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1. 发明专利

TW202017915A 新穎烯丙基化合物及光學材料組成物审中-公开
简体标题：新颖烯丙基化合物及光学材料组成物
公开(公告)号：TW202017915A
公开(公告)日：2020-05-16
申请号：TW108127324
申请日：2019-08-01
申请人：日商三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：竹村紘平 , TAKEMURA, KOUHEI , 堀越裕 , HORIKOSHI, HIROSHI
IPC分类号： C07D331/02 , C08F28/04 , C08G75/08 , G02B1/04 , G02B3/00
摘要：藉由本發明，可提供一種下述式(1)所表示的化合物及包含此的光學材料用組成物。 (式中，m+n=4,m為表示0至3的整數，n為表示1至4的整數)。更，藉由本發明，可提供一種光學材料之製造方法，其包含下述之步驟：相對於上述光學材料用組成物100質量份添加0.0001質量份~10質量份的聚合觸媒，來進行聚合硬化之步驟。
简体摘要：借由本发明，可提供一种下述式(1)所表示的化合物及包含此的光学材料用组成物。 (式中，m+n=4,m为表示0至3的整数，n为表示1至4的整数)。更，借由本发明，可提供一种光学材料之制造方法，其包含下述之步骤：相对于上述光学材料用组成物100质量份添加0.0001质量份~10质量份的聚合触媒，来进行聚合硬化之步骤。

2. 发明专利

TW201840654A 光學材料用組成物审中-公开
简体标题：光学材料用组成物
公开(公告)号：TW201840654A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107104887
申请日：2018-02-12
申请人：日商三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：西森慶彦 , NISHIMORI, YOSHIHIKO , 今川陽介 , IMAGAWA, YOSUKE , 竹村紘平 , TAKEMURA, KOUHEI , 堀越裕 , HORIKOSHI, HIROSHI , 山本良亮 , YAMAMOTO, YOSHIAKI
IPC分类号： C08G75/08 , C08G75/04 , G02B1/04
摘要：提供可設計具備廣泛之物性的光學材料之光學材料用組成物。本發明之光學材料用組成物，為一種光學材料用組成物，其含有下述式(1)表示之化合物(A)及聚硫醇(a)，不含有1,2,3,5,6-五硫雜環庚烷(b)。
简体摘要：提供可设计具备广泛之物性的光学材料之光学材料用组成物。本发明之光学材料用组成物，为一种光学材料用组成物，其含有下述式(1)表示之化合物(A)及聚硫醇(a)，不含有1,2,3,5,6-五硫杂环庚烷(b)。

3. 发明专利

TW202010743A 環硫化合物及光學材料用組成物审中-公开
简体标题：环硫化合物及光学材料用组成物
公开(公告)号：TW202010743A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108122277
申请日：2019-06-26
申请人：日商三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：竹村紘平 , TAKEMURA, KOUHEI , 今川陽介 , IMAGAWA, YOUSUKE , 堀越裕 , HORIKOSHI, HIROSHI
IPC分类号： C07D409/14 , C07D331/02 , C08G75/08 , G02B1/04 , G02B3/00
摘要：提供一種可得到光學材料之光學材料用組成物，該光學材料可提升產生聚合效果時之良好離型性、剝離防止性、透明性、程度低的紋路中之至少一種。其係包含下述式(1)所表示的化合物，以及式(1)所表示的化合物與下述式(2)所表示的化合物之光學材料用組成物。 (惟，X1、X2表示O或S， X1及X2為O，或X1為O、X2為S)。
简体摘要：提供一种可得到光学材料之光学材料用组成物，该光学材料可提升产生聚合效果时之良好离型性、剥离防止性、透明性、程度低的纹路中之至少一种。其系包含下述式(1)所表示的化合物，以及式(1)所表示的化合物与下述式(2)所表示的化合物之光学材料用组成物。 (惟，X1、X2表示O或S， X1及X2为O，或X1为O、X2为S)。

4. 发明专利

TW201840672A 光學材料用組成物审中-公开
简体标题：光学材料用组成物
公开(公告)号：TW201840672A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107107991
申请日：2018-03-09
申请人：日商三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：仮屋薗和貴 , KARIYAZONO, KAZUKI , 青木崇 , AOKI, TAKASHI , 竹村紘平 , TAKEMURA, KOUHEI , 古川喜久夫 , FURUKAWA, KIKUO
IPC分类号： C08K5/03 , C08G18/38 , G02B1/04
摘要：本發明提供一種光學材料，其係於環硫化物化合物中添加硫醇化合物與異氫酸酯化合物之組成物中適當控制聚合速度，且透明性高。本發明之光學材料用組成物含有環硫化物化合物(a)、硫醇化合物(b)、異氰酸酯化合物(c)及下述式(1)所示之鹵化苄基化合物(d)，(X表示鹵素；L係由氫原子、甲基、鹵素、巰基甲基及異氰酸酯甲基所成之群選出者；n表示1或2)。
简体摘要：本发明提供一种光学材料，其系于环硫化物化合物中添加硫醇化合物与异氢酸酯化合物之组成物中适当控制聚合速度，且透明性高。本发明之光学材料用组成物含有环硫化物化合物(a)、硫醇化合物(b)、异氰酸酯化合物(c)及下述式(1)所示之卤化苄基化合物(d)，(X表示卤素；L系由氢原子、甲基、卤素、巯基甲基及异氰酸酯甲基所成之群选出者；n表示1或2)。

