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1. 发明专利

TW200410045A 光罩護膜 PELLICLE 失效
简体标题：光罩护膜 PELLICLE
公开(公告)号：TW200410045A
公开(公告)日：2004-06-16
申请号：TW092121908
申请日：2003-08-08
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：松倉郁生 , 代田直子 , 對馬奈奈 , 山本清 , 柿田玲子
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F1/62 , Y10T428/161 , Y10T428/3154
摘要：一種用於以具有從100至200毫微米波長之光線的微影圖案製程之光罩護膜，其具有以下的氟基聚合物(A)所製成的光罩護膜薄膜：氟基聚合物(A)：在其主鏈中(主鏈係碳原子鏈)具有脂環系結構及滿足以下要求(1)和(2)之實質上的線型氟基聚合物：(1)在主鏈中的碳原子包含具有至少一個與其鍵結之氫原子的碳原子及不具有任何與其鍵結之氫原子的碳原子；及(2)在其高解析質磁共振光譜之測量值中，以出現在比2.8ppm更高的磁場區之信號為基準計之氫原子數係以總氫原子為基準計最多6莫耳％。
简体摘要：一种用于以具有从100至200毫微米波长之光线的微影图案制程之光罩护膜，其具有以下的氟基聚合物(A)所制成的光罩护膜薄膜：氟基聚合物(A)：在其主链中(主链系碳原子链)具有脂环系结构及满足以下要求(1)和(2)之实质上的线型氟基聚合物：(1)在主链中的碳原子包含具有至少一个与其键结之氢原子的碳原子及不具有任何与其键结之氢原子的碳原子；及(2)在其高解析质磁共振光谱之测量值中，以出现在比2.8ppm更高的磁场区之信号为基准计之氢原子数系以总氢原子为基准计最多6莫耳％。

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