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1. 发明专利

TW201706345A 長條薄膜及其製造方法审中-公开
简体标题：长条薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TW201706345A
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：TW105120457
申请日：2016-06-29
申请人：日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：井上恭輔 , INOUE, KYOSUKE , 眞島啓 , MASHIMA, HIROMU
IPC分类号： C08J5/18 , B29C55/08 , G02F1/13363
CPC分类号： G02B5/3083 , B29C47/0004 , B29C47/0021 , B29C47/0057 , B29C47/8805 , B29C55/08 , B29K2009/00 , B29K2995/0032 , B29K2995/0093 , C08G61/08 , C08G2261/11 , C08G2261/228 , C08G2261/3325 , C08G2261/90 , C08J5/18 , C08J2347/00 , G02B1/04 , G02B5/30
摘要：一種長條薄膜，係由含有具有結晶性的聚合物之樹脂所構成之長條薄膜，前述長條薄膜的配向軸，相對於前述長條薄膜的長邊方向為垂直，前述長條薄膜的Nz係數Nz1為滿足(式1)，前述長條薄膜的雙折射△n為滿足(式2)，且前述聚合物的結晶化度X為滿足(式3)。 1.0≦Nz1≦1.15 (式1) 0.01≦△n≦0.1 (式2) 15%≦X (式3)
简体摘要：一种长条薄膜，系由含有具有结晶性的聚合物之树脂所构成之长条薄膜，前述长条薄膜的配向轴，相对于前述长条薄膜的长边方向为垂直，前述长条薄膜的Nz系数Nz1为满足(式1)，前述长条薄膜的双折射△n为满足(式2)，且前述聚合物的结晶化度X为满足(式3)。 1.0≦Nz1≦1.15 (式1) 0.01≦△n≦0.1 (式2) 15%≦X (式3)

2. 发明专利

TW201910133A 堆疊薄膜审中-公开
简体标题：堆栈薄膜
公开(公告)号：TW201910133A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW107125122
申请日：2018-07-20
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：井上恭輔 , INOUE, KYOSUKE
IPC分类号： B32B27/18 , B32B7/02 , G02B5/30 , G02F1/1335
摘要：一種堆疊薄膜，依序包含由熱塑性樹脂S1形成的第1表層、由熱塑性樹脂C形成的核心層及由熱塑性樹脂S2形成的第2表層，其中前述第1表層、前述核心層及前述第2表層在9 μm以上且11 μm以下的波長區域之光線的平均吸收率上具有特定關係，前述熱塑性樹脂S1的玻璃轉移溫度Tg（s1）為150℃以上，前述熱塑性樹脂S2的玻璃轉移溫度Tg（s2）為150℃以上，在波長380 nm的紫外線穿透率為10 %以下。
简体摘要：一种堆栈薄膜，依序包含由热塑性树脂S1形成的第1表层、由热塑性树脂C形成的内核层及由热塑性树脂S2形成的第2表层，其中前述第1表层、前述内核层及前述第2表层在9 μm以上且11 μm以下的波长区域之光线的平均吸收率上具有特定关系，前述热塑性树脂S1的玻璃转移温度Tg（s1）为150℃以上，前述热塑性树脂S2的玻璃转移温度Tg（s2）为150℃以上，在波长380 nm的紫外线穿透率为10 %以下。

3. 发明专利

TW201842044A 光學薄膜、偏光板及製造方法审中-公开
简体标题：光学薄膜、偏光板及制造方法
公开(公告)号：TW201842044A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107109792
申请日：2018-03-22
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：周宏晃 , SHU, HIROAKI , 井上恭輔 , INOUE, KYOSUKE , 藤野泰秀 , FUJINO, YASUHIDE , 摺出寺浩成 , SUDEJI, HIRONARI , 辻野斗馬 , TSUJINO, TOMA
IPC分类号： C08L53/02 , C08F297/04 , C08F8/04 , G02B1/04 , B32B27/30 , G02B5/30 , C08J5/18
摘要：一種光學薄膜，其係由經延伸的樹脂而成之光學薄膜，且Re（590）、｜Rth（590）｜、｜Re（400）－Re（800）｜及｜Rth（400）－Rth（800）｜在特定範圍內，拉伸彈性模數係1500MPa以上，拉裂強度係0.6N／mm以上；具備其之偏光板；以及其製造方法。樹脂以包含具有芳族乙烯化合物氫化物單元（a）及二烯化合物氫化物單元（b）的聚合物為佳。
简体摘要：一种光学薄膜，其系由经延伸的树脂而成之光学薄膜，且Re（590）、｜Rth（590）｜、｜Re（400）－Re（800）｜及｜Rth（400）－Rth（800）｜在特定范围内，拉伸弹性模数系1500MPa以上，拉裂强度系0.6N／mm以上；具备其之偏光板；以及其制造方法。树脂以包含具有芳族乙烯化合物氢化物单元（a）及二烯化合物氢化物单元（b）的聚合物为佳。

