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1. 发明专利

TWI632163B 感放射線樹脂組合物以及電子元件有权
简体标题：感放射线树脂组合物以及电子组件
公开(公告)号：TWI632163B
公开(公告)日：2018-08-11
申请号：TW103103435
申请日：2014-01-29
申请人：日商日本傑恩股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：阿部聡 , ABE, SATOSHI , 堤隆志 , TSUTSUMI, TAKASHI
IPC分类号： C08F2/46 , C08F2/44 , G03F7/004 , G03F7/032 , G03F7/028 , H01L21/027

2. 发明专利

TW201539140A 感放射線樹脂組成物以及電子構件审中-公开
简体标题：感放射线树脂组成物以及电子构件
公开(公告)号：TW201539140A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW104108737
申请日：2015-03-19
申请人：日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：堤隆志 , TSUTSUMI, TAKASHI
IPC分类号： G03F7/075 , G03F7/032
CPC分类号： G03F7/0751 , G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/038 , G03F7/0755 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/26
摘要：提供一種感放射線樹脂組成物，其含有：黏結劑樹脂(A)、感放射線化合物(B)、交聯劑(C)、及以下述通式(1)表示之矽烷偶合劑(D)。 (上述通式(1)中，R1~R3係各自獨立為碳數1~5之1價的烷基，R4係碳數1~10之2價的烷基，R5係氫原子或碳數1~5之1價的烷基，R6~R10係氫原子或碳數1~5之1價的烷基)。
简体摘要：提供一种感放射线树脂组成物，其含有：黏结剂树脂(A)、感放射线化合物(B)、交联剂(C)、及以下述通式(1)表示之硅烷偶合剂(D)。 (上述通式(1)中，R1~R3系各自独立为碳数1~5之1价的烷基，R4系碳数1~10之2价的烷基，R5系氢原子或碳数1~5之1价的烷基，R6~R10系氢原子或碳数1~5之1价的烷基)。

3. 发明专利

TW201543154A 感放射線樹脂組成物以及電子構件审中-公开
简体标题：感放射线树脂组成物以及电子构件
公开(公告)号：TW201543154A
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：TW104108739
申请日：2015-03-19
申请人：日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：堤隆志 , TSUTSUMI, TAKASHI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/032 , C08G59/62 , H05K1/03 , H05K3/46
CPC分类号： G03F7/0233 , C08G59/20 , C08G59/62 , G03F7/0226 , G03F7/038 , G03F7/0755
摘要：提供一種感放射線樹脂組成物，其含有：黏結劑樹脂(A)；感放射線化合物(B)；環氧當量為450以下、軟化點為30℃以下且4官能以下之環氧系交聯劑(C)；及芳烷基酚樹脂(D)。根據本發明，能夠提供一種對金屬層的密著性高、具有優異的顯影性及低吸濕性的樹脂膜之感放射線樹脂組成物。
简体摘要：提供一种感放射线树脂组成物，其含有：黏结剂树脂(A)；感放射线化合物(B)；环氧当量为450以下、软化点为30℃以下且4官能以下之环氧系交联剂(C)；及芳烷基酚树脂(D)。根据本发明，能够提供一种对金属层的密着性高、具有优异的显影性及低吸湿性的树脂膜之感放射线树脂组成物。

4. 发明专利

TW201837067A 聚合物及正型光阻溶液审中-公开
公开(公告)号：TW201837067A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW107105014
申请日：2018-02-12
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：蒲田耕平 , KAMATA, KOHEI , 堤隆志 , TSUTSUMI, TAKASHI
IPC分类号： C08F212/08 , C08F220/14 , G03F7/039
摘要：提供一種得良好地使用作為得抑制圖案缺陷發生之正型光阻的聚合物，以及提供包含該聚合物的正型光阻溶液。本發明之正型光阻溶液為一種聚合物，其包含α-甲基苯乙烯單元與α-氯丙烯酸甲酯單元，且Gx為0.05以下。並且，包含該聚合物與溶劑。
简体摘要：提供一种得良好地使用作为得抑制图案缺陷发生之正型光阻的聚合物，以及提供包含该聚合物的正型光阻溶液。本发明之正型光阻溶液为一种聚合物，其包含α-甲基苯乙烯单元与α-氯丙烯酸甲酯单元，且Gx为0.05以下。并且，包含该聚合物与溶剂。

