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1. 发明专利

TW201843537A 曝光裝置、曝光方法、以及元件製造方法审中-公开
简体标题：曝光设备、曝光方法、以及组件制造方法
公开(公告)号：TW201843537A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107129980
申请日：2008-07-17
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：荒井大 , ARAI, DAI
IPC分类号： G03F7/20
摘要：係一能減低周圍氣體之折射率變動的影響、以提高載台之定位精度等的曝光裝置。一種曝光裝置，係透過投影光學系統(PL)對晶圓載台(WST)上之晶圓(W)照射曝光用照明光，而於晶圓(W)形成既定圖案，其具備：設於晶圓載台(WST)之標尺；用以檢測該標尺之位置資訊的複數個X讀頭(66)；一體支撐複數個X讀頭(66)，且線膨脹係數較晶圓載台(WST)之本體部(形成有標尺之板體(28)以外的部分)小之測量框架(21)；從複數個X讀頭(66)之檢測結果求出晶圓載台(WST)之位移資訊的控制裝置。
简体摘要：系一能减低周围气体之折射率变动的影响、以提高载台之定位精度等的曝光设备。一种曝光设备，系透过投影光学系统(PL)对晶圆载台(WST)上之晶圆(W)照射曝光用照明光，而于晶圆(W)形成既定图案，其具备：设于晶圆载台(WST)之标尺；用以检测该标尺之位置信息的复数个X读头(66)；一体支撑复数个X读头(66)，且线膨胀系数较晶圆载台(WST)之本体部(形成有标尺之板体(28)以外的部分)小之测量框架(21)；从复数个X读头(66)之检测结果求出晶圆载台(WST)之位移信息的控制设备。

2. 发明专利

TW201839806A 液體回收裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法审中-公开
简体标题：液体回收设备、曝光设备、曝光方法以及组件制造方法
公开(公告)号：TW201839806A
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW107124132
申请日：2004-08-27
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：原英明 , HARA, HIDEAKI , 高岩宏明 , TAKAIWA, HIROAKI , 荒井大 , ARAI, DAI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/26
摘要：本發明提供一種曝光裝置，其在發生停電等之異常情形時，亦能抑制液體流出至基板外側。曝光裝置EX，係在投影光學系統PL與基板P間之充滿液體1，透過投影光學系統PL與液體1將圖案像投影至基板P上來使基板P曝光。曝光裝置EX，包含：具有以商用電源100所供應之電力來驅動之驅動部的液體回收機構20,60、與不同於商用電源100的不斷電電源102，在商用電源100之停電時，對驅動部之電力供應即切換為以不斷電電源102來進行。
简体摘要：本发明提供一种曝光设备，其在发生停电等之异常情形时，亦能抑制液体流出至基板外侧。曝光设备EX，系在投影光学系统PL与基板P间之充满液体1，透过投影光学系统PL与液体1将图案像投影至基板P上来使基板P曝光。曝光设备EX，包含：具有以商用电源100所供应之电力来驱动之驱动部的液体回收机构20,60、与不同于商用电源100的不断电电源102，在商用电源100之停电时，对驱动部之电力供应即切换为以不断电电源102来进行。

3. 发明专利

TWI641924B 液浸曝光裝置、液浸曝光方法、以及元件製造方法有权
简体标题：液浸曝光设备、液浸曝光方法、以及组件制造方法
公开(公告)号：TWI641924B
公开(公告)日：2018-11-21
申请号：TW106139946
申请日：2008-07-17
申请人：日商尼康股份有限公司
发明人：荒井大 , ARAI, DAI
IPC分类号： G03F7/20

4. 发明专利

TWI610148B 曝光裝置、曝光方法、以及元件製造方法有权
简体标题：曝光设备、曝光方法、以及组件制造方法
公开(公告)号：TWI610148B
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW106106920
申请日：2008-07-17
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：荒井大 , ARAI, DAI
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/7015 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70858 , G03F7/709 , Y10T29/49002

5. 发明专利

TWI579655B 曝光裝置、曝光方法、以及元件製造方法有权
简体标题：曝光设备、曝光方法、以及组件制造方法
公开(公告)号：TWI579655B
公开(公告)日：2017-04-21
申请号：TW104119736
申请日：2008-07-17
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：荒井大 , ARAI, DAI
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/7015 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70858 , G03F7/709 , Y10T29/49002

