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1. 发明专利

TW201312100A 基板檢查裝置、基板檢查方法及記憶媒體审中-公开
简体标题：基板检查设备、基板检查方法及记忆媒体
公开(公告)号：TW201312100A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101119000
申请日：2012-05-28
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：久野和哉 , HISANO, KAZUYA , 富田浩 , TOMITA, HIROSHI , 古閑法久 , KOGA, NORIHISA , 西山直 , NISHIYAMA, TADASHI , 早川誠 , HAYAKAWA, MAKOTO
IPC分类号： G01N21/956
CPC分类号： G01N21/956 , G01N21/8806 , G01N21/93 , G01N21/9501 , G01N2021/9513 , G06T7/0004
摘要：本發明的課題是在於提供一種不用檢查用基板，可防止照明部的照度降低所造成檢查的狀況不佳發生之技術。其解決手段係以能夠具備下列各部或構件的方式來構成基板檢查裝置，模式選擇部，其係用以在檢查模式與維護模式之間選擇模式，該檢查模式係以被載置於設在框體內的載置台的基板作為被照體來攝像而進行檢查，該維護模式係用以確認照明部的照度；導光構件，其係設於上述框體內，將上述照明部的光引導至攝像元件；判定部，其係於維護模式實行時判定經由上述導光構件而藉由攝像元件所取得的照明部的光的亮度是否為預先被設定的容許範圍內；及告知部，其係於藉由上述判定部來判定上述亮度為脫離上述容許範圍時，告知須要更換照明部。
简体摘要：本发明的课题是在于提供一种不用检查用基板，可防止照明部的照度降低所造成检查的状况不佳发生之技术。其解决手段系以能够具备下列各部或构件的方式来构成基板检查设备，模式选择部，其系用以在检查模式与维护模式之间选择模式，该检查模式系以被载置于设在框体内的载置台的基板作为被照体来摄像而进行检查，该维护模式系用以确认照明部的照度；导光构件，其系设于上述框体内，将上述照明部的光引导至摄像组件；判定部，其系于维护模式实行时判定经由上述导光构件而借由摄像组件所取得的照明部的光的亮度是否为预先被设置的容许范围内；及告知部，其系于借由上述判定部来判定上述亮度为脱离上述容许范围时，告知须要更换照明部。

2. 发明专利

TWI477764B 影像製作方法、基板檢查方法、記錄有用以執行該影像製作方法及該基板檢查方法之程式的記錄媒體與基板檢查裝置有权
简体标题：影像制作方法、基板检查方法、记录有用以运行该影像制作方法及该基板检查方法之进程的记录媒体与基板检查设备
公开(公告)号：TWI477764B
公开(公告)日：2015-03-21
申请号：TW100146041
申请日：2011-12-13
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：富田浩 , TOMITA, HIROSHI , 久野和哉 , HISANO, KAZUYA , 西山直 , NISHIYAMA, TADASHI
IPC分类号： G01N21/88 , G01N21/956
CPC分类号： G06T7/0008 , G06K9/4609 , G06T2207/30141

3. 发明专利

TWI420095B 基板檢查方法，基板檢查裝置及記憶媒體有权
简体标题：基板检查方法，基板检查设备及记忆媒体
公开(公告)号：TWI420095B
公开(公告)日：2013-12-21
申请号：TW098140990
申请日：2009-12-01
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：岩永修兒 , IWANAGA, SHUJI , 久野和哉 , HISANO, KAZUYA
IPC分类号： G01N21/88 , H01L21/66 , G06K9/62
CPC分类号： G06T7/001 , G06T7/33 , G06T2207/30121 , G06T2207/30148

