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1. 发明专利

TWI648779B 基板處理裝置、基板處理方法以及程式記錄媒體有权
简体标题：基板处理设备、基板处理方法以及进程记录媒体
公开(公告)号：TWI648779B
公开(公告)日：2019-01-21
申请号：TW107107471
申请日：2018-03-06
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：西田崇之 , NISHIDA, TAKAYUKI , 石井淳一 , ISHII, JUNICHI
IPC分类号： H01L21/304

2. 发明专利

TWI697948B 基板處理方法以及基板處理裝置有权
简体标题：基板处理方法以及基板处理设备
公开(公告)号：TWI697948B
公开(公告)日：2020-07-01
申请号：TW107136001
申请日：2018-10-12
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：西田崇之 , NISHIDA, TAKAYUKI , 石井淳一 , ISHII, JUNICHI
IPC分类号： H01L21/304

3. 发明专利

TWI691009B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI691009B
公开(公告)日：2020-04-11
申请号：TW107146672
申请日：2018-12-22
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：沖田展彬 , OKITA, NOBUAKI , 村元僚 , MURAMOTO, RYO , 西田崇之 , NISHIDA, TAKAYUKI
IPC分类号： H01L21/67

4. 发明专利

TWI693670B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI693670B
公开(公告)日：2020-05-11
申请号：TW107146817
申请日：2018-12-24
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：西田崇之 , NISHIDA, TAKAYUKI , 沖田展彬 , OKITA, NOBUAKI
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/304

5. 发明专利

TW201830552A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201830552A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106141166
申请日：2017-11-27
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：津田祥太郎 , TSUDA, SHOTARO , 平岡伸康 , HIRAOKA, NOBUYASU , 沖田展彬 , OKITA, NOBUAKI , 西田崇之 , NISHIDA, TAKAYUKI
IPC分类号： H01L21/67 , B08B3/14
摘要：本發明提供一種減少附著於杯體之異物再次附著於基板之情況的技術。本發明之基板處理裝置1具有上杯體部32，該上杯體部32具有形成為可將保持於基板保持部10之基板W包圍之筒狀的第1筒狀部321及第2筒狀部322，且第2筒狀部322連結於第1筒狀部321之上側。又，基板處理裝置1具備杯體移動部36，該杯體移動部36係藉由使上杯體部32於鉛直方向上移動，而使上杯體部32分別於第1筒狀部321包圍基板W之位置、及第2筒狀部322包圍基板W之位置停止。
简体摘要：本发明提供一种减少附着于杯体之异物再次附着于基板之情况的技术。本发明之基板处理设备1具有上杯体部32，该上杯体部32具有形成为可将保持于基板保持部10之基板W包围之筒状的第1筒状部321及第2筒状部322，且第2筒状部322链接于第1筒状部321之上侧。又，基板处理设备1具备杯体移动部36，该杯体移动部36系借由使上杯体部32于铅直方向上移动，而使上杯体部32分别于第1筒状部321包围基板W之位置、及第2筒状部322包围基板W之位置停止。

6. 发明专利

TWI680500B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI680500B
公开(公告)日：2019-12-21
申请号：TW107117231
申请日：2018-05-21
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：古川正晃 , FURUKAWA, MASAAKI , 津田祥太郎 , TSUDA, SHOTARO , 西田崇之 , NISHIDA, TAKAYUKI
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/683 , H01L21/306

7. 发明专利

TW201836001A 基板處理裝置、基板處理方法以及程式記錄媒體审中-公开
简体标题：基板处理设备、基板处理方法以及进程记录媒体
公开(公告)号：TW201836001A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW107107471
申请日：2018-03-06
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：西田崇之 , NISHIDA, TAKAYUKI , 石井淳一 , ISHII, JUNICHI
IPC分类号： H01L21/304
摘要：本發明的基板處理裝置進行基板的毛刷清洗。基板處理裝置具備：自旋底座，以可繞旋轉軸線旋轉的方式設置；自旋底座旋轉機構，使所述自旋底座旋轉；以及多個第一夾盤銷，可切換開狀態與閉狀態，以於閉狀態下可將基板的端部自側面夾持的方式構成，且設於所述自旋底座。所述多個第一夾盤銷各自是以於夾持所述基板的端部的閉狀態下，其上表面成為與所述基板的上表面相同或較所述基板的上表面低的高度的方式而構成。
简体摘要：本发明的基板处理设备进行基板的毛刷清洗。基板处理设备具备：自旋底座，以可绕旋转轴线旋转的方式设置；自旋底座旋转机构，使所述自旋底座旋转；以及多个第一夹盘销，可切换开状态与闭状态，以于闭状态下可将基板的端部自侧面夹持的方式构成，且设于所述自旋底座。所述多个第一夹盘销各自是以于夹持所述基板的端部的闭状态下，其上表面成为与所述基板的上表面相同或较所述基板的上表面低的高度的方式而构成。

8. 发明专利

TWI524400B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI524400B
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW103141847
申请日：2014-12-02
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：西田崇之 , NISHIDA, TAKAYUKI , 橋詰彰夫 , HASHIZUME, AKIO , 石井淳一 , ISHII, JUNICHI
IPC分类号： H01L21/30
CPC分类号： B08B1/04 , H01L21/67046 , H01L21/67051

9. 发明专利

TW201535490A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201535490A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：TW103141847
申请日：2014-12-02
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：西田崇之 , NISHIDA, TAKAYUKI , 橋詰彰夫 , HASHIZUME, AKIO , 石井淳一 , ISHII, JUNICHI
IPC分类号： H01L21/30
CPC分类号： B08B1/04 , H01L21/67046 , H01L21/67051
摘要：本發明之基板處理方法係抑制處理液向基板上表面中之除上表面周緣部以外之非處理區域的附著。基板處理裝置包括：基板旋轉機構；噴出部，其對基板之上表面周緣部噴出處理液；移動部，其使噴出部移動；及控制部，其對噴出部及移動部進行控制。控制部係以如下方式控制噴出部及移動部，即，使噴出部一面於基板之上方之第1位置開始處理液之噴出而噴出處理液，一面向較第1位置更接近基板之旋轉軸之第2位置移動，且於第2位置繼續進行處理液之噴出。第1位置係噴出部之流路之剖面沿流路之軸方向投影至上表面周緣部的旋轉軌跡之第1區域之噴出部之位置，第2位置係流路之剖面沿流路之軸方向投影至旋轉軌跡之第2區域的噴出部之位置。第1區域係較第2區域更靠基板之周緣側之區域。
简体摘要：本发明之基板处理方法系抑制处理液向基板上表面中之除上表面周缘部以外之非处理区域的附着。基板处理设备包括：基板旋转机构；喷出部，其对基板之上表面周缘部喷出处理液；移动部，其使喷出部移动；及控制部，其对喷出部及移动部进行控制。控制部系以如下方式控制喷出部及移动部，即，使喷出部一面于基板之上方之第1位置开始处理液之喷出而喷出处理液，一面向较第1位置更接近基板之旋转轴之第2位置移动，且于第2位置继续进行处理液之喷出。第1位置系喷出部之流路之剖面沿流路之轴方向投影至上表面周缘部的旋转轨迹之第1区域之喷出部之位置，第2位置系流路之剖面沿流路之轴方向投影至旋转轨迹之第2区域的喷出部之位置。第1区域系较第2区域更靠基板之周缘侧之区域。

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