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1. 发明专利

TW201902963A 相位差薄膜及製造方法审中-公开
简体标题：相位差薄膜及制造方法
公开(公告)号：TW201902963A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107117687
申请日：2018-05-24
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：淺田毅 , ASADA, TAKESHI , 摺出寺浩成 , SUDEJI, HIRONARI , 藤井健作 , FUJII, KENSAKU
IPC分类号： C08F297/02 , C08J5/18 , G02B5/30 , G02F1/1335
摘要：一種相位差薄膜及其製造方法，所述相位差薄膜係包含由具有負的固有雙折射值的樹脂C而成的配向層之相位差薄膜，前述樹脂C含有嵌段共聚物，所述嵌段共聚物包含以具有負的固有雙折射值的聚合單元A作為主成分之嵌段（A）及以聚合單元B作為主成分之嵌段（B），前述嵌段（A）的重量分率為50重量%以上且90重量%以下，所述相位差薄膜具有大於0且小於1的NZ係數。於前述配向層中，以「前述樹脂C呈相分離構造，且前述相分離構造中之相間的距離為200 nm以下」為佳。
简体摘要：一种相位差薄膜及其制造方法，所述相位差薄膜系包含由具有负的固有双折射值的树脂C而成的配向层之相位差薄膜，前述树脂C含有嵌段共聚物，所述嵌段共聚物包含以具有负的固有双折射值的聚合单元A作为主成分之嵌段（A）及以聚合单元B作为主成分之嵌段（B），前述嵌段（A）的重量分率为50重量%以上且90重量%以下，所述相位差薄膜具有大于0且小于1的NZ系数。于前述配向层中，以“前述树脂C呈相分离构造，且前述相分离构造中之相间的距离为200 nm以下”为佳。

2. 发明专利

TW201834855A 薄膜审中-公开
公开(公告)号：TW201834855A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW106144915
申请日：2017-12-20
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：周宏晃 , SHU, HIROAKI , 摺出寺浩成 , SUDEJI, HIRONARI
IPC分类号： B32B27/00 , C08F297/04 , C08L53/02 , B32B27/40 , C08L75/08 , C08K5/15 , C08K5/25 , C08K3/36 , C08K5/29 , C08K5/3445 , G02B5/30
摘要：提供一種薄膜，其具備基材薄膜與設置於前述基材薄膜上之易滑層，其中前述基材薄膜包含嵌段共聚物，前述嵌段共聚物具有以下各嵌段：具有芳香族乙烯基化合物氫化物單元之嵌段及具有二烯化合物氫化物單元之嵌段，前述具有芳香族乙烯基化合物氫化物單元之嵌段的數量與前述具有二烯化合物氫化物單元之嵌段的數量合計為每1分子的前述嵌段共聚物3個以上，前述易滑層係由包含聚胺酯、得使前述聚胺酯產生交聯之交聯劑、非揮發性鹼、微粒之組成物之硬化物而成。
简体摘要：提供一种薄膜，其具备基材薄膜与设置于前述基材薄膜上之易滑层，其中前述基材薄膜包含嵌段共聚物，前述嵌段共聚物具有以下各嵌段：具有芳香族乙烯基化合物氢化物单元之嵌段及具有二烯化合物氢化物单元之嵌段，前述具有芳香族乙烯基化合物氢化物单元之嵌段的数量与前述具有二烯化合物氢化物单元之嵌段的数量合计为每1分子的前述嵌段共聚物3个以上，前述易滑层系由包含聚胺酯、得使前述聚胺酯产生交联之交联剂、非挥发性碱、微粒之组成物之硬化物而成。

