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1. 发明专利

TW201401329A 離子植入裝置及其控制方法审中-公开
简体标题：离子植入设备及其控制方法
公开(公告)号：TW201401329A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102110715
申请日：2013-03-26
申请人：斯伊恩股份有限公司 , SEN CORPORATION
发明人：狩谷宏行 , KARIYA, HIROYUKI , 石川雅基 , ISHIKAWA, MASAKI , 院田佳昭 , INDA, YOSHIAKI , 黑瀬猛 , KUROSE, TAKESHI , 八木田貴典 , YAGITA, TAKANORI , 弓山敏男 , YUMIYAMA, TOSHIO
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/147 , H01J37/304 , H01J2237/24521 , H01J2237/24535 , H01J2237/24542 , H01L21/265 , H01L21/67213
摘要：本發明提供一種離子植入裝置及其控制方法。藉由複數個固定式射束測定器以及移動式或固定式射束測定裝置測定離子束的垂直方向剖面、水平方向剖面及積分電流值。控制裝置在離子植入前的射束電流調整階段，依據前述固定式射束測定器以及移動式或固定式射束測定裝置的測量值，同時執行射束電流對該射束電流的預設值的調整、為了固定離子束的水平方向離子束密度的均勻性而所需之水平方向射束尺寸的調整以及為了固定垂直方向離子植入分佈的均勻性而所需之垂直方向射束尺寸的調整中的至少一方。
简体摘要：本发明提供一种离子植入设备及其控制方法。借由复数个固定式射束测定器以及移动式或固定式射束测定设备测定离子束的垂直方向剖面、水平方向剖面及积分电流值。控制设备在离子植入前的射束电流调整阶段，依据前述固定式射束测定器以及移动式或固定式射束测定设备的测量值，同时运行射束电流对该射束电流的默认值的调整、为了固定离子束的水平方向离子束密度的均匀性而所需之水平方向射束尺寸的调整以及为了固定垂直方向离子植入分布的均匀性而所需之垂直方向射束尺寸的调整中的至少一方。

2. 发明专利

TW201327639A 離子植入方法及離子植入裝置审中-公开
简体标题：离子植入方法及离子植入设备
公开(公告)号：TW201327639A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW101148073
申请日：2012-12-18
申请人：斯伊恩股份有限公司 , SEN CORPORATION
发明人：二宮史郎 , NINOMIYA, SHIRO , 岡本泰治 , OKAMOTO, YASUHARU , 石川雅基 , ISHIKAWA, MASAKI , 黑瀬猛 , KUROSE, TAKESHI , 越智昭浩 , OCHI, AKIHIRO
IPC分类号： H01L21/265
CPC分类号： H01L21/265 , H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/30477 , H01J2237/30488
摘要：本發明提供一種離子植入方法，其包括將離子作為離子束傳輸至晶圓，對該晶圓機械地進行晶圓慢速掃描，並且沿與晶圓慢速掃描方向垂直之方向，使該離子束進行射束快速掃描或使該晶圓機械地進行晶圓快速掃描，使用沿該晶圓慢速掃描方向的晶圓慢速掃描和沿與該晶圓慢速掃描方向垂直之方向的離子束的射束快速掃描或晶圓的晶圓快速掃描，以離子束照射該晶圓；在對該晶圓植入離子之前，測定離子束的2維截面射束形狀，並藉由利用該測定出之2維截面射束形狀，確定該離子束的植入及照射區域，以藉此規定該植入及照射區域。
简体摘要：本发明提供一种离子植入方法，其包括将离子作为离子束传输至晶圆，对该晶圆机械地进行晶圆慢速扫描，并且沿与晶圆慢速扫描方向垂直之方向，使该离子束进行射束快速扫描或使该晶圆机械地进行晶圆快速扫描，使用沿该晶圆慢速扫描方向的晶圆慢速扫描和沿与该晶圆慢速扫描方向垂直之方向的离子束的射束快速扫描或晶圆的晶圆快速扫描，以离子束照射该晶圆；在对该晶圆植入离子之前，测定离子束的2维截面射束形状，并借由利用该测定出之2维截面射束形状，确定该离子束的植入及照射区域，以借此规定该植入及照射区域。

3. 发明专利

TW201541504A 離子植入裝置及離子植入方法审中-公开
简体标题：离子植入设备及离子植入方法
公开(公告)号：TW201541504A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW104109747
申请日：2015-03-26
申请人：斯伊恩股份有限公司 , SEN CORPORATION
发明人：椛澤光昭 , KABASAWA, MITSUAKI , 石川雅基 , ISHIKAWA, MASAKI , 上野勇介 , UENO, YUSUKE
IPC分类号： H01L21/265
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/141 , H01J37/1471 , H01J37/1474 , H01J37/244 , H01J37/3045 , H01J2237/14 , H01J2237/15 , H01J2237/31701
摘要：本發明提供一種可減小向被處理物進行植入時的植入角度誤差之離子植入裝置及離子植入方法。離子植入裝置(100)的射束線部具備轉向電磁鐵(30)、射束掃描器(34)及射束平行化器(36)。射束線部包含離子束的基準軌道，z方向表示沿基準軌道之方向，x方向表示與z方向正交之一個方向。轉向電磁鐵(30)使離子束向x方向偏向。射束掃描器(34)藉由使離子束向x方向往複偏向，來掃描離子束。射束平行化器(36)具備平行化透鏡，該平行化透鏡構成為使經掃描之離子束與z方向平行，平行化透鏡在射束掃描器(34)的掃描原點處具有焦點。控制部(104)對轉向電磁鐵(30)中x方向的偏向角度進行補正，以使偏向之離子束的實際軌道在xz面上於掃描原點處與基準軌道交叉。
简体摘要：本发明提供一种可减小向被处理物进行植入时的植入角度误差之离子植入设备及离子植入方法。离子植入设备(100)的射束线部具备转向电磁铁(30)、射束扫描仪(34)及射束平行化器(36)。射束线部包含离子束的基准轨道，z方向表示沿基准轨道之方向，x方向表示与z方向正交之一个方向。转向电磁铁(30)使离子束向x方向偏向。射束扫描仪(34)借由使离子束向x方向往复偏向，来扫描离子束。射束平行化器(36)具备平行化透镜，该平行化透镜构成为使经扫描之离子束与z方向平行，平行化透镜在射束扫描仪(34)的扫描原点处具有焦点。控制部(104)对转向电磁铁(30)中x方向的偏向角度进行补正，以使偏向之离子束的实际轨道在xz面上于扫描原点处与基准轨道交叉。

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