5. 发明专利

TW201840653A 光學材料用組成物审中-公开
简体标题：光学材料用组成物
公开(公告)号：TW201840653A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107104862
申请日：2018-02-12
申请人：日商三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：西森慶彦 , NISHIMORI, YOSHIHIKO , 今川陽介 , IMAGAWA, YOSUKE , 竹村紘平 , TAKEMURA, KOUHEI , 堀越裕 , HORIKOSHI, HIROSHI , 山本良亮 , YAMAMOTO, YOSHIAKI
IPC分类号： C08G75/08 , C08G75/06 , C08G75/04 , G02B1/04
摘要：提供可設計具備廣泛之物性的光學材料之光學材料用組成物。本發明之光學材料用組成物，含有下述式(1)表示之化合物(A)、1,2,3,5,6-五硫雜環庚烷(b)，及依需要之下述式(2)表示之化合物(B)，化合物(B)之含量，相對於組成物總量而言，為0~30質量%。 (式中，m表示0~4之整數，n表示0~2之整數)。
简体摘要：提供可设计具备广泛之物性的光学材料之光学材料用组成物。本发明之光学材料用组成物，含有下述式(1)表示之化合物(A)、1,2,3,5,6-五硫杂环庚烷(b)，及依需要之下述式(2)表示之化合物(B)，化合物(B)之含量，相对于组成物总量而言，为0~30质量%。 (式中，m表示0~4之整数，n表示0~2之整数)。

6. 发明专利

TW201802068A 含有硫醇化合物之新穎光學材料用組成物审中-公开
简体标题：含有硫醇化合物之新颖光学材料用组成物
公开(公告)号：TW201802068A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106106671
申请日：2017-03-01
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：竹村紘平 , TAKEMURA, KOUHEI , 青木崇 , AOKI, TAKASHI
IPC分类号： C07C321/20 , C08K5/37 , C08L81/02 , G02B1/04 , G02B3/00
CPC分类号： C07C323/16 , C07C321/08 , C07D331/02 , C08G75/02 , C08G75/045 , C08G75/08 , C08G75/12 , C08L75/00 , G02B1/041 , C08L81/02
摘要：依據本發明，可提供一種聚硫醇組成物，其係含有式(1)所示之聚硫醇(A)及式(2)所示之硫醇化合物(B)。 (式中，p、q各自獨立地表示1~3之整數) (式中，p、q各自獨立地表示1~3之整數)。
简体摘要：依据本发明，可提供一种聚硫醇组成物，其系含有式(1)所示之聚硫醇(A)及式(2)所示之硫醇化合物(B)。 (式中，p、q各自独立地表示1~3之整数) (式中，p、q各自独立地表示1~3之整数)。

7. 发明专利

TW201602195A 光學材料用組成物及其製造方法以及由光學材料用組成物得到之光學材料审中-公开
简体标题：光学材料用组成物及其制造方法以及由光学材料用组成物得到之光学材料
公开(公告)号：TW201602195A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW104110691
申请日：2015-04-01
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：竹村紘平 , TAKEMURA, KOUHEI , 小西哲哉 , KONISHI, TETSUYA , 青木崇 , AOKI, TAKASHI , 堀越裕 , HORIKOSHI, HIROSHI
IPC分类号： C08K5/45 , C08J3/24 , G02B1/04
CPC分类号： C08G18/3874 , C07D331/02 , C08G18/168 , C08G18/3876 , C08G18/755 , C08G75/08 , C08G75/14 , G02B1/041
摘要：依照本發明，可提供一種光學材料用組成物，其特徵為含有丙酮濁度值為3.0ppm以下之環硫化合物。進一步地，依照本發明之較佳態樣，可提供一種光學材料用組成物，其含有：具有下述(1)式表示之構造，且丙酮濁度值為3.0ppm以下之(a)化合物(環硫化合物)、(b)聚異氰酸酯化合物、及(c)聚硫醇化合物。 (式中，m表示0~4之整數，n表示0或1之整數)。
简体摘要：依照本发明，可提供一种光学材料用组成物，其特征为含有丙酮浊度值为3.0ppm以下之环硫化合物。进一步地，依照本发明之较佳态样，可提供一种光学材料用组成物，其含有：具有下述(1)式表示之构造，且丙酮浊度值为3.0ppm以下之(a)化合物(环硫化合物)、(b)聚异氰酸酯化合物、及(c)聚硫醇化合物。 (式中，m表示0~4之整数，n表示0或1之整数)。