3. 发明专利

TW201531751A 多層膜、偏光板及多層膜的製造方法审中-公开
简体标题：多层膜、偏光板及多层膜的制造方法
公开(公告)号：TW201531751A
公开(公告)日：2015-08-16
申请号：TW103145411
申请日：2014-12-25
申请人：日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：摺出寺浩成 , SUDEJI, HIRONARI
IPC分类号： G02B5/30 , B32B7/02 , B32B27/32
CPC分类号： G02B5/3083 , B05D1/28 , B05D3/144 , B05D2201/02 , B05D2503/00 , B29C47/0021 , B29C47/884 , B29C55/023 , B29C55/08 , B29D11/0073 , B29K2675/00 , B29L2007/008 , B29L2009/005 , B32B27/08 , B32B27/306 , B32B27/325 , B32B2255/10 , B32B2255/26 , B32B2307/42 , B32B2307/51 , B32B2307/514 , B32B2457/202 , C08G18/44 , C09D175/06 , G02B5/3033 , G02B5/305 , G02F1/133528 , G02F1/13363 , G02F2001/133638 , G02F2202/28 , G02F2413/01 , G02F2413/05
摘要：本發明係提供一種多層膜，係具備由熱可塑性樹脂所構成之A層、及在A層的至少一表面形成之B層之多層膜；B層係使用含有以玻璃轉移溫度為-50℃~40℃的聚合物作為主成分之材料Y而構成，A層的厚度Ta、B層的厚度Tb、A層的面配向係數P、A層的損失彈性模數Ea”、B層的損失彈性模數Eb”、A層的儲存彈性模數Ea’、及B層的儲存彈性模數Eb’係滿足式(1)~(4)，(1)2.5×10-3 1.0×10-3(3)Eb”>Ea”+0.01GPa(4)Eb’
简体摘要：本发明系提供一种多层膜，系具备由热可塑性树脂所构成之A层、及在A层的至少一表面形成之B层之多层膜；B层系使用含有以玻璃转移温度为-50℃~40℃的聚合物作为主成分之材料Y而构成，A层的厚度Ta、B层的厚度Tb、A层的面配向系数P、A层的损失弹性模数Ea”、B层的损失弹性模数Eb”、A层的存储弹性模数Ea’、及B层的存储弹性模数Eb’系满足式(1)~(4)，(1)2.5×10-31.0×10-3(3)Eb”>Ea”+0.01GPa(4)Eb’

4. 发明专利

TW202026322A 熱塑性降𦯉烯系樹脂、成形體及其製造方法审中-公开
简体标题：热塑性降𦯉烯系树脂、成形体及其制造方法
公开(公告)号：TW202026322A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108134641
申请日：2019-09-25
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：摺出寺浩成 , SUDEJI, HIRONARI
IPC分类号： C08F232/08 , C08J5/18 , B29C55/02 , B29K45/00
摘要：一種熱塑性降𦯉烯系樹脂，其係包含降𦯉烯系聚合物之氫化物的熱塑性降𦯉烯系樹脂，其中前述熱塑性降𦯉烯系樹脂的玻璃轉移溫度Tg滿足下述式（1），前述氫化物的重量平均分子量Mw滿足下述式（2），分子量10000以下之前述氫化物相對於前述熱塑性降𦯉烯系樹脂所包含之前述氫化物之量100%的比例L滿足下述式（3）。（1）105℃≦Tg≦120℃ （2）36000≦Mw （3）L≦10.5%
简体摘要：一种热塑性降𦯉烯系树脂，其系包含降𦯉烯系聚合物之氢化物的热塑性降𦯉烯系树脂，其中前述热塑性降𦯉烯系树脂的玻璃转移温度Tg满足下述式（1），前述氢化物的重量平均分子量Mw满足下述式（2），分子量10000以下之前述氢化物相对于前述热塑性降𦯉烯系树脂所包含之前述氢化物之量100%的比例L满足下述式（3）。（1）105℃≦Tg≦120℃ （2）36000≦Mw （3）L≦10.5%