5. 发明专利

TW201716318A 樹脂組合物审中-公开
简体标题：树脂组合物
公开(公告)号：TW201716318A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105127396
申请日：2016-08-26
申请人：日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：堤隆志 , TSUTSUMI, TAKASHI , 齋藤隆之 , SAITO, TAKAYUKI , 藤村誠 , FUJIMURA, MAKOTO
IPC分类号： C01B21/08 , G03F7/008 , G03F7/012 , C08G59/00 , C08J5/18 , G03F7/038 , G03F7/039 , H05K1/03
CPC分类号： C08G59/62 , C08K5/13 , C08L63/00 , C08L65/00 , C08L101/00
摘要：提供一種含有黏結劑樹脂(A)、下述通式(1)表示之芳香族化合物(B)、及交聯劑(C)之樹脂組合物。 (上述通式(1)中，R1~R8各自獨立為氫原子、羥基、羧基、可具有取代基之碳數1~12的脂肪族烴基、可具有取代基之碳數6~12的芳香族烴基。m=0~2的整數，m=0時，R1~R4、R6、R7的至少2個為羥基，m=1或2時，R1~R8的至少2個為羥基，m為2以上時，不管通式(1)表示的構造如何，存在3個以上的苯環可以是互相在任意位置縮合而成者)。
简体摘要：提供一种含有黏结剂树脂(A)、下述通式(1)表示之芳香族化合物(B)、及交联剂(C)之树脂组合物。 (上述通式(1)中，R1~R8各自独立为氢原子、羟基、羧基、可具有取代基之碳数1~12的脂肪族烃基、可具有取代基之碳数6~12的芳香族烃基。m=0~2的整数，m=0时，R1~R4、R6、R7的至少2个为羟基，m=1或2时，R1~R8的至少2个为羟基，m为2以上时，不管通式(1)表示的构造如何，存在3个以上的苯环可以是互相在任意位置缩合而成者)。

6. 发明专利

TW201639933A 樹脂組合物、樹脂膜及電子元件审中-公开
简体标题：树脂组合物、树脂膜及电子组件
公开(公告)号：TW201639933A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：TW105104232
申请日：2016-02-15
申请人：日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：堤隆志 , TSUTSUMI, TAKASHI , 大迫由美 , OSAKU, YUMI
IPC分类号： C09D201/00 , C09D7/12 , C08K5/057 , H05K3/28
CPC分类号： C08L45/00 , C08K5/09 , C08K5/1515 , C08K5/3492 , C08K5/5435 , C08L79/08 , C08L83/04 , C08L101/00 , G03F7/0226 , G03F7/023 , G03F7/0233 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0387 , G03F7/0755 , G03F7/0757
摘要：提供一種樹脂組合物，其特徵在於含有黏結劑樹脂(A)、具有酸性基或潛在性酸性基的化合物(B)、有機溶劑(C)、以及化合物(D)而成，其中此化合物(D)係具有選自矽原子、鈦原子、鋁原子、及鋯原子之中之1個原子且具有鍵結在此原子之烴氧基或羥基；前述化合物(B)係選自由脂肪族化合物、芳香族化合物、及雜環化合物所組成群組之至少1種，相對於前述黏結劑樹脂(A)100重量份，前述化合物(B)的含量為0.1~2.5重量份，前述化合物(D)的含量為2.2~7.0重量份。
简体摘要：提供一种树脂组合物，其特征在于含有黏结剂树脂(A)、具有酸性基或潜在性酸性基的化合物(B)、有机溶剂(C)、以及化合物(D)而成，其中此化合物(D)系具有选自硅原子、钛原子、铝原子、及锆原子之中之1个原子且具有键结在此原子之烃氧基或羟基；前述化合物(B)系选自由脂肪族化合物、芳香族化合物、及杂环化合物所组成群组之至少1种，相对于前述黏结剂树脂(A)100重量份，前述化合物(B)的含量为0.1~2.5重量份，前述化合物(D)的含量为2.2~7.0重量份。

