢查單元、程式及電腦記錄媒體有权
简体标题：基板之基准影像制作方法、基板之缺陷检查方法、基板之基准影像制作设备、基板之缺陷检查单元、进程及电脑记录媒体
公开(公告)号：TWI545524B
公开(公告)日：2016-08-11
申请号：TW102144221
申请日：2013-12-03
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：葉瀨川泉 , HASEGAWA, IZUMI , 富田浩 , TOMITA, HIROSHI , 岩永修兒 , IWANAGA, SHUJI , 西山直 , NISHIYAMA, TADASHI
IPC分类号： G06T7/00
CPC分类号： G03F7/7065 , G03F7/702 , G03F7/705

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