专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI489543B 基板處理方法及基板處理裝置有权
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TWI489543B
公开(公告)日：2015-06-21
申请号：TW100133573
申请日：2011-09-19
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：中村一樹 , NAKAMURA, KAZUKI
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/67028

2. 发明专利

TWI546881B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI546881B
公开(公告)日：2016-08-21
申请号：TW104126267
申请日：2015-08-12
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO,. LTD.
发明人：青松哲純 , AOMATSU, AKIYOSHI , 上前昭司 , UEMAE, SHOJI , 中村一樹 , NAKAMURA, KAZUKI , 和泉吉則 , IZUMI, YOSHINORI , 棚橋信貴 , TANAHASHI, NOBUTAKA
IPC分类号： H01L21/67 , B08B3/02
CPC分类号： H01L21/67051 , B08B3/022 , B08B3/041 , B08B3/08 , B08B9/28

3. 发明专利

TW201613016A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201613016A
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW104126267
申请日：2015-08-12
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO,. LTD.
发明人：青松哲純 , AOMATSU, AKIYOSHI , 上前昭司 , UEMAE, SHOJI , 中村一樹 , NAKAMURA, KAZUKI , 和泉吉則 , IZUMI, YOSHINORI , 棚橋信貴 , TANAHASHI, NOBUTAKA
IPC分类号： H01L21/67 , B08B3/02
CPC分类号： H01L21/67051 , B08B3/022 , B08B3/041 , B08B3/08 , B08B9/28
摘要：基板處理裝置係包含有：處理腔室；基板保持旋轉機構，係具有可繞著預定旋轉軸線旋轉的自轉基座，並一邊保持基板一邊使基板繞著前述旋轉軸線旋轉，且配置於前述處理腔室內；圓環狀的罩，係以圍繞前述基板保持旋轉機構的周圍之方式設置，用以儲留從藉由前述基板保持旋轉機構而旋轉之基板所排出的處理液；第一藥液供給單元，係用以將第一藥液供給至被前述基板保持旋轉機構保持的基板；第二藥液供給單元，係用以將與前述第一藥液不同種類的第二藥液供給至被前述基板保持旋轉機構保持的基板；洗淨液噴嘴，係具有洗淨液噴出口，用以朝屬於前述罩的內壁之罩內壁及/或屬於前述自轉基座的外周部的壁面之基座壁面噴出洗淨液；洗淨液供給單元，係用以將前述洗淨液供給至前述洗淨液噴嘴；旋轉處理控制單元，係控制前述第一藥液供給單元及前述第二藥液供給單元執行第一藥液供給步驟及第二藥液供給步驟，該第一藥液供給步驟係將第一藥液供給至藉由前述基板保持旋轉機構而旋轉的基板，該第二藥液供給步驟係在前述第一藥液供給步驟後將與前述第一藥液不同種類的第二藥液供給至藉由前述基板保持旋轉機構而旋轉的基板；以及洗淨控制單元，係控制前述洗淨液供給單元，在前述第一藥液供給步驟的結束後且在前述第二藥液供給步驟的開始前、以及/或者前述第二藥液供給步驟的執行中及/或執行後，從前述洗淨液噴出口噴出洗淨液，將洗淨液供給至前述罩內壁及/或前述基座壁面。
简体摘要：基板处理设备系包含有：处理腔室；基板保持旋转机构，系具有可绕着预定旋转轴线旋转的自转基座，并一边保持基板一边使基板绕着前述旋转轴线旋转，且配置于前述处理腔室内；圆环状的罩，系以围绕前述基板保持旋转机构的周围之方式设置，用以储留从借由前述基板保持旋转机构而旋转之基板所排出的处理液；第一药液供给单元，系用以将第一药液供给至被前述基板保持旋转机构保持的基板；第二药液供给单元，系用以将与前述第一药液不同种类的第二药液供给至被前述基板保持旋转机构保持的基板；洗净液喷嘴，系具有洗净液喷出口，用以朝属于前述罩的内壁之罩内壁及/或属于前述自转基座的外周部的壁面之基座壁面喷出洗净液；洗净液供给单元，系用以将前述洗净液供给至前述洗净液喷嘴；旋转处理控制单元，系控制前述第一药液供给单元及前述第二药液供给单元运行第一药液供给步骤及第二药液供给步骤，该第一药液供给步骤系将第一药液供给至借由前述基板保持旋转机构而旋转的基板，该第二药液供给步骤系在前述第一药液供给步骤后将与前述第一药液不同种类的第二药液供给至借由前述基板保持旋转机构而旋转的基板；以及洗净控制单元，系控制前述洗净液供给单元，在前述第一药液供给步骤的结束后且在前述第二药液供给步骤的开始前、以及/或者前述第二药液供给步骤的运行中及/或运行后，从前述洗净液喷出口喷出洗净液，将洗净液供给至前述罩内壁及/或前述基座壁面。

