专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI641480B 積層體、有機半導體製造用套組及有機半導體膜之圖案化方法有权
简体标题：积层体、有机半导体制造用套组及有机半导体膜之图案化方法
公开(公告)号：TWI641480B
公开(公告)日：2018-11-21
申请号：TW103136951
申请日：2014-10-27
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：小山一郎 , KOYAMA, ICHIRO , 岩井悠 , IWAI, YU , 水谷一良 , MIZUTANI, KAZUYOSHI , 加持義貴 , KAMOCHI, YOSHITAKA
IPC分类号： B32B27/00 , B32B27/18 , B32B27/30 , G03F7/004 , H01L51/00

2. 发明专利

TWI650232B 積層體、有機半導體製造用套組及組成物用於形成有機半導體製造用光阻之用途有权
简体标题：积层体、有机半导体制造用套组及组成物用于形成有机半导体制造用光阻之用途
公开(公告)号：TWI650232B
公开(公告)日：2019-02-11
申请号：TW103136996
申请日：2014-10-27
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：岩井悠 , IWAI, YU , 小山一郎 , KOYAMA, ICHIRO , 加持義貴 , KAMOCHI, YOSHITAKA , 水谷一良 , MIZUTANI, KAZUYOSHI
IPC分类号： B32B27/00 , B32B27/30 , G03F7/031 , G03F7/11 , H01L21/027

3. 发明专利

TW201619221A 圖案形成方法、電子元件的製造方法、電子元件、嵌段共聚合物及嵌段共聚合物的製造方法审中-公开
简体标题：图案形成方法、电子组件的制造方法、电子组件、嵌段共聚合物及嵌段共聚合物的制造方法
公开(公告)号：TW201619221A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW104130359
申请日：2015-09-15
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：吉田隼人 , YOSHIDA, HAYATO , 木村桂三 , KIMURA, KEIZO , 水谷一良 , MIZUTANI, KAZUYOSHI
IPC分类号： C08F297/00 , C08F212/02 , C08F236/04 , C08F220/10 , C08G77/442 , H01L21/312 , H01L21/3105
CPC分类号： G03F7/40 , H01L21/027
摘要：本發明提供一種圖案形成方法、使用該圖案形成方法的電子元件的製造方法及電子元件、以及用於該圖案形成方法的嵌段共聚合物及其製造方法，所述圖案形成方法包括：（i）於形成有引導圖案的基板上，形成含有具有由通式（I-1）～通式（I-3）的任一者所表示的重複單元的嵌段、及由通式（II）所表示的重複單元的嵌段的嵌段共聚合物的嵌段共聚合物層的步驟；（ii）使嵌段共聚合物層進行相分離的步驟；以及（iii）選擇性地去除嵌段共聚合物層中的多個相中的至少一個相的步驟；藉由所述圖案形成方法，可於使用製圖磊晶法的自我組織化微影中，高品質地達成圖案的高微細化。 [化1]通式（I-1）中，R1 表示烷基、烯基、炔基、環烷基、芳基或芳烷基，R1 可與鄰接於所鍵結的碳原子的碳原子進行鍵結，並與苯環進行縮環。通式（I-2）中，R2 表示氫原子、烷基、環烷基或芳基。通式（I-3）中，R3 及R4 分別獨立地表示烷基或芳基。通式（II）中，R5 表示氫原子、烷基或環烷基。R6 表示具有下述（a）～下述（e）中的至少一種的烷基或環烷基。（a）2個以上的羥基（b）胺基（c）羧基（d）硫醇基（e）磺酸基
简体摘要：本发明提供一种图案形成方法、使用该图案形成方法的电子组件的制造方法及电子组件、以及用于该图案形成方法的嵌段共聚合物及其制造方法，所述图案形成方法包括：（i）于形成有引导图案的基板上，形成含有具有由通式（I-1）～通式（I-3）的任一者所表示的重复单元的嵌段、及由通式（II）所表示的重复单元的嵌段的嵌段共聚合物的嵌段共聚合物层的步骤；（ii）使嵌段共聚合物层进行相分离的步骤；以及（iii）选择性地去除嵌段共聚合物层中的多个相中的至少一个相的步骤；借由所述图案形成方法，可于使用制图磊晶法的自我组织化微影中，高品质地达成图案的高微细化。 [化1]通式（I-1）中，R1 表示烷基、烯基、炔基、环烷基、芳基或芳烷基，R1 可与邻接于所键结的碳原子的碳原子进行键结，并与苯环进行缩环。通式（I-2）中，R2 表示氢原子、烷基、环烷基或芳基。通式（I-3）中，R3 及R4 分别独立地表示烷基或芳基。通式（II）中，R5 表示氢原子、烷基或环烷基。R6 表示具有下述（a）～下述（e）中的至少一种的烷基或环烷基。（a）2个以上的羟基（b）胺基（c）羧基（d）硫醇基（e）磺酸基