4. 发明专利

TW202027186A 基板檢查方法、基板檢查裝置及記錄媒體审中-公开
简体标题：基板检查方法、基板检查设备及记录媒体
公开(公告)号：TW202027186A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108132945
申请日：2019-09-12
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：久野和哉 , HISANO, KAZUYA , 清冨晶子 , KIYOTOMI, AKIKO , 野田康朗 , NODA, YASUAKI , 濱本啓佑 , HAMAMOTO, KEISUKE , 西山 , NISHIYAMA, TADASHI
IPC分类号： H01L21/66 , G01N21/95 , G06T7/00 , G06F17/10
摘要： [課題]提供一種可精度良好地測定晶圓之翹曲的技術。 [解決手段]基板檢查方法，係包含有：第1工程，使保持翹曲量為已知之基準基板的保持台旋轉，藉由攝影機拍攝基準基板的端面；第2工程，將第1工程中所獲得的拍攝圖像進行圖像處理，並遍及基準基板之周緣全周，取得基準基板之端面的形狀資料；第3工程，使保持被處理基板的保持台旋轉，藉由攝影機拍攝被處理基板的端面；第4工程，將第3工程中所獲得的拍攝圖像進行圖像處理，並遍及被處理基板之周緣全周，取得被處理基板之端面的形狀資料；及第5工程，於第1工程中之保持台的旋轉位置與第3工程中之保持台的旋轉位置一致之條件下，求出第2工程中所取得之形狀資料與第4工程中所取得之形狀資料的差分，藉此，算出被處理基板的翹曲量。
简体摘要： [课题]提供一种可精度良好地测定晶圆之翘曲的技术。 [解决手段]基板检查方法，系包含有：第1工程，使保持翘曲量为已知之基准基板的保持台旋转，借由摄影机拍摄基准基板的端面；第2工程，将第1工程中所获得的拍摄图像进行图像处理，并遍及基准基板之周缘全周，取得基准基板之端面的形状数据；第3工程，使保持被处理基板的保持台旋转，借由摄影机拍摄被处理基板的端面；第4工程，将第3工程中所获得的拍摄图像进行图像处理，并遍及被处理基板之周缘全周，取得被处理基板之端面的形状数据；及第5工程，于第1工程中之保持台的旋转位置与第3工程中之保持台的旋转位置一致之条件下，求出第2工程中所取得之形状数据与第4工程中所取得之形状数据的差分，借此，算出被处理基板的翘曲量。

5. 发明专利

TW201434542A 基板周緣部之塗布膜除去方法、基板處理裝置及記憶媒體审中-公开
简体标题：基板周缘部之涂布膜除去方法、基板处理设备及记忆媒体
公开(公告)号：TW201434542A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW102139307
申请日：2013-10-30
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：富田浩 , TOMITA, HIROSHI , 久野和哉 , HISANO, KAZUYA
IPC分类号： B05C11/10 , B05D3/00
CPC分类号： H01L21/02087 , H01L21/6708 , H01L21/6715 , H01L21/681
摘要：本發明之課題在於提供把圓形的基板表面的周緣部之塗布膜的不要部分環狀地除去時，可以容易地進行供進行前述除去之用的裝置的調整之技術。解決手段係以包含：藉由搬送體把圓形的基板的背面側遞送至保持部保持，使該基板繞其正交軸旋轉，同時對基板的表面的塗布膜的周緣部由溶劑噴嘴供給溶劑，以預先設定的寬幅尺寸環狀地除去塗布膜的塗布膜除去步驟，接著，搬送該基板至攝影前述基板的表面全體檢查前述塗布膜的狀態之用的檢查模組的步驟，其後，根據藉由前述檢查模組取得的影像資料檢測出塗布膜的除去區域的步驟，以及根據此檢測結果，補正藉著前述搬送體對前述保持部的後續的基板遞送位置的步驟的方式進行處理。
简体摘要：本发明之课题在于提供把圆形的基板表面的周缘部之涂布膜的不要部分环状地除去时，可以容易地进行供进行前述除去之用的设备的调整之技术。解决手段系以包含：借由搬送体把圆形的基板的背面侧递送至保持部保持，使该基板绕其正交轴旋转，同时对基板的表面的涂布膜的周缘部由溶剂喷嘴供给溶剂，以预先设置的宽幅尺寸环状地除去涂布膜的涂布膜除去步骤，接着，搬送该基板至摄影前述基板的表面全体检查前述涂布膜的状态之用的检查模块的步骤，其后，根据借由前述检查模块取得的影像数据检测出涂布膜的除去区域的步骤，以及根据此检测结果，补正借着前述搬送体对前述保持部的后续的基板递送位置的步骤的方式进行处理。

6. 发明专利

TWI558469B 基板周緣部之塗布膜除去方法、基板處理裝置及記憶媒體有权
简体标题：基板周缘部之涂布膜除去方法、基板处理设备及记忆媒体
公开(公告)号：TWI558469B
公开(公告)日：2016-11-21
申请号：TW102139307
申请日：2013-10-30
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：富田浩 , TOMITA, HIROSHI , 久野和哉 , HISANO, KAZUYA
IPC分类号： B05C11/10 , B05D3/00
CPC分类号： H01L21/02087 , H01L21/6708 , H01L21/6715 , H01L21/681

7. 发明专利

TWI507679B 基板檢查裝置、基板檢查方法及記憶媒體有权
简体标题：基板检查设备、基板检查方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI507679B
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：TW101119000
申请日：2012-05-28
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：久野和哉 , HISANO, KAZUYA , 富田浩 , TOMITA, HIROSHI , 古閑法久 , KOGA, NORIHISA , 西山直 , NISHIYAMA, TADASHI , 早川誠 , HAYAKAWA, MAKOTO
IPC分类号： G01N21/956
CPC分类号： G01N21/956 , G01N21/8806 , G01N21/93 , G01N21/9501 , G01N2021/9513 , G06T7/0004