5. 发明专利

TW201823011A 光學薄膜之製造方法、偏光板及顯示裝置审中-公开
简体标题：光学薄膜之制造方法、偏光板及显示设备
公开(公告)号：TW201823011A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106145410
申请日：2017-12-22
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：摺出寺浩成 , SUDEJI, HIRONARI
IPC分类号： B32B7/06 , B32B27/06 , B32B37/26 , G02B1/04 , G02B5/30
摘要：一種光學薄膜之製造方法以及使用其之光學薄膜之偏光板及顯示裝置。前述光學薄膜之製造方法包含提供多層薄膜至剝離處理之剝離步驟，前述多層薄膜係包含由熱塑性樹脂A而成之薄膜（A）及設置於前述薄膜（A）之其中一面或雙面之薄膜（B）之多層薄膜，前述剝離處理包含於溫度Tov（℃）時自前述薄膜（A）以施加沿前述薄膜（A）之厚度方向之力的方式剝離前述薄膜（B），前述溫度Tov與前述薄膜（A）之玻璃轉移溫度TgA（℃）滿足Tov≧TgA之關係，於前述多層薄膜中，於溫度Tov之前述薄膜（A）與前述薄膜（B）之剝離力Pa為0.03 N/50mm以上且0.5 N/50mm以下。
简体摘要：一种光学薄膜之制造方法以及使用其之光学薄膜之偏光板及显示设备。前述光学薄膜之制造方法包含提供多层薄膜至剥离处理之剥离步骤，前述多层薄膜系包含由热塑性树脂A而成之薄膜（A）及设置于前述薄膜（A）之其中一面或双面之薄膜（B）之多层薄膜，前述剥离处理包含于温度Tov（℃）时自前述薄膜（A）以施加沿前述薄膜（A）之厚度方向之力的方式剥离前述薄膜（B），前述温度Tov与前述薄膜（A）之玻璃转移温度TgA（℃）满足Tov≧TgA之关系，于前述多层薄膜中，于温度Tov之前述薄膜（A）与前述薄膜（B）之剥离力Pa为0.03 N/50mm以上且0.5 N/50mm以下。

6. 发明专利

TW201814327A 多層薄膜、偏光板及液晶顯示裝置审中-公开
简体标题：多层薄膜、偏光板及液晶显示设备
公开(公告)号：TW201814327A
公开(公告)日：2018-04-16
申请号：TW106132216
申请日：2017-09-20
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：摺出寺浩成 , SUDEJI, HIRONARI
IPC分类号： G02B1/08 , B32B27/08 , B32B27/40 , B32B27/30 , G02F1/1335
CPC分类号： B32B27/00 , B32B27/26 , B32B27/30 , B32B27/40 , G02B5/30
摘要：本發明提供一種多層薄膜，其係具備以熱塑性樹脂所構成之A層與形成於此A層之至少一側的表面之B層的多層薄膜，前述B層係使用包含玻璃轉移溫度為-50℃～40℃之聚合物Y1及交聯劑的材料Y所構成，且前述B層的複合彈性模數Er及前述B層中的鹼基成分量S為特定範圍。聚合物Y1係以聚胺酯為佳。本發明亦提供一種具備前述多層薄膜之偏光板及液晶顯示裝置。
简体摘要：本发明提供一种多层薄膜，其系具备以热塑性树脂所构成之A层与形成于此A层之至少一侧的表面之B层的多层薄膜，前述B层系使用包含玻璃转移温度为-50℃～40℃之聚合物Y1及交联剂的材料Y所构成，且前述B层的复合弹性模数Er及前述B层中的碱基成分量S为特定范围。聚合物Y1系以聚胺酯为佳。本发明亦提供一种具备前述多层薄膜之偏光板及液晶显示设备。

7. 发明专利

TW201825936A 光學薄膜之製造方法、偏光板及顯示裝置审中-公开
简体标题：光学薄膜之制造方法、偏光板及显示设备
公开(公告)号：TW201825936A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106145639
申请日：2017-12-26
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：摺出寺浩成 , SUDEJI, HIRONARI
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335 , B32B27/06
摘要：一種光學薄膜之製造方法，以及使用此光學薄膜之偏光板與顯示裝置，所述製造方法包含提供多層薄膜至剝離處理的剝離步驟，前述多層薄膜為長條狀多層薄膜，其包含由熱塑性樹脂A而成之薄膜（A）及設於前述薄膜（A）的一側或兩側之面上的薄膜（B），前述剝離處理包含於溫度Tov（℃）時，自前述薄膜（A）以施加沿前述薄膜（A）之厚度方向之力的方式剝離前述薄膜（B），前述溫度Tov與前述薄膜（A）的玻璃轉移溫度TgA（℃）滿足Tov≧TgA的關係，前述薄膜（B）其收縮率Xb為0%以上且未達4%，前述收縮率Xb係在溫度Tov、60秒鐘的條件下處理前述薄膜（B）時前述薄膜（B）在幅寬方向上的收縮率。
简体摘要：一种光学薄膜之制造方法，以及使用此光学薄膜之偏光板与显示设备，所述制造方法包含提供多层薄膜至剥离处理的剥离步骤，前述多层薄膜为长条状多层薄膜，其包含由热塑性树脂A而成之薄膜（A）及设于前述薄膜（A）的一侧或两侧之面上的薄膜（B），前述剥离处理包含于温度Tov（℃）时，自前述薄膜（A）以施加沿前述薄膜（A）之厚度方向之力的方式剥离前述薄膜（B），前述温度Tov与前述薄膜（A）的玻璃转移温度TgA（℃）满足Tov≧TgA的关系，前述薄膜（B）其收缩率Xb为0%以上且未达4%，前述收缩率Xb系在温度Tov、60秒钟的条件下处理前述薄膜（B）时前述薄膜（B）在幅宽方向上的收缩率。