4. 发明专利

TW201709298A 基板處理方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW201709298A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105115043
申请日：2016-05-16
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO,. LTD.
发明人：中村一樹 , NAKAMURA, KAZUKI
IPC分类号： H01L21/30
CPC分类号： H01L21/304
摘要：本發明提供一種基板處理方法及基板處理裝置，其使刷子一邊接觸以第一轉速旋轉中的基板之上表面，一邊從中央位置移動至外周位置。藉此，能刷洗基板的平坦區域。之後，使刷子接觸以比第一轉速更小的第二轉速旋轉中的基板之斜面區域。藉此，能刷洗基板的斜面區域。之後，一邊使基板以比第二轉速更大的第三轉速來旋轉，一邊將刷子配置於重疊區域洗淨位置。藉此，能刷洗平坦區域及斜面區域的重疊區域。
简体摘要：本发明提供一种基板处理方法及基板处理设备，其使刷子一边接触以第一转速旋转中的基板之上表面，一边从中央位置移动至外周位置。借此，能刷洗基板的平坦区域。之后，使刷子接触以比第一转速更小的第二转速旋转中的基板之斜面区域。借此，能刷洗基板的斜面区域。之后，一边使基板以比第二转速更大的第三转速来旋转，一边将刷子配置于重叠区域洗净位置。借此，能刷洗平坦区域及斜面区域的重叠区域。

5. 发明专利

TWI596664B 基板處理方法有权
简体标题：基板处理方法
公开(公告)号：TWI596664B
公开(公告)日：2017-08-21
申请号：TW105115043
申请日：2016-05-16
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO,. LTD.
发明人：中村一樹 , NAKAMURA, KAZUKI
IPC分类号： H01L21/30
CPC分类号： H01L21/304

6. 发明专利

TW201843730A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201843730A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107113970
申请日：2018-04-25
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：中村一樹 , NAKAMURA, KAZUKI , 田中克典 , TANAKA, KATSUNORI , 野野村正浩 , NONOMURA, MASAHIRO
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/027 , H01L21/306
摘要：本發明之基板處理裝置具備控制機構，其於以處理部對基板之上表面進行處理之上表面處理時，操作旋轉驅動部而使基板以第1轉數旋轉並且自處理液供給部供給處理液，並操作第1控制閥而自氣體噴嘴以第1流量供給氣體，於上表面處理結束之後，使旋轉驅動部之轉數上升，於以第2轉數使基板旋轉而使基板乾燥之乾燥處理時，操作第1及第2控制閥而自氣體噴嘴以較第1流量大之流量供給氣體。
简体摘要：本发明之基板处理设备具备控制机构，其于以处理部对基板之上表面进行处理之上表面处理时，操作旋转驱动部而使基板以第1转数旋转并且自处理液供给部供给处理液，并操作第1控制阀而自气体喷嘴以第1流量供给气体，于上表面处理结束之后，使旋转驱动部之转数上升，于以第2转数使基板旋转而使基板干燥之干燥处理时，操作第1及第2控制阀而自气体喷嘴以较第1流量大之流量供给气体。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式