8. 发明专利

TWI577708B 光學材料用組成物以及其用途有权
简体标题：光学材料用组成物以及其用途
公开(公告)号：TWI577708B
公开(公告)日：2017-04-11
申请号：TW105106156
申请日：2016-03-01
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：竹村紘平 , TAKEMURA, KOUHEI , 青木崇 , AOKI, TAKASHI
IPC分类号： C08G18/38 , C08G75/08 , C08L81/02 , C08L75/04 , G02B1/04 , G02B3/00
CPC分类号： C08G75/08 , C08G18/38 , C08L81/00 , C08L81/02 , G02B1/04 , G02B1/041

9. 发明专利

TW201638134A 光學材料用組成物以及其用途审中-公开
简体标题：光学材料用组成物以及其用途
公开(公告)号：TW201638134A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW105106156
申请日：2016-03-01
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：竹村紘平 , TAKEMURA, KOUHEI , 青木崇 , AOKI, TAKASHI
IPC分类号： C08G18/38 , C08G75/08 , C08L81/02 , C08L75/04 , G02B1/04 , G02B3/00
CPC分类号： C08G75/08 , C08G18/38 , C08L81/00 , C08L81/02 , G02B1/04 , G02B1/041
摘要：本發明為提供一種光學材料用組成物，其係得到在聚合硬化時，具有較高的透明性、較低程度的擦痕、較優異的色調、較優異的耐光性等品質較優異之光學材料。本案能夠提供一種光學材料組成物，其係包含下述式(1)所表示之化合物與下述式(2)所表示之環硫化合物的組成物，且相對於式(1)所表示之化合物以及式(2)所表示之環硫化合物的總量，式(1)所表示之化合物的比例為0.001~5.0質量%，藉由此光學材料用組成物，在製造具有高折射率之光學材料時，能夠得到透明性、擦痕、色調、耐光性等品質優異的光學材料。 (式中，m表示0~4之整數，n表示0~2之整數)。
简体摘要：本发明为提供一种光学材料用组成物，其系得到在聚合硬化时，具有较高的透明性、较低程度的擦痕、较优异的色调、较优异的耐光性等品质较优异之光学材料。本案能够提供一种光学材料组成物，其系包含下述式(1)所表示之化合物与下述式(2)所表示之环硫化合物的组成物，且相对于式(1)所表示之化合物以及式(2)所表示之环硫化合物的总量，式(1)所表示之化合物的比例为0.001~5.0质量%，借由此光学材料用组成物，在制造具有高折射率之光学材料时，能够得到透明性、擦痕、色调、耐光性等品质优异的光学材料。 (式中，m表示0~4之整数，n表示0~2之整数)。

10. 发明专利

TW201400519A 光學材料之製造方法审中-公开
简体标题：光学材料之制造方法
公开(公告)号：TW201400519A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102107850
申请日：2013-03-06
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：竹村紘平 , TAKEMURA, KOUHEI , 岡田浩之 , OKADA, HIROYUKI , 堀越裕 , HORIKOSHI, HIROSHI
IPC分类号： C08G18/38
CPC分类号： G02B1/04 , C08G18/3855 , C08G18/3868 , C08G18/3874 , C08G18/3876 , C08G18/7642 , C08G75/08 , C08K5/053 , C08K5/3475 , G02B1/00 , C08L75/00
摘要：本發明提供一種調合方法，其係含有既定(a)化合物、(b)化合物、(c)化合物、(d)化合物、及(e)化合物之光學材料之製造方法，可抑制鏡片的脫模痕跡殘留的不良狀況發生。本發明藉由經過下述第1步驟至第5步驟來抑制脫模痕跡殘留的不良。第1步驟：使(b)化合物溶解在(a)化合物中，得到第1液之步驟。第2步驟：將(e)化合物添加至第1步驟所得到的第1液並使其混合，得到不含(d)化合物的第2液之步驟。第3步驟：將(c)化合物添加至第2步驟所得到的第2液，得到反應混合物之步驟。第4步驟：將(d)化合物添加至第3步驟所得到的前述反應混合物並使其混合，得到光學材料用樹脂組成物之步驟。第5步驟：澆鑄第4步驟所得到的光學材料用樹脂組成物並使其聚合，得到光學材料之步驟。
简体摘要：本发明提供一种调合方法，其系含有既定(a)化合物、(b)化合物、(c)化合物、(d)化合物、及(e)化合物之光学材料之制造方法，可抑制镜片的脱模痕迹残留的不良状况发生。本发明借由经过下述第1步骤至第5步骤来抑制脱模痕迹残留的不良。第1步骤：使(b)化合物溶解在(a)化合物中，得到第1液之步骤。第2步骤：将(e)化合物添加至第1步骤所得到的第1液并使其混合，得到不含(d)化合物的第2液之步骤。第3步骤：将(c)化合物添加至第2步骤所得到的第2液，得到反应混合物之步骤。第4步骤：将(d)化合物添加至第3步骤所得到的前述反应混合物并使其混合，得到光学材料用树脂组成物之步骤。第5步骤：浇铸第4步骤所得到的光学材料用树脂组成物并使其聚合，得到光学材料之步骤。

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