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1. 发明专利

TW305767B 溶劑淨化方法與裝置失效
简体标题：溶剂净化方法与设备
公开(公告)号：TW305767B
公开(公告)日：1997-05-21
申请号：TW085105563
申请日：1996-06-06
申请人：木村化工機股份有限公司 , 夏普股份有限公司
发明人：小林和樹 , 矢野謙介 , 足立教夫 , 松岡康司 , 高見龍男 , 森川裕汀
IPC分类号： B01D
CPC分类号： B01D1/10 , B01D5/006
摘要：一種溶劑淨化方法與裝置，主要係在一蒸發段內含有低沸及高沸雜質之溶劑，其高沸雜質留下成為一種桶底廢料，該溶劑蒸汽經一濕氣分離器而被引入一冷凝器，其中該冷凝器內產生的冷凝液回到該濕氣分離器中而作為濕氣補取液；該冷凝器內部一部份未冷凝者供予一精餾段行分凝作用，因而得除去低沸雜質；其餘已除去雜質的溶劑蒸汽也被冷凝並回收，以在液晶裝置或IC製造的抗蝕劑洗丞與剝落步驟中再行使用，如此被污染的溶劑不必丟棄或至遠處接受處理，因而便利使用溶劑的製程或步驟。
简体摘要：一种溶剂净化方法与设备，主要系在一蒸发段内含有低沸及高沸杂质之溶剂，其高沸杂质留下成为一种桶底废料，该溶剂蒸汽经一湿气分离器而被引入一冷凝器，其中该冷凝器内产生的冷凝液回到该湿气分离器中而作为湿气补取液；该冷凝器内部一部份未冷凝者供予一精馏段行分凝作用，因而得除去低沸杂质；其余已除去杂质的溶剂蒸汽也被冷凝并回收，以在液晶设备或IC制造的抗蚀剂洗丞与剥落步骤中再行使用，如此被污染的溶剂不必丢弃或至远处接受处理，因而便利使用溶剂的制程或步骤。

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