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1. 发明专利

TWI697025B 帶電粒子線裝置，截面形狀推定程式有权
简体标题：带电粒子线设备，截面形状推定进程
公开(公告)号：TWI697025B
公开(公告)日：2020-06-21
申请号：TW108103058
申请日：2019-01-28
申请人：日商日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：横須賀俊之 , YOKOSUKA, TOSHIYUKI , 川野源 , KAWANO, HAJIME , 黒澤浩一 , KUROSAWA, KOUICHI , 数見秀之 , KAZUMI, HIDEYUKI
IPC分类号： H01J37/22 , H01J37/244 , H01L21/66

2. 发明专利

TW201543524A 荷電粒子束裝置及使用該裝置之檢查方法审中-公开
简体标题：荷电粒子束设备及使用该设备之检查方法
公开(公告)号：TW201543524A
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：TW104113576
申请日：2015-04-28
申请人：日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：猩猩智康 , SHOJO, TOMOYASU , 川野源 , KAWANO, HAJIME , 早田康成 , SOHDA, YASUNARI
IPC分类号： H01J37/26 , G01N23/225
CPC分类号： H01J37/12 , H01J37/09 , H01J37/10 , H01J37/147 , H01J37/153 , H01J37/28 , H01J2237/103 , H01J2237/21 , H01J2237/24592 , H01J2237/28 , H01J2237/2809 , H01J2237/2814 , H01J2237/2817
摘要：本發明係即便不新設置焦點修正透鏡或變更將荷電粒子束收斂於試樣之物鏡之焦點距離，於將相對較大之荷電粒子束劑量照射至試樣之情形時，亦可使荷電粒子束之照射至試樣之孔徑角相對於先前技術而言相對較小。本發明之荷電粒子束裝置具有：荷電粒子源；第1聚光透鏡，其設置於荷電粒子源之下游；光闌，其設置於上述第1聚光透鏡之下游；及第2聚光透鏡，其設置於較上述光闌更靠下游；且以如下方式控制上述第1及第2聚光透鏡，即，於以多於第1荷電粒子束劑量之第2荷電粒子束劑量對上述試樣進行照射之情形時，荷電粒子束於較上述光闌更靠下游處成像，且於上述第1荷電粒子束劑量與上述第2荷電粒子束劑量時上述第2聚光透鏡之焦點位置不會變化。
简体摘要：本发明系即便不新设置焦点修正透镜或变更将荷电粒子束收敛于试样之物镜之焦点距离，于将相对较大之荷电粒子束剂量照射至试样之情形时，亦可使荷电粒子束之照射至试样之孔径角相对于先前技术而言相对较小。本发明之荷电粒子束设备具有：荷电粒子源；第1聚光透镜，其设置于荷电粒子源之下游；光阑，其设置于上述第1聚光透镜之下游；及第2聚光透镜，其设置于较上述光阑更靠下游；且以如下方式控制上述第1及第2聚光透镜，即，于以多于第1荷电粒子束剂量之第2荷电粒子束剂量对上述试样进行照射之情形时，荷电粒子束于较上述光阑更靠下游处成像，且于上述第1荷电粒子束剂量与上述第2荷电粒子束剂量时上述第2聚光透镜之焦点位置不会变化。

3. 发明专利

TWI592976B 荷電粒子束裝置及使用該裝置之檢查方法有权
简体标题：荷电粒子束设备及使用该设备之检查方法
公开(公告)号：TWI592976B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW104113576
申请日：2015-04-28
申请人：日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：猩猩智康 , SHOJO, TOMOYASU , 川野源 , KAWANO, HAJIME , 早田康成 , SOHDA, YASUNARI
IPC分类号： H01J37/26 , G01N23/225
CPC分类号： H01J37/12 , H01J37/09 , H01J37/10 , H01J37/147 , H01J37/153 , H01J37/28 , H01J2237/103 , H01J2237/21 , H01J2237/24592 , H01J2237/28 , H01J2237/2809 , H01J2237/2814 , H01J2237/2817

4. 发明专利

TW201403650A 荷電粒子線顯微鏡审中-公开
简体标题：荷电粒子线显微镜
公开(公告)号：TW201403650A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102112151
申请日：2013-04-03
申请人：日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：今村伸 , IMAMURA, SHIN , 大嶋卓 , OHSHIMA, TAKASHI , 川野源 , KAWANO, HAJIME
IPC分类号： H01J37/22 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/244 , H01J2237/2443
摘要：本發明是在將電子線照射於試料，檢測出從試料產生的二次粒子，藉此取得試料的畫像之裝置中，提供使檢測器之往受光元件的入射光增大，高感度的電子顯微鏡為目的。並且，提供一種可使檢測高速化的電子顯微鏡為目的。藉由下述電子顯微鏡來解決上述課題，該電子顯微鏡係藉由：使電子線產生的電子源、電子線光學系、試料平台、真空排氣系、電子線檢測器所構成者，在前述電子線檢測器係具備：將射入電子線變換成光的閃爍器、將該光變換成電氣訊號的受光元件、將來自前述閃爍器的光引導至前述受光元件的導、及將在前述閃爍器產生的光之中700nm的波長的光射入前述受光元件的光量減低之手段。
简体摘要：本发明是在将电子线照射于试料，检测出从试料产生的二次粒子，借此取得试料的画像之设备中，提供使检测器之往受光组件的入射光增大，高感度的电子显微镜为目的。并且，提供一种可使检测高速化的电子显微镜为目的。借由下述电子显微镜来解决上述课题，该电子显微镜系借由：使电子线产生的电子源、电子线光学系、试料平台、真空排气系、电子线检测器所构成者，在前述电子线检测器系具备：将射入电子线变换成光的闪烁器、将该光变换成电气信号的受光组件、将来自前述闪烁器的光引导至前述受光组件的导、及将在前述闪烁器产生的光之中700nm的波长的光射入前述受光组件的光量减低之手段。

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