8. 发明专利

TW201817595A 堆疊薄膜、其製造方法、偏光板及顯示裝置审中-公开
简体标题：堆栈薄膜、其制造方法、偏光板及显示设备
公开(公告)号：TW201817595A
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：TW106137243
申请日：2017-10-27
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：摺出寺浩成 , SUDEJI, HIRONARI
IPC分类号： B32B27/08 , G02B5/30 , C08F293/00
摘要：一種堆疊薄膜，其係具備以熱塑性樹脂A所形成之A層與以熱塑性樹脂B所形成之B層的堆疊薄膜，樹脂A包含氫化嵌段共聚物，此氫化嵌段共聚物包含以特定單元[I]為主成分之二個以上的聚合物嵌段以及以特定單元[II]、或單元[I]及單元[II]之組合為主成分之一個以上的聚合物嵌段，樹脂A之熱軟化溫度、樹脂B之熱軟化溫度、A層之厚度、B層之厚度、堆疊薄膜之面內方向的延遲（retardation）以及B層之平面取向係數係滿足特定要件。
简体摘要：一种堆栈薄膜，其系具备以热塑性树脂A所形成之A层与以热塑性树脂B所形成之B层的堆栈薄膜，树脂A包含氢化嵌段共聚物，此氢化嵌段共聚物包含以特定单元[I]为主成分之二个以上的聚合物嵌段以及以特定单元[II]、或单元[I]及单元[II]之组合为主成分之一个以上的聚合物嵌段，树脂A之热软化温度、树脂B之热软化温度、A层之厚度、B层之厚度、堆栈薄膜之面内方向的延迟（retardation）以及B层之平面取向系数系满足特定要件。

9. 发明专利

TWI680313B 多層膜、偏光板及多層膜的製造方法有权
简体标题：多层膜、偏光板及多层膜的制造方法
公开(公告)号：TWI680313B
公开(公告)日：2019-12-21
申请号：TW103145411
申请日：2014-12-25
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：摺出寺浩成 , SUDEJI, HIRONARI
IPC分类号： G02B5/30 , B32B7/02 , B32B27/32

10. 发明专利

TW201842044A 光學薄膜、偏光板及製造方法审中-公开
简体标题：光学薄膜、偏光板及制造方法
公开(公告)号：TW201842044A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107109792
申请日：2018-03-22
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：周宏晃 , SHU, HIROAKI , 井上恭輔 , INOUE, KYOSUKE , 藤野泰秀 , FUJINO, YASUHIDE , 摺出寺浩成 , SUDEJI, HIRONARI , 辻野斗馬 , TSUJINO, TOMA
IPC分类号： C08L53/02 , C08F297/04 , C08F8/04 , G02B1/04 , B32B27/30 , G02B5/30 , C08J5/18
摘要：一種光學薄膜，其係由經延伸的樹脂而成之光學薄膜，且Re（590）、｜Rth（590）｜、｜Re（400）－Re（800）｜及｜Rth（400）－Rth（800）｜在特定範圍內，拉伸彈性模數係1500MPa以上，拉裂強度係0.6N／mm以上；具備其之偏光板；以及其製造方法。樹脂以包含具有芳族乙烯化合物氫化物單元（a）及二烯化合物氫化物單元（b）的聚合物為佳。
简体摘要：一种光学薄膜，其系由经延伸的树脂而成之光学薄膜，且Re（590）、｜Rth（590）｜、｜Re（400）－Re（800）｜及｜Rth（400）－Rth（800）｜在特定范围内，拉伸弹性模数系1500MPa以上，拉裂强度系0.6N／mm以上；具备其之偏光板；以及其制造方法。树脂以包含具有芳族乙烯化合物氢化物单元（a）及二烯化合物氢化物单元（b）的聚合物为佳。

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