4. 发明专利

TWI701275B 長條薄膜及其製造方法有权
简体标题：长条薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TWI701275B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW105120457
申请日：2016-06-29
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：井上恭輔 , INOUE, KYOSUKE , 眞島啓 , MASHIMA, HIROMU
IPC分类号： C08J5/18 , B29C55/08 , G02F1/13363

5. 发明专利

TWI620640B 模具以及複數層膜之製造方法有权
简体标题：模具以及复数层膜之制造方法
公开(公告)号：TWI620640B
公开(公告)日：2018-04-11
申请号：TW103108326
申请日：2014-03-11
申请人：日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：井上恭輔 , INOUE, KYOSUKE , 波多野拓 , HATANO, TAKU
IPC分类号： B29C43/20 , B29C45/38 , B29L11/00
CPC分类号： B29C47/0816 , B29C47/0021 , B29C47/065 , B29C47/0852 , B29C47/145 , B29C47/165

6. 发明专利

TW201802505A 積層薄膜及偏光板审中-公开
简体标题：积层薄膜及偏光板
公开(公告)号：TW201802505A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106121758
申请日：2017-06-29
申请人：日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：井上恭輔 , INOUE, KYOSUKE
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335 , B32B7/02 , B32B27/00 , C09J201/00
CPC分类号： B32B7/02 , B32B27/00 , G02B5/30
摘要：本發明係一種積層薄膜，其係依序具備：以第1樹脂形成的第1層；以第2樹脂形成的第2層；及，以第3樹脂形成的第3層的積層薄膜，第2樹脂，具有較第1樹脂的玻璃轉移溫度低，且較第3樹脂的玻璃轉移溫度低的玻璃轉移溫度；第1樹脂及第3樹脂，作成厚度100μm的薄膜時所測定的壓痕彈性模數為2200MPa以上；第1樹脂及第3樹脂，作成厚度100μm的薄膜時，遵照JIS K7129 B(1992)測定的水蒸氣穿透率為5g/m2‧day以下；第1層的厚度與第3層的厚度的和，相對於第2層的厚度的比為1以上4以下範圍內。
简体摘要：本发明系一种积层薄膜，其系依序具备：以第1树脂形成的第1层；以第2树脂形成的第2层；及，以第3树脂形成的第3层的积层薄膜，第2树脂，具有较第1树脂的玻璃转移温度低，且较第3树脂的玻璃转移温度低的玻璃转移温度；第1树脂及第3树脂，作成厚度100μm的薄膜时所测定的压痕弹性模数为2200MPa以上；第1树脂及第3树脂，作成厚度100μm的薄膜时，遵照JIS K7129 B(1992)测定的水蒸气穿透率为5g/m2‧day以下；第1层的厚度与第3层的厚度的和，相对于第2层的厚度的比为1以上4以下范围内。