4. 发明专利

TWI475323B 正型光阻組成物及使用它之圖案形成方法有权
简体标题：正型光阻组成物及使用它之图案形成方法
公开(公告)号：TWI475323B
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW096108545
申请日：2007-03-13
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：水谷一良 , MIZUTANI, KAZUYOSHI , 岩戶薰 , IWATO, KAORU , 兒玉邦彥 , KODAMA, KUNIHIKO , 牧野雅臣 , MAKINO, MASAOMI , 土橋徹 , TSUCHIHASHI, TORU
IPC分类号： G03F7/039 , H01L21/027 , C08F20/12 , C08F12/14
CPC分类号： G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/111

5. 发明专利

TW201428046A 圖案形成用自我組織化組成物、使用其的藉由嵌段共聚物的自我組織化的圖案形成方法以及圖案、以及電子裝置及其製造方法审中-公开
简体标题：图案形成用自我组织化组成物、使用其的借由嵌段共聚物的自我组织化的图案形成方法以及图案、以及电子设备及其制造方法
公开(公告)号：TW201428046A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：TW102134899
申请日：2013-09-27
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：水谷一良 , MIZUTANI, KAZUYOSHI , 山中司 , YAMANAKA, TSUKASA
IPC分类号： C08L53/00 , C08F293/00 , B82Y40/00 , H01L21/027
CPC分类号： C09D153/00 , B05D1/005 , B05D3/0254 , B05D3/107 , B82Y40/00 , C08F293/00 , C08L53/00 , G03F7/0002 , Y10T428/24479
摘要：本發明提供在使用嵌段共聚物的自我組織化微影術中，可顯著地縮短微相分離所需要的退火時間，並使圖案形成的產量提升的圖案形成用自我組織化組成物、使用此組成物的藉由嵌段共聚物的自我組織化的圖案形成方法以及圖案。一種圖案形成用自我組織化組成物，包括嵌段共聚物以及有機溶劑，此嵌段共聚物含有具有下述通式(1)所表示的重複單位的嵌段。上述通式(1)中，X表示烷基或環烷基。n表示1~5的整數，在n為2以上的情形時，X可為相同亦可為不同。
简体摘要：本发明提供在使用嵌段共聚物的自我组织化微影术中，可显着地缩短微相分离所需要的退火时间，并使图案形成的产量提升的图案形成用自我组织化组成物、使用此组成物的借由嵌段共聚物的自我组织化的图案形成方法以及图案。一种图案形成用自我组织化组成物，包括嵌段共聚物以及有机溶剂，此嵌段共聚物含有具有下述通式(1)所表示的重复单位的嵌段。上述通式(1)中，X表示烷基或环烷基。n表示1~5的整数，在n为2以上的情形时，X可为相同亦可为不同。

6. 发明专利

TWI392969B 正型光阻組成物及使用它之圖案形成方法失效
简体标题：正型光阻组成物及使用它之图案形成方法
公开(公告)号：TWI392969B
公开(公告)日：2013-04-11
申请号：TW095109383
申请日：2006-03-20
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：平野修史 , HIRANO, SHUJI , 水谷一良 , MIZUTANI, KAZUYOSHI
IPC分类号： G03F7/039 , H01L21/268 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0046 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111