7. 发明专利

TW201840527A 單體、聚合物及正光阻劑組成物审中-公开
简体标题：单体、聚合物及正光阻剂组成物
公开(公告)号：TW201840527A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107108100
申请日：2018-03-09
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：堤隆志 , TSUTSUMI, TAKASHI
IPC分类号： C07C69/54 , C08F120/12 , C08F120/32 , G03F7/039
摘要：本發明以提供作為主鏈切斷型之正光阻劑使用時能夠形成耐熱性及乾式蝕刻耐受性優異之光阻圖案的聚合物。本發明的單體由下述式（I）所示。並且，本發明的聚合物具有下述式（II）所示之單體單元。此外，式（I）及（II）中，B為亦可具有取代基之橋環飽和環烴基，n為0或1。［化1］
简体摘要：本发明以提供作为主链切断型之正光阻剂使用时能够形成耐热性及干式蚀刻耐受性优异之光阻图案的聚合物。本发明的单体由下述式（I）所示。并且，本发明的聚合物具有下述式（II）所示之单体单元。此外，式（I）及（II）中，B为亦可具有取代基之桥环饱和环烃基，n为0或1。［化1］

8. 发明专利

TW201802593A 感放射線樹脂組合物以及電子元件审中-公开
简体标题：感放射线树脂组合物以及电子组件
公开(公告)号：TW201802593A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106109111
申请日：2017-03-20
申请人：日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：堤隆志 , TSUTSUMI, TAKASHI , 藤村誠 , FUJIMURA, MAKOTO
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/023 , G03F7/075 , C08G61/12 , H01L21/312
CPC分类号： C08L63/00 , C08L65/00 , G03F7/004 , G03F7/023 , G03F7/075
摘要：提供一種含有具有質子性極性基的環狀烯烴聚合物(A)、下述通式(1)表示之2官能的環氧化合物(B)、及感放射線化合物(C)之感放射線樹脂組合物。 (上述通式(1)中，R1為碳數1~15的直鏈狀或分枝狀伸烷基，k為1~20的整數)。
简体摘要：提供一种含有具有质子性极性基的环状烯烃聚合物(A)、下述通式(1)表示之2官能的环氧化合物(B)、及感放射线化合物(C)之感放射线树脂组合物。 (上述通式(1)中，R1为碳数1~15的直链状或分枝状伸烷基，k为1~20的整数)。

9. 发明专利

TW201439127A 感放射線樹脂組合物以及電子元件审中-公开
简体标题：感放射线树脂组合物以及电子组件
公开(公告)号：TW201439127A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：TW103103435
申请日：2014-01-29
申请人：日本傑恩股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：阿部聡 , ABE, SATOSHI , 堤隆志 , TSUTSUMI, TAKASHI
IPC分类号： C08F2/46 , C08F2/44 , G03F7/004 , G03F7/032 , G03F7/028 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/038 , C08K5/13 , C08K5/28 , C08K5/375 , G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/0757
摘要：提供一種感放射線樹脂組合物，含有黏合劑樹脂(A)、感放射線化合物(B)、交聯劑(C)、不含硫的半受阻酚系抗氧化劑及/或不含硫的少受阻酚系抗氧化劑(D)，以及含硫的苯酚系抗氧化劑(E)而成。依本發明，能夠提供賦予曝光感度高、燒結後的形狀保持性優良、在氧化性氣體環境燒結後亦具有高透明性的樹脂膜之感放射線樹脂組合物。
简体摘要：提供一种感放射线树脂组合物，含有黏合剂树脂(A)、感放射线化合物(B)、交联剂(C)、不含硫的半受阻酚系抗氧化剂及/或不含硫的少受阻酚系抗氧化剂(D)，以及含硫的苯酚系抗氧化剂(E)而成。依本发明，能够提供赋予曝光感度高、烧结后的形状保持性优良、在氧化性气体环境烧结后亦具有高透明性的树脂膜之感放射线树脂组合物。