7. 发明专利

TW201446460A 模具以及複數層膜之製造方法审中-公开
简体标题：模具以及复数层膜之制造方法
公开(公告)号：TW201446460A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW103108326
申请日：2014-03-11
申请人：日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：井上恭輔 , INOUE, KYOSUKE , 波多野拓 , HATANO, TAKU
IPC分类号： B29C43/20 , B29C45/38 , B29L11/00
CPC分类号： B29C47/0816 , B29C47/0021 , B29C47/065 , B29C47/0852 , B29C47/145 , B29C47/165
摘要：一種模具，用於製造包括第一層以及第二層之複數層膜，上述模具包括：第一分歧管，被供給用於形成第一層之熔融樹脂；第一流路，從上述第一分歧管向下游延伸；第二分歧管，被供給用於形成第二層之熔融樹脂；第二流路，從上述第二分歧管向下游延伸；合流部，用於使上述第一流路以及上述第二流路合流；合流流路，從上述合流部向下游延伸；以及唇口部，形成於上述合流流路之下游，連續地排出於上述合流部合流的上述用於形成第一層之熔融樹脂以及上述用於形成第二層之熔融樹脂；其中上述第一流路包括調整流路部；其中上述調整流路部的間隙尺寸相對於上述唇口部的間隙尺寸的比值為3.0以下。
简体摘要：一种模具，用于制造包括第一层以及第二层之复数层膜，上述模具包括：第一分歧管，被供给用于形成第一层之熔融树脂；第一流路，从上述第一分歧管向下游延伸；第二分歧管，被供给用于形成第二层之熔融树脂；第二流路，从上述第二分歧管向下游延伸；合流部，用于使上述第一流路以及上述第二流路合流；合流流路，从上述合流部向下游延伸；以及唇口部，形成于上述合流流路之下游，连续地排出于上述合流部合流的上述用于形成第一层之熔融树脂以及上述用于形成第二层之熔融树脂；其中上述第一流路包括调整流路部；其中上述调整流路部的间隙尺寸相对于上述唇口部的间隙尺寸的比值为3.0以下。

8. 发明专利

TWI675870B 樹脂膜以及樹脂膜之製造方法有权
简体标题：树脂膜以及树脂膜之制造方法
公开(公告)号：TWI675870B
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：TW104134318
申请日：2015-10-20
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：小渕和之 , OBUCHI, KAZUYUKI , 波多野拓 , HATANO, TAKU , 井上恭輔 , INOUE, KYOSUKE , 眞島啓 , MASHIMA, HIROMU
IPC分类号： C08J5/18

9. 发明专利

TW201831323A 光學薄膜及偏光板审中-公开
简体标题：光学薄膜及偏光板
公开(公告)号：TW201831323A
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW106145950
申请日：2017-12-27
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：井上恭輔 , INOUE, KYOSUKE
IPC分类号： B32B27/08 , C08F297/04 , C08G61/08 , G02B1/04 , G02B5/30
摘要：一種光學薄膜，其厚度方向延遲之絕對值為3 nm以下，衝擊強度為2×10−2J以上，且水蒸氣穿透率為10 g/(m2⋅24h)以下。
简体摘要：一种光学薄膜，其厚度方向延迟之绝对值为3 nm以下，冲击强度为2×10−2J以上，且水蒸气穿透率为10 g/(m2⋅24h)以下。

10. 发明专利

TW201615709A 樹脂膜以及樹脂膜之製造方法审中-公开
简体标题：树脂膜以及树脂膜之制造方法
公开(公告)号：TW201615709A
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW104134318
申请日：2015-10-20
申请人：日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：小渕和之 , OBUCHI, KAZUYUKI , 波多野拓 , HATANO, TAKU , 井上恭輔 , INOUE, KYOSUKE , 眞島啓 , MASHIMA, HIROMU
IPC分类号： C08J5/18
CPC分类号： B29C55/02 , C08G61/06 , C08G2261/40 , C08J5/18 , C08J2400/12 , C08L101/12
摘要：提供耐折性、低吸水性、及耐熱性任一者均優良的樹脂膜之製造方法。一種樹脂膜，係由含有具有結晶性的含脂環式結構的聚合物之樹脂所構成，耐折度為2000次以上，吸水率為0.1%以下，而且耐熱溫度為180℃以上；一種樹脂膜，係由含有具有結晶性的含脂環式結構的聚合物之樹脂所構成，前述聚合物的結晶化度為10%以上，耐折度為2000次以上，吸水率為0.1%以下，而且平滑；以及該等的製造方法。
简体摘要：提供耐折性、低吸水性、及耐热性任一者均优良的树脂膜之制造方法。一种树脂膜，系由含有具有结晶性的含脂环式结构的聚合物之树脂所构成，耐折度为2000次以上，吸水率为0.1%以下，而且耐热温度为180℃以上；一种树脂膜，系由含有具有结晶性的含脂环式结构的聚合物之树脂所构成，前述聚合物的结晶化度为10%以上，耐折度为2000次以上，吸水率为0.1%以下，而且平滑；以及该等的制造方法。

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