6. 发明专利

TW201346458A 曝光裝置、曝光方法、以及元件製造方法审中-公开
简体标题：曝光设备、曝光方法、以及组件制造方法
公开(公告)号：TW201346458A
公开(公告)日：2013-11-16
申请号：TW102125706
申请日：2008-07-17
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：荒井大 , ARAI, DAI
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/68
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/7015 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70858 , G03F7/709 , Y10T29/49002
摘要：係一能減低周圍氣體之折射率變動的影響、以提高載台之定位精度等的曝光裝置。一種曝光裝置，係透過投影光學系統(PL)對晶圓載台(WST)上之晶圓(W)照射曝光用照明光，而於晶圓(W)形成既定圖案，其具備：設於晶圓載台(WST)之標尺；用以檢測該標尺之位置資訊的複數個X讀頭(66)；一體支撐複數個X讀頭(66)，且線膨脹係數較晶圓載台(WST)之本體部(形成有標尺之板體(28)以外的部分)小之測量框架(21)；從複數個X讀頭(66)之檢測結果求出晶圓載台(WST)之位移資訊的控制裝置。
简体摘要：系一能减低周围气体之折射率变动的影响、以提高载台之定位精度等的曝光设备。一种曝光设备，系透过投影光学系统(PL)对晶圆载台(WST)上之晶圆(W)照射曝光用照明光，而于晶圆(W)形成既定图案，其具备：设于晶圆载台(WST)之标尺；用以检测该标尺之位置信息的复数个X读头(66)；一体支撑复数个X读头(66)，且线膨胀系数较晶圆载台(WST)之本体部(形成有标尺之板体(28)以外的部分)小之测量框架(21)；从复数个X读头(66)之检测结果求出晶圆载台(WST)之位移信息的控制设备。

7. 发明专利

TW201535073A 曝光裝置、曝光方法、以及元件製造方法审中-公开
简体标题：曝光设备、曝光方法、以及组件制造方法
公开(公告)号：TW201535073A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：TW104119736
申请日：2008-07-17
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：荒井大 , ARAI, DAI
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/7015 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70858 , G03F7/709 , Y10T29/49002
摘要：係一能減低周圍氣體之折射率變動的影響、以提高載台之定位精度等的曝光裝置。一種曝光裝置，係透過投影光學系統(PL)對晶圓載台(WST)上之晶圓(W)照射曝光用照明光，而於晶圓(W)形成既定圖案，其具備：設於晶圓載台(WST)之標尺；用以檢測該標尺之位置資訊的複數個X讀頭(66)；一體支撐複數個X讀頭(66)，且線膨脹係數較晶圓載台(WST)之本體部(形成有標尺之板體(28)以外的部分)小之測量框架(21)；從複數個X讀頭(66)之檢測結果求出晶圓載台(WST)之位移資訊的控制裝置。
简体摘要：系一能减低周围气体之折射率变动的影响、以提高载台之定位精度等的曝光设备。一种曝光设备，系透过投影光学系统(PL)对晶圆载台(WST)上之晶圆(W)照射曝光用照明光，而于晶圆(W)形成既定图案，其具备：设于晶圆载台(WST)之标尺；用以检测该标尺之位置信息的复数个X读头(66)；一体支撑复数个X读头(66)，且线膨胀系数较晶圆载台(WST)之本体部(形成有标尺之板体(28)以外的部分)小之测量框架(21)；从复数个X读头(66)之检测结果求出晶圆载台(WST)之位移信息的控制设备。

8. 发明专利

TWI424464B 液體回收裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法有权
简体标题：液体回收设备、曝光设备、曝光方法以及组件制造方法
公开(公告)号：TWI424464B
公开(公告)日：2014-01-21
申请号：TW093125799
申请日：2004-08-27
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：原英明 , HARA, HIDEAKI , 高岩宏明 , 荒井大 , ARAI, DAI
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/2041 , G03F7/70533 , G03F7/70866 , G03F7/70933 , G03F7/70991

9. 发明专利

TW201809912A 曝光裝置、曝光方法、以及元件製造方法审中-公开
简体标题：曝光设备、曝光方法、以及组件制造方法
公开(公告)号：TW201809912A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106139946
申请日：2008-07-17
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：荒井大 , ARAI, DAI
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/7015 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70858 , G03F7/709 , Y10T29/49002
摘要：係一能減低周圍氣體之折射率變動的影響、以提高載台之定位精度等的曝光裝置。一種曝光裝置，係透過投影光學系統(PL)對晶圓載台(WST)上之晶圓(W)照射曝光用照明光，而於晶圓(W)形成既定圖案，其具備：設於晶圓載台(WST)之標尺；用以檢測該標尺之位置資訊的複數個X讀頭(66)；一體支撐複數個X讀頭(66)，且線膨脹係數較晶圓載台(WST)之本體部(形成有標尺之板體(28)以外的部分)小之測量框架(21)；從複數個X讀頭(66)之檢測結果求出晶圓載台(WST)之位移資訊的控制裝置。
简体摘要：系一能减低周围气体之折射率变动的影响、以提高载台之定位精度等的曝光设备。一种曝光设备，系透过投影光学系统(PL)对晶圆载台(WST)上之晶圆(W)照射曝光用照明光，而于晶圆(W)形成既定图案，其具备：设于晶圆载台(WST)之标尺；用以检测该标尺之位置信息的复数个X读头(66)；一体支撑复数个X读头(66)，且线膨胀系数较晶圆载台(WST)之本体部(形成有标尺之板体(28)以外的部分)小之测量框架(21)；从复数个X读头(66)之检测结果求出晶圆载台(WST)之位移信息的控制设备。

10. 发明专利

TWI497218B 測量方法、載台裝置、及曝光裝置有权
简体标题：测量方法、载台设备、及曝光设备
公开(公告)号：TWI497218B
公开(公告)日：2015-08-21
申请号：TW097127126
申请日：2008-07-17
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：荒井大 , ARAI, DAI
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/68
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/7015 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70858 , G03F7/709 , Y10T29/49002

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