10. 发明专利

TW201404797A 開環複分解聚合體氧化合物之製造方法及樹脂組合物审中-公开
简体标题：开环复分解聚合体氧化合物之制造方法及树脂组合物
公开(公告)号：TW201404797A
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW102109172
申请日：2013-03-15
申请人：日本傑恩股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：堤隆志 , TSUTSUMI, TAKASHI , 田口和典 , TAGUCHI, KAZUNORI , 大迫由美 , OHSAKO, YUMI
IPC分类号： C08G61/08 , C08G61/12 , B01J31/12
CPC分类号： C08F8/04 , B01J31/00 , C08G61/08 , C08G2261/418 , C08G2261/65 , C08G2261/724 , C08G2261/92 , C08G2261/95 , C08L65/00
摘要：本發明係一種開環複分解聚合體氫化合物之製造方法，其係將環狀烯烴，於聚合觸媒的存在下開環複分解聚合之後，將生成的開環複分解聚合體之碳-碳雙鍵鍵結之至少一部分氫化之開環複分解聚合體氫化物之製造方法，其特徵在於：上述聚合觸媒，使用選自由下式(I)、(II)、(III)、(IV)所組成之群之至少一種釕化合物，及包含藉由該製造方法製造之開環複分解聚合體氫化合物之樹脂組合物。根據本發明，可提供在工業上有利於製造，特別是光穿透率優良的開環複分解聚合體氫化合物的方法，及含有將該製造方法所得之開環複分解聚合體氫化合物之樹脂組合物。式中，X1~X8係分別獨立地表示，鹵素原子等；L1~L5係表示電子供給性的化合物配位基；R0係表示氫原子、鹵素原子等，R1係以式：(Rb1)(Rb2)NSO2-表示之基等，R2、R3、R5、R6、R7、R10、R11、R12、R13、R14係表示氫原子、鹵素原子、C1-C20烷基；Y1、Y2係表示氧原子等；Z係表示式：-C(Rb)(Rc)-等：式中，Rb、Rc係表示氫原子等。
简体摘要：本发明系一种开环复分解聚合体氢化合物之制造方法，其系将环状烯烃，于聚合触媒的存在下开环复分解聚合之后，将生成的开环复分解聚合体之碳-碳双键键结之至少一部分氢化之开环复分解聚合体氢化物之制造方法，其特征在于：上述聚合触媒，使用选自由下式(I)、(II)、(III)、(IV)所组成之群之至少一种钌化合物，及包含借由该制造方法制造之开环复分解聚合体氢化合物之树脂组合物。根据本发明，可提供在工业上有利于制造，特别是光穿透率优良的开环复分解聚合体氢化合物的方法，及含有将该制造方法所得之开环复分解聚合体氢化合物之树脂组合物。式中，X1~X8系分别独立地表示，卤素原子等；L1~L5系表示电子供给性的化合物配位基；R0系表示氢原子、卤素原子等，R1系以式：(Rb1)(Rb2)NSO2-表示之基等，R2、R3、R5、R6、R7、R10、R11、R12、R13、R14系表示氢原子、卤素原子、C1-C20烷基；Y1、Y2系表示氧原子等；Z系表达式：-C(Rb)(Rc)-等：式中，Rb、Rc系表示氢原子等。

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