8. 发明专利

TW201109645A 基板檢查方法，基板檢查裝置及記憶媒體审中-公开
简体标题：基板检查方法，基板检查设备及记忆媒体
公开(公告)号：TW201109645A
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：TW098140990
申请日：2009-12-01
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：岩永修兒 , 久野和哉
IPC分类号： G01N , H01L , G06K
CPC分类号： G06T7/001 , G06T7/33 , G06T2207/30121 , G06T2207/30148
摘要：本發明是在於提供一種可高精度進行基板的檢查之基板檢查方法。藉由攝影機來攝取包含3次元的世界座標系的座標為已知的基準點之樣板,取得依據攝像元件的像素群來特定之畫像座標系上的前述基準點的座標。而且,將該基準點的座標變換成被設定於攝影機的攝影機座標系的座標,藉由運算來求取世界座標系與攝影機座標系的變換參數。然後,利用該變換參數來將攝取被檢查基板而取得的像素座標系上的畫像資料變換成世界座標系上的畫像資料,進行檢查。此世界座標系的被檢查基板的畫像,因為攝像手段的位置及姿勢所造成的變形會被抑制,所以可提高被檢查基板的檢查精度。
简体摘要：本发明是在于提供一种可高精度进行基板的检查之基板检查方法。借由摄影机来摄取包含3次元的世界座标系的座标为已知的基准点之样板,取得依据摄像组件的像素群来特定之画像座标系上的前述基准点的座标。而且,将该基准点的座标变换成被设置于摄影机的摄影机座标系的座标,借由运算来求取世界座标系与摄影机座标系的变换参数。然后,利用该变换参数来将摄取被检查基板而取得的像素座标系上的画像数据变换成世界座标系上的画像数据,进行检查。此世界座标系的被检查基板的画像,因为摄像手段的位置及姿势所造成的变形会被抑制,所以可提高被检查基板的检查精度。

9. 发明专利

TW201245696A 影像製作方法、基板檢查方法、記錄有用以執行該影像製作方法及該基板檢查方法之程式的記錄媒體與基板檢查裝置 IMAGE CREATION METHOD, SUBSTRATE INSPECTION METHOD, STORAGE MEDIUM STORING PROGRAM FOR EXECUTING IMAGE CREATION METHOD OR SUBSTRATE INSPECTION METHOD, AND SUBSTRATE INSPECTION DEVICE 审中-公开
简体标题：影像制作方法、基板检查方法、记录有用以运行该影像制作方法及该基板检查方法之进程的记录媒体与基板检查设备 IMAGE CREATION METHOD, SUBSTRATE INSPECTION METHOD, STORAGE MEDIUM STORING PROGRAM FOR EXECUTING IMAGE CREATION METHOD OR SUBSTRATE INSPECTION METHOD, AND SUBSTRATE INSPECTION DEVICE
公开(公告)号：TW201245696A
公开(公告)日：2012-11-16
申请号：TW100146041
申请日：2011-12-13
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：富田浩 , 久野和哉 , 西山直
IPC分类号： G01N
CPC分类号： G06T7/0008 , G06K9/4609 , G06T2207/30141
摘要：本發明之目的在於提供一種基板檢查方法以及該基板檢查用的過濾影像的影像製作方法，其可減少錯誤檢出之擬似缺陷的數量，同時缺陷的檢出敏感度不會降低，進而能夠檢測出本來應被檢出的真實缺陷。為了達成上述目的，本發明提供一種影像製作方法，其為了檢查基板有無缺陷而製作出用來除去擬似缺陷的過濾影像，包含：過濾影像製作步驟S14，其將位於以登錄影像的中心位置為中心之圓的圓周上的任一畫素的畫素值置換成從位於圓周上的畫素所選出之複數畫素的畫素值之中的最大值，以製作出過濾影像。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种基板检查方法以及该基板检查用的过滤影像的影像制作方法，其可减少错误检出之拟似缺陷的数量，同时缺陷的检出敏感度不会降低，进而能够检测出本来应被检出的真实缺陷。为了达成上述目的，本发明提供一种影像制作方法，其为了检查基板有无缺陷而制作出用来除去拟似缺陷的过滤影像，包含：过滤影像制作步骤S14，其将位于以登录像像的中心位置为中心之圆的圆周上的任一像素的像素值置换成从位于圆周上的像素所选出之复数像素的像素值之中的最大值，以制作出过滤影像。

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