7. 发明专利

TWI626510B 積層體、有機半導體製造用套組及有機半導體製造用光阻組成物有权
简体标题：积层体、有机半导体制造用套组及有机半导体制造用光阻组成物
公开(公告)号：TWI626510B
公开(公告)日：2018-06-11
申请号：TW103136950
申请日：2014-10-27
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：岩井悠 , IWAI, YU , 小山一郎 , KOYAMA, ICHIRO , 加持義貴 , KAMOCHI, YOSHITAKA , 水谷一良 , MIZUTANI, KAZUYOSHI , 吉田昌史 , YOSHIDA, MASAFUMI
IPC分类号： G03F7/038

8. 发明专利

TWI555788B 圖案形成用自我組織化組成物、使用其的藉由嵌段共聚物的自我組織化的圖案形成方法以及圖案、以及電子裝置及其製造方法有权
简体标题：图案形成用自我组织化组成物、使用其的借由嵌段共聚物的自我组织化的图案形成方法以及图案、以及电子设备及其制造方法
公开(公告)号：TWI555788B
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW102134899
申请日：2013-09-27
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：水谷一良 , MIZUTANI, KAZUYOSHI , 山中司 , YAMANAKA, TSUKASA
IPC分类号： C08L53/00 , C08F293/00 , B82Y40/00 , H01L21/027
CPC分类号： C09D153/00 , B05D1/005 , B05D3/0254 , B05D3/107 , B82Y40/00 , C08F293/00 , C08L53/00 , G03F7/0002 , Y10T428/24479

9. 发明专利

TW201523136A 積層體、有機半導體製造用套組及有機半導體製造用光阻組成物审中-公开
简体标题：积层体、有机半导体制造用套组及有机半导体制造用光阻组成物
公开(公告)号：TW201523136A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103136994
申请日：2014-10-27
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：水谷一良 , MIZUTANI, KAZUYOSHI , 岩井悠 , IWAI, YU , 小山一郎 , KOYAMA, ICHIRO , 加持義貴 , KAMOCHI, YOSHITAKA
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/09 , B32B27/06 , B32B27/18
CPC分类号： H01L51/5253 , B32B27/08 , B32B2307/4026 , B32B2307/54 , B32B2457/00 , B32B2457/14 , G03F7/0045 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/325 , H01L51/4253 , H01L51/448 , Y02E10/549 , Y02P70/521
摘要：本發明係提供一種可形成良好的有機半導體圖案之積層體及用以製造該積層體之有機半導體製造用套組、以及用於有機半導體製造用套組之有機半導體製造用光阻組成物。本發明為一種積層體，其具有有機半導體膜、該有機半導體膜上之保護膜、以及該保護膜上之光阻膜，該光阻膜包含感光性樹脂組成物，該感光性樹脂組成物含有生成酸的pKa為-1以下之產生有機酸的光酸產生劑(A)、以及與自該光酸產生劑產生的酸反應而對於含有有機溶劑的顯影液之溶解速度減少的樹脂(B)。
简体摘要：本发明系提供一种可形成良好的有机半导体图案之积层体及用以制造该积层体之有机半导体制造用套组、以及用于有机半导体制造用套组之有机半导体制造用光阻组成物。本发明为一种积层体，其具有有机半导体膜、该有机半导体膜上之保护膜、以及该保护膜上之光阻膜，该光阻膜包含感光性树脂组成物，该感光性树脂组成物含有生成酸的pKa为-1以下之产生有机酸的光酸产生剂(A)、以及与自该光酸产生剂产生的酸反应而对于含有有机溶剂的显影液之溶解速度减少的树脂(B)。

10. 发明专利

TWI446112B 圖案形成方法、用於該圖案形成方法之光阻組成物、用於該圖案形成方法之負型顯影液、及用於該圖案形成方法之負型顯影液用洗滌液有权
简体标题：图案形成方法、用于该图案形成方法之光阻组成物、用于该图案形成方法之负型显影液、及用于该图案形成方法之负型显影液用洗涤液
公开(公告)号：TWI446112B
公开(公告)日：2014-07-21
申请号：TW097113178
申请日：2008-04-11
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：椿英明 , TSUBAKI, HIDEAKI , 樽谷晉司 , TARUTANI, SHINJI , 水谷一良 , MIZUTANI, KAZUYOSHI , 和田健二 , WADA, KENJI , 星野涉 , HOSHINO, WATARU
IPC分类号： G